CMP أوكسيد السيريوم على أساس مسحوق البوليسة الزجاجية للشاشة المسطحة ODM
تفاصيل المنتج
| حجم الجسيمات: | 1.0 ± 0.2 ميكرومتر | رقم كاس.: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO₂ %: | 63~68% | معدل التعليق: | عالي |
| نطاق الرقم الهيدروجيني: | 7-10 | صياغة: | حسب الطلب |
| إبراز |
مسحوق لمصق الزجاج على أساس السيريوم CMP,مسحوق لمصق الزجاج على أساس السيريوم ODM,مسحوق أكسيد السيريوم CMP للزجاج,ODM cerium based glass polishing powder,CMP cerium oxide powder for glass |
||
وصف المنتج
مسحوق التلميع للشاشة المسطحة التلميع
الوصف
تحسين إنتاج الزجاج في الصيغة الكبيرة لعام 2026 مع مسحوقات البوليسة عالية الكفاءة من أكسيد السيريوم (CeO2)هذه المسحوقات توفر مسطحة مستوى نانومتر والوضوح البصري المطلوبين للأسطح LCD و OLED من الجيل العالي.
صياغاتنا تستخدم تقنية التلميع الكيميائي الميكانيكي المتقدم لتوفير نظيفة للغايةإنهاء شبيه بالمرآة يضمن محاذاة مستوى الكريستال السائل المتساوي ووحدة بكسل عالية عبر مناطق السطح الواسعة.
خصائص أداء الصناعة
التسطيح الاستثنائي: مصمم خصيصًا لتحقيق خشونة سطحية أقل من نانومتر (Ra) على أوراق زجاجية كبيرة ، مما يمنع المورا في العرض النهائي.
معدلات إزالة المخزون العالية (MRR): تعظيم الإنتاج في خطوط إنتاج FPD ذات الحجم الكبير من خلال تسريع عملية إزالة المواد على كل من الزجاج القياسي والمقوي كيميائيا.
توزيع ضيق لحجم الجسيمات: يتم التحكم بدقة في D50 للقضاء على القيم الفارغة التي تسبب الخدوش الصغيرة والجحور السطحية.
محسّنة للأنظمة الآلية: تتميز مسحوقاتنا بالتكنولوجيا، مما يسمح بإعادة تعليقها بسهولة ومنع التعبئة الصعبة في الخزانات والأنابيب المتداولة.
البيانات التقنية
| الصيغة الجزيئية | رقم CAS | % CeO2 | D50 (μm) | مظهره | التطبيق |
| CeO2 | 1306-38-3 | 63~68 | 1.0±02 | مسحوق أبيض | شاشة عرض مسطحة |
توزيع حجم الجسيمات
أسئلة وأجوبة
1ما هو أوكسيد السيريوم مسحوق التلميع؟
الإجابة:
مسحوق التلميع أكسيد السيريوم هو مركب عالي النقاء يستخدم على نطاق واسع لتلميع المكونات الضوئية ، وشرائح أشباه الموصلات ، وغيرها من الأسطح الحساسة مثل الزجاج والعدسات.جزيئاتها الدقيقة وخصائصها الكيميائية الاستثنائية تجعلها مثالية لتحقيق مستويات عالية من الوضوح و السلاسة دون إتلاف السطح الذي يتم تلميعه.
2كيف أختار مسحوق طلاء أكسيد السيريوم المناسب لتطبيقي؟
اختيار مسحوق التلميع المناسب يعتمد على المادة التي تقوم بتلميعها والنهاية المرجوة. عوامل مثل حجم الجسيمات والنقاءوالمتطلبات المحددة لعملية التلميع الخاصة بك يجب أن توجه اختياركفريق المبيعات لدينا يمكن أن تساعدك في اختيار المنتج الأمثل لاحتياجاتك.
3كيف يجب عليّ تخزين مسحوق البولينج من أكسيد السيريوم؟
احفظ مسحوق البوليسة من أكسيد السيريوم في مكان بارد وجاف، بعيدا عن أشعة الشمس المباشرة والرطوبة.التخزين السليم يضمن أن المنتج يحافظ على جودته وفعاليته مع مرور الوقتعندما يتم تخزينها بشكل صحيح ، يحتوي مسحوق تلميع أكسيد السيريوم عادةً على مدة صلاحية تتراوح بين 1-2 سنوات.
4هل تقدمون صياغات مخصصة من أكسيد السيريوم؟
نعم، نحن نقدم مسحوقات صناعية من أكسيد السيريوم ومواد صناعية مصممة لتلبية متطلبات أداء محددة سواء كنت بحاجة إلى تعديلات في حجم الجسيمات،أو استمرارية السماد، يمكننا أن نخلق صياغة تناسب احتياجاتك
5هل يمكنني الحصول على عينة قبل أن أطلب بكميات كبيرة؟
نعم، نحن نقدم عينات من مسحوق كيريوم أوكسيد التلميع لدينا و السائل للتقييم. يرجى الاتصال بنا لطلب عينة، وفريقنا سوف ينظم الشحن.
6كيف يمكنني وضع طلب؟ ما هو وقت التسليم النموذجي لمنتجات أكسيد السيريوم؟
يمكنك أن تضع طلبًا عن طريق الاتصال بفريق المبيعات لدينا. سنوجهك خلال العملية، ونساعدك في اختيار المنتج، ونقدم لك اقتباسًا بناءً على احتياجاتك. سنقدم جدول توزيع متوقع بمجرد تأكيد الطلب. تعتمد أوقات التسليم على حجم الطلب والموقع وما إذا كان المنتج موجودًا في المخزون.
أبرز المنتجات
مسحوق التلميع للشاشة المسطحة التلميع الوصف تحسين إنتاج الزجاج في الصيغة الكبيرة لعام 2026 مع مسحوقات البوليسة عالية الكفاءة من أكسيد السيريوم (CeO2)هذه المسحوقات توفر مسطحة مستوى نانومتر والوضوح البصري المطلوبين للأسطح LCD و OLED من الجيل العالي. صياغاتنا تستخدم تقنية التلميع الكيميائي الميكانيكي ال...
مسحوق التلميع Ceria من الدرجة CMP لأجهزة AR Optics ومجموعات العدسات الصغيرة والمستشعرات البصرية القابلة للارتداء
CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics
مسحوق البوليسة ذو أكسيد السريا فائق الدقة لغلاف الزجاج الذكي القابل للارتداء والتصليح البصري الدقيق
Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in
مسحوق تلميع أكسيد السيريوم عالي النقاء لتصنيع زجاج الدليل الموجي AR والعدسات البصرية
High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and
مسحوق أكسالات السيريوم عناصر المفاعل الكيميائي
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
يرجى استخدام نموذج الاتصال عبر الإنترنت في الأسفل إذا كان لديك أي أسئلة، وسوف يعود فريقنا إليك في أقرب وقت ممكن.
