Pâte de poudre de polissage à base d'oxyde de cérium blanc de terres rares pour les substrats de cristaux photoniques
Détails de produit
| Taille des particules: | 0,6-0,8 μm | N° CAS.: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO2: | 73~78% | Taux de suspension: | Haut |
| Plage de pH: | 7-10 | Formulation: | Personnalisé |
| Mettre en évidence |
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Description de produit
Poudre de polissage à l'oxyde de cérium pour substrats de cristaux photoniques
Des descriptionssur
La poudre de polissage à l'oxyde de lichen de cérium pour substrats de cristaux photoniques est un matériau de polissage à base de cérium de haute pureté conçu pour la finition ultra-fine de substrats de cristaux photoniques.Conçus pour supporter la qualité de surface stricte et la précision dimensionnelle requises dans les structures cristallines photoniques, ce produit permet l' élimination contrôlée des matières tout en préservant des caractéristiques délicates à l' échelle micro et nano.
Il est idéal pour le polissage du verre et des substrats optiques utilisés dans les cristaux photoniques, où la douceur de surface et l'intégrité structurelle ont une incidence directe sur les performances optiques.
Principales caractéristiques et avantages
Composition de l'oxyde de cérium de haute pureté
Les niveaux d'impuretés ultra-faibles aident à prévenir la contamination et les défauts dans les applications de photonique de précision.
Distribution contrôlée de la taille des particules
Les particules fines et uniformes assurent une action de polissage en douceur et réduisent au minimum les dommages aux surfaces micro-structurées.
Excellente qualité de surface
Réalise une faible rugosité de surface et une grande uniformité de surface critique pour les performances des cristaux photoniques.
Élimination des matières douces
L'action chimique-mécanique équilibrée favorise un polissage efficace sans dégrader les structures périodiques.
Des performances stables et constantes
Une cohérence fiable de lot à lot pour des résultats reproductibles dans le traitement de la photonique avancée.
Données techniques
| Formule moléculaire | Numéro CAS. | CeO2 % | D50 (μm) | Apparence | Application du projet |
| CeO2 | 1306-38-3 | 73 à 78 | 00,6-0,8 μm | Poudre blanche | Substrats de cristaux photoniques |
Distribution de la taille des particulesLe gouvernement
Questions et réponses
1Qu'est-ce que la poudre de polissage des terres rares?
La poudre de polissage des terres rares est un composé de haute pureté utilisé pour polir des composants optiques, des plaquettes de semi-conducteurs et des surfaces délicates comme le verre et les lentilles.une finition de haute clarté sans endommager le matériau.
2Comment choisir la bonne poudre de polissage de terres rares pour mon application?
Pour choisir la poudre de polissage idéale, prenez en considération des facteurs tels que le matériau que vous polissez, la finition requise et des spécifications telles que la taille et la pureté des particules.Notre équipe de vente est disponible pour vous aider à choisir le produit parfait pour vos besoins.
3Comment dois-je stocker la poudre de polissage des terres rares?
Conserver dans un endroit frais et sec, à l'abri de l'humidité et de la lumière directe du soleil.il dure généralement 1 à 2 ans.
4Vous fournissez des formulations de terres rares sur mesure?
Oui, nous proposons des poudres et des lisières de polissage de terres rares sur mesure, adaptées à vos besoins spécifiques, y compris des ajustements de la taille des particules, de la composition chimique ou de la consistance de la lisière.
5Puis-je avoir un échantillon avant de faire une commande en vrac?
Nous fournissons des échantillons pour évaluation, contactez notre équipe pour demander un échantillon, et nous organiserons l'expédition.
6Comment puis-je passer une commande? Quel est le délai de livraison typique?
Pour passer une commande, contactez simplement notre équipe de vente, qui vous guidera tout au long du processus et vous fournira un devis.et nous vous donnerons un calendrier estimé une fois la commande confirmée.
Points forts du produit
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