137 Results For

"powder rare earth material"

جودة المعدن الواقي من الأشعة فوق البنفسجية CMP سلالة أكسيد السيريوم لطلاء الزجاج قبل الطلاء مصنع

المعدن الواقي من الأشعة فوق البنفسجية CMP سلالة أكسيد السيريوم لطلاء الزجاج قبل الطلاء

Cerium Oxide Slurry For Pre-coating Glass Polishing Description Lichen Cerium Oxide Slurry for Pre-Coating Glass Polishing is a high-performance, cerium oxide-based slurry designed specifically for pre-coating glass polishing. Ideal for use in the glass manufacturing and coating industries, this slurry ensures a smooth, defect-free surface that is essential for optimal adhesion and uniformity of glass coatings. Whether you are working with automotive glass, architectural

جودة سمك التلميع الكيميائي الميكانيكي على أساس الماء CeO2 لإزالة عيوب الزجاج مصنع

سمك التلميع الكيميائي الميكانيكي على أساس الماء CeO2 لإزالة عيوب الزجاج

Polishing Slurry For Float Glass Surface Defect RemovalDescriptionLichen Polishing Slurry for Float Glass Surface Defect Removal is a cerium oxide-based slurry specifically formulated to effectively remove surface defects from float glass. Whether addressing scratches, water spots, haze, or micro-defects, our slurry delivers superior material removal rates and enhances surface clarity, making it ideal for both manufacturing and post-production glass surface restoration

جودة ملاط نانو سيريا عالي النقاء لعمليات CMP (حجم جسيمات 200 نانومتر) مصمم لأشباه الموصلات مصنع

ملاط نانو سيريا عالي النقاء لعمليات CMP (حجم جسيمات 200 نانومتر) مصمم لأشباه الموصلات

High-purity Nano Ceria CMP Slurry (200nm Particle Size) Designed For Semiconductor Descripti on High-purity nano ceria CMP slurry (100nm particle size) designed for semiconductor and advanced surface finishing. Stable dispersion, high removal rate, and ultra-low surface defects. It is ideal for next-generation precision polishing processes demanding nanometer-level surface control. Key Features & Advantages Nano-Scale Precision Polishing The 100 nm ceria particles enable

جودة نانو سيريا سي ام بي سلورى مصنع

نانو سيريا سي ام بي سلورى

Nano Ceria CMP Slurry | Ultra-Fine Cerium Oxide Slurry For High-Precision Semiconductor & Optical Polishing Descripti on Nano Ceria CMP Slurry is a high-purity cerium oxide polishing slurry specifically developed for advanced Chemical Mechanical Planarization (CMP) applications requiring precise material removal and superior surface quality. Formulated with uniformly dispersed nano-scale ceria particles, the slurry delivers an optimal balance between chemical activity and

جودة سمك أكسيد السريوم عالي الأداء لبرمجة سطح العرض Cas 1306-38-3 مصنع

سمك أكسيد السريوم عالي الأداء لبرمجة سطح العرض Cas 1306-38-3

High-Performance Cerium Slurry for Display Surface Finishing Description Achieve uncompromising optical clarity with our Precision-Engineered Cerium Oxide (CeO₂) Slurries. Specifically formulated for the display market, our slurries provide the nanometer-level flatness and defect-free surfaces essential for high-resolution LCD, OLED, and MicroLED consumer electronics. By combining high-purity rare earth oxides with advanced chemical stabilizers, our product line ensures

السابقة التالي
السابقة
Page 12 من 12
التالي