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"high purity rare earth material"

품질 CMP 슈퍼 세리움 산화물 닦기 분말 사피르 기판을 위한 희토류 화합물 공장

CMP 슈퍼 세리움 산화물 닦기 분말 사피르 기판을 위한 희토류 화합물

사파이어 기판을 위한 닦기 분말 설명 세리움 산화물은 주로 유리 및 부드러운 결정을 닦는 "금 표준"으로 알려져 있습니다.사파이어의 극심한 경화 때문에 사파이어의 주요 가열 물질로 단독으로 거의 사용되지 않지만 (모스 척도에서 9), 정밀 사파이어 광학의 특정 최종 마무리 단계에 특화된 세리움 기반 조식은 사용됩니다. 사파이어 롤링 에서 세리움 산화소의 역할 최종 마무리/슈퍼 폴리싱: 초저하 표면 거칠성을 달성하기 위해 고순도 세리움 산화물 나노 입자가 사용됩니다. 화학-기계 닦기 (CMP): 세리움 산화물은 사파이르를 위한 CMP ...

품질 La2O3 란탄산화 분말 99.99% 유리 렌즈 공장

La2O3 란탄산화 분말 99.99% 유리 렌즈

유리 렌즈용 La2O3 란탄산화 분말 99.99% 개요: 리첸 La2O3 란탄산화물 분말 (99.99%) 은 광 유리 및 유리 렌즈 제조를 위해 특별히 생산된 고순도 희토류 산화물입니다.균일한 입자 특성이 물질은 높은 굴절 지수 광 유리에서 주요 첨가물로 널리 사용되며 뛰어난 광 성능과 공정 신뢰성을 가능하게합니다. 란타늄 산화물은 굴절 지수, 분산 제어 및 광학 투명성 향상에 중요한 역할을 합니다.정밀 렌즈 및 고급 광학 부품에 필수 원료로 만들어집니다.. 주요 특징 및 장점 높은 순도 (99.99%) 초저분석 수준은 일관된 광학...

품질 고질 희토류 금속 세리움 아세테이트 수산물 분말 공장

고질 희토류 금속 세리움 아세테이트 수산물 분말

세리움 아세테이트 분자 공식: Ce ((AC) 3·xH2O 외형: 세리움 아세테이트 는 하얀색의 눈송이 같은 고체 용도: 다른 세리움 소금과 세리움 산화물, 그리고 석유 첨가물 등을 위한 원료로 사용됩니다. 항목 사양 시험 표준 항목 CE (AC)3-3N5 CE (AC)3-4N CE (AC)3-4N5 CE (AC)3-5N TREO ((wt%) ≥45 ≥45 ≥45 ≥45 희토류의 상대적 순도 (wt%) LA2오3/TREO ≤0.01 ≤0.005 ≤0.003 ≤0.0004 GB/T 18115.2 최고경영자2/TREO ≥ 99.95 ≥ ...

품질 시리움 플루오라이드 (CeF3) 크리스탈 파우더 고순도 99.99% 광학 코팅용 공장

시리움 플루오라이드 (CeF3) 크리스탈 파우더 고순도 99.99% 광학 코팅용

CeF3 크리스탈 세리움 플루오라이드 광학 코팅 또는 보조 용매용 고순도 99.99% 분자 공식: CeF3 외관: 세리움 플루오라이드는 흰색 분말입니다. 용도: 고 순수 화학 및 코팅 재료로 사용됩니다. 항목 사양 시험 표준 난에 CEF3-3N5 CEF3-4N CEF3-4N5 CEF3-5N TREO ((wt%) ≥ 80 ≥ 80 ≥ 80 ≥ 80 희토류의 상대적 순도 (wt%) LA2오3/TREO ≤0.01 ≤0.005 ≤0.003 ≤0.0004 GB/T 18115.2 최고경영자2/TREO ≥ 99.95 ≥ 99.99 ≥ 99...

품질 희토류 네오디움 프라세오디움 산화물 블랙 파우더 Pr6o11 공장

희토류 네오디움 프라세오디움 산화물 블랙 파우더 Pr6o11

프라세오디미움 산화물 분자 공식: Pr6O11 외관: 어두운 갈색 분말 용도: 세라믹 글래스 프라세오디미엄 노란색 색소, 희토류 영구 자석 합금의 원료 및 유리 산업의 염료로 사용됩니다. 항목 사양 시험 방법 항목 PR6오11-2N5 PR6오11-3N TREO ((wt%) ≥99 ≥99 희토류의 상대적 순도 (wt%) LA2오3/TREO ≤0.05 ≤0.02 GB/T 18115.1 최고경영자2/TREO ≤0.05 ≤0.02 PR6오11/TREO ≥ 99.5 ≥ 99.9 ᄋ2오3/TREO ≤0.3 ≤0.05 Sm2오3/TREO ≤0...

품질 정밀성 Ceo2 세리움 산화물 PH 중성 닦기 분말 고순도 99% 공장

정밀성 Ceo2 세리움 산화물 PH 중성 닦기 분말 고순도 99%

고순도 세리움 산화물 가루 99% 개요: 우리의 고순도 세리움 산화물 99% 닦는 파우더는 품질, 효율성, 표면 매끄러움의 최고 표준이 필요한 정밀 닦기 응용 프로그램에 설계되었습니다.99%의 순도 수준으로 제조된 것, 이 세리움 산화물 닦는 분말은 유리, 광학 부품, 반도체 웨이퍼, 세라믹 등 다양한 재료를 닦는 데 이상적입니다.최소한의 결함으로 탁월한 표면 가공을 보장합니다.. 주요 특징: 99% 순수성: 우리의 세리움 산화물 닦는 분말은 99% 순수 수준으로 생산되며, 최소한의 오염과 함께 최고 닦는 성능을 보장합니다.섬세하고 ...

품질 고순도 닦는 CEO2 파우더 슬러리 OLED 디스플레이 공장

고순도 닦는 CEO2 파우더 슬러리 OLED 디스플레이

OLED 디스플레이용 고순도 닦기 슬러리설명에OLED 디스플레이용 고순도 릴링 슬러리는 OLED 디스플레이 생산의 까다로운 요구 사항을 충족하도록 설계된 고급 세리움 산화물 기반 슬러리입니다.초연끈한 가공을 위해 설계되었습니다., 우리의 슬러리는 탁월한 표면 품질을 제공합니다. OLED 패널에 매우 중요하며, 높은 광학 성능, 색상의 정확성, 그리고 장기적인 신뢰성을 보장합니다.우리의 용액은 유리 기판을 닦는 데 이상적이며 스마트폰, 텔레비전,그리고 다른 전자 장치리첸의 닦기 매료는 제조업체가 뛰어난 빛 전달과 균일성을 달성하고 ...

품질 반사 방지 태양 유리 세리움 산화질소 닦기 분말 물질 CAS 1306-38-3 공장

반사 방지 태양 유리 세리움 산화질소 닦기 분말 물질 CAS 1306-38-3

반사성 태양 유리를 완성하기 위한 세리움 산화물 설명에 반사성 태양 유리 가공을 위한 리첸 세리움 산화물은 부드럽고 맑은,반사 방지 코팅을 가진 태양 유리에 필요한 결함 없는 마무리태양 전지 패널 유리 닦기 위해 설계된 이 고순도 닦기 파우더는 태양 전지 시스템의 광학 성능을 향상시킵니다.최적의 빛 전달을 보장하고 반사 손실을 최소화. 우리의 세리움 산화물 용액은 태양 전지 모듈, 광전기 덮개 유리 및 반사 방지 코팅 유리 유리 표면의 가시화를 위해 이상적이며 효율성과 내구성을 향상시킵니다.표면적 결함 을 효과적으로 제거 함, 안개...

품질 광 유리용 고순 La2o3 란탄산화 분말 공장

광 유리용 고순 La2o3 란탄산화 분말

고순도 란타늄 산화물 (LA2O3) 가루 ((3N5/4N/5N) / 광학 유리, 촉매, 인산용 세라믹스 고순도 란탄산화물 분자 공식: La2O3 외관: 고순도 란타늄 산화물은 흰색 분말이다. 응용: 3 차원 촉매, 유리, 세라믹 및 전자 산업에서 사용됩니다. 또한 정밀 광 유리 및 광섬유 제조에 사용됩니다. 전자 산업에서,그것은 세라믹 콘덴시터와 피에조 전기 세라믹의 도판으로 사용됩니다.또한 란타늄 보라이드 생산에 원료로 사용되며 석유 분리 및 정제에 촉매로 사용됩니다. 항목 사양 시험 표준 등급 La2O3-3N5B La2O3...

품질 세리움 산화물 구형 촉매 가루 닦기 재료 공장

세리움 산화물 구형 촉매 가루 닦기 재료

높은 특이 표면 영역 세리움 산화물 세리움 기반 촉매에 대한 구형 분말 시리움 산화물 분자 공식: CeO2 외관: 밝은 노란색 분말 용도: 닦는 재료 또는 촉매로 사용됩니다. 항목 사양 시험 방법 항목 최고경영자2-3N5C 최고경영자2-4NC 최고경영자2-4N5C 최고경영자2-5NC TREO ((wt%) ≥ 99.0 ≥ 99.0 ≥ 99.0 ≥ 99.0 희토류의 상대적 순도 (wt%) LA2오3/TREO ≤0.01 ≤0.005 ≤0.003 ≤0.0004 GB/T 18115.2 최고경영자2/TREO ≥ 99.95 ≥ 99.99 ≥ ...

품질 디스플레이 표면 닦기용 고성능 세리움 산화물 슬러리 CAS 1306-38-3 공장

디스플레이 표면 닦기용 고성능 세리움 산화물 슬러리 CAS 1306-38-3

디스플레이 표면 가공용 고성능 세리움 슬러리 설명 우리의 정밀 설계 세리움 산화물 (CeO2) 슬러리로 타협하지 않는 광학적 선명성을 달성합니다.우리의 슬러리는 나노미터 수준의 평평성과 고해상도 LCD에 필수적인 결함 없는 표면을 제공합니다., OLED 및 MicroLED 소비자 전자제품. 고 순수 희토류 산화물과 첨단 화학 안정제를 결합함으로써 우리의 제품 라인은 뛰어난 화학-기계 닦기 (CMP) 작용을 보장합니다.모든 디스플레이 글래스 기판에 극저분산 및 앵그스트롬 수준의 마무리 작업을 제공합니다.. 성능 장점 서브 나노미터 거...

품질 반도체 닦는 Ceo2 산화물 슬러리 고정도 1.0μm 공장

반도체 닦는 Ceo2 산화물 슬러리 고정도 1.0μm

고정밀 반도체 제조용 닦기 슬러리 개요: 반도체 제조에 필요한 고성능 닦기 용액은 반도체 산업의 까다로운 요구를 충족시키기 위해 설계되었습니다.이 매료는 웨이퍼 표면 마무리에서 우수한 정밀도를 제공합니다., 다음 세대의 반도체 장치에 필수적인 초 부드러운 표면을 보장합니다. 주요 특징: 고순도 세리움 산화물: 뛰어난 닦기 효율과 세밀한 표면 완비를 제공하기 위해 첨단 세리움 산화물 기술을 사용합니다. 우수한 제거 속도: 최소한의 표면 결함으로 정밀 물질 제거를 위해 최적화되어 고급 반도체 웨이퍼 응용 프로그램에 이상적입니다. 다재다...