Poudre de polissage de céréa à haute performance pour optique de précision
Détails de produit
| Composant principal: | Oxyde de cérium (CeO₂) | Pureté du CeO₂: | 99,9% |
|---|---|---|---|
| Taille des particules: | Personnalisé | Répartition des particules: | Contrôlé |
| Processus de polissage: | Polissage de précision/polissage final | Conditionnement: | Personnalisé |
| Mettre en évidence |
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Description de produit
Poudre de polissage à base de cérium haute performance pour optiques de précision
Présentation du produit
Notre poudre de polissage à base de cérium pour optiques de précision est développée pour les fabricants nécessitant un finissage de surface de haute qualité et des performances de polissage stables. Le produit est conçu pour les composants optiques de précision où la rugosité de surface, la clarté, le contrôle dimensionnel et l'efficacité du polissage sont essentiels.
Avec une distribution granulométrique contrôlée et des caractéristiques de polissage optimisées, la poudre d'oxyde de cérium peut supporter les processus de polissage intermédiaires et finaux pour les composants optiques.
Caractéristiques principales
- Conçu pour le polissage d'optiques de précision
- Haute activité de polissage chimico-mécanique
- Morphologie des particules et distribution granulométrique contrôlées
- Performances de polissage stables
- Permet d'obtenir des surfaces optiques lisses et uniformes
- Convient aux processus de polissage automatisés et conventionnels
- Sélection de grades disponible pour différentes exigences de polissage
Distribution granulométriqueApplications
Lentilles optiques de précision
- Lentilles asphériques
- Lentilles sphériques
- Prismes optiques
- Composants photoniques
- Optiques laser
- Composants en silice fondue
- Composants en verre de précision
- Questions fréquemment posées
Q: La poudre de polissage à base de cérium convient-elle au polissage optique final ?
R: Oui. Des grades de cérium à fines particules, correctement sélectionnés, peuvent être utilisés pour le polissage fin et final où une faible rugosité de surface et une haute qualité optique sont requises.
Q: Comment la granulométrie affecte-t-elle les performances de polissage ?
R: Les particules plus grossières offrent généralement une élimination de matière plus importante, tandis que les particules plus fines sont généralement préférées pour un finissage de surface plus fin. Le grade optimal dépend du processus de polissage.
Q: Pouvez-vous recommander un grade de cérium en fonction de notre processus existant ?
R: Oui. La sélection du grade peut être basée sur le matériau optique, la machine de polissage, le type de tampon, la concentration de la suspension, le taux d'élimination cible et la rugosité de surface requise.
Points forts du produit
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