"high purity rare earth material"
CMP Super Cerium Oxid Polierpulver Seltenerdverbindungen für Saphirsubstrat
Polierpulver für Saphirsubstrat Beschreibung Ceriumoxid ist vor allem als "Goldstandard" für das Polieren von Glas und weicheren Kristallen bekannt.Während es selten allein als primäres Schleifmittel für Saphir wegen der extremen Härte des Saphirs verwendet wird (9 auf der Mohs-Skala), spezielle ...
La2O3 Lanthanoxidpulver 99,99% für Glaslinsen
La2O3 Lanthanoxidpulver 99,99% für Glaslinsen Übersicht: Lichen La2O3 Lanthanum-Oxid-Pulver (99,99%) ist ein hochreines Seltenerd-Oxid, das speziell für die Herstellung von optischem Glas und Glaslinsen hergestellt wird.einheitliche PartikelmerkmaleDas Material wird als Schlüsselzusatzstoff für ...
Feststoff seltener Erdmetalle Ceriumacetat Hydratpulver für Katalysatoren
Ceriumacetat Molekulare Formel: Ce ((AC) 3·xH2O Aussehen: Ceriumacetat ist ein weißer schneeflockenartiger Feststoff Anwendung: Als Rohstoff für andere Ceriumsalze und Ceriumoxid sowie für Erdölzusatzstoffe usw. Artikel Spezifikation Prüfstandard Artikel (C)3- 3N5 (C)3-4N (C)3-4N5 (C)3-5N TREO ((wt%...
Ceriumfluorid-Kristall in Pulverform mit hoher Reinheit 99,99% für die optische Beschichtung
CeF3 Kristall Ceriumfluorid hohe Reinheit 99,99% für die optische Beschichtung oder als Hilfslösungsmittel Molekulare Formel: CeF3 Aussehen: Ceriumfluorid ist ein weißes Pulver Anwendung: Als hochreines chemisches und Beschichtungsmaterial verwendet Artikel Spezifikation Prüfstandard Ich...Die CEF3- ...
Seltenerd Neodym Praseodym Oxid Schwarzes Pulver Pr6o11
Praseodymiumoxid Molekulare Formel: Pr6O11 Aussehen: dunkelbraunes Pulver Verwendungszwecke: Verwendet in keramischen Glasuren mit praseodymiumgelben Pigmenten, als Rohstoff für Selteneerdpermanentmagnetenlegierungen und als Farbstoff in der Glasindustrie. Artikel Spezifikationen Prüfmethode Artikel ...
Präzision Ceo2 Ceriumoxid PH Neutrales Polierpulver hohe Reinheit 99%
Cerium-Oxid-Polierpulver mit hoher Reinheit 99% Übersicht: Unser hochreines Cerium-Oxid-Polierpulver von 99% ist für Präzisionspolieranwendungen konzipiert, bei denen höchste Qualitätsstandards, Effizienz und Oberflächenglattheit erforderlich sind.Hergestellt mit einer Reinheit von 99%, ist dieses ...
Hochreines Polieren von Ceo2-Pulverschlamm für OLED-Displays
Hochreine Polierschlamm für OLED-DisplaysBeschreibungaufLichen High-Purity Polishing Slurry für OLED-Displays ist eine fortschrittliche Cerium-Oxid-basierte Schlamm, die auf die anspruchsvollen Anforderungen der OLED-Display-Produktion zugeschnitten ist.für die Herstellung von Oberflächen, die mit ...
Antireflektierendes Sonnenglas Ceriumoxid Polierpulvermaterial Cas 1306-38-3
Cerium-Oxid zur Veredelung von reflektierendem Sonnenglas Beschreibungauf Lichen Cerium Oxide für die Veredelung von reflektierendem Sonnenglas ist ein fortschrittliches Polierpulver auf Basis von Cerium Oxid, das entwickelt wurde, um das glatte, klare,und fehlerfreie Oberflächen für Sonnenglas mit ...
La2o3 Lanthan-Oxid-Pulver mit hoher Reinheit für optisches Glas
Lanthan-Oxid (LA2O3) (Pulver) von hoher Reinheit ((3N5/4N/5N) /Keramik für optisches Glas, Katalysator, Phosphor Lanthanoxid mit hoher Reinheit Molekulare Formel: La2O3Erscheinung: Lanthanoxid hoher Reinheit ist ein weißes Pulver. Anwendungsbereich: In der dreigleisigen Katalysatorindustrie, in der ...
Cerium-Oxid-Sphärischer Katalysator-Pulver-Poliermaterial
HÖHE SPECIFISCHE Oberflächenfläche CERIUM-OXID SPHÄRISCHES PULVER für CERIUM-basierte Katalysatoren Cerium-Oxid Molekulare Formel: CeO2 Aussehen: hellgelbes Pulver Verwendungszwecke: Als Poliermaterial oder als Katalysator. Artikel Spezifikationen Prüfmethode Artikel Vorstandsvorsitzender2- 3N5C ...
Hochleistungs-Cerium-Oxid-Schlamm für die Bildschirmoberflächenpolierung Cas 1306-38-3
Hochleistungs-Cerium-Schlamm zur Veredelung der Bildschirmoberfläche Beschreibung Erreichen Sie kompromisslose optische Klarheit mit unseren präzise konstruierten Cerium-Oxid (CeO2) -Schlammen, speziell für den Display-Markt entwickelt,Unsere Schlammen bieten die Nanometer-Ebene Flachheit und ...
Halbleiterpolieren Ceo2 Oxid Schlamm hohe Präzision 1,0 μm
Schleifschlamm für die Halbleiterherstellung mit hoher Präzision Übersicht: Unser hochleistungsfähiger Polierschlamm für die Halbleiterherstellung wurde entwickelt, um den anspruchsvollen Bedürfnissen der Halbleiterindustrie gerecht zu werden.Dieser Schlamm bietet eine höhere Präzision bei der ...
