"high purity rare earth material"
시리움 산화물 화합물 광학 유리 기판용 슬러리 Abrasive
유리 기판용 세리움 산화물 슬러리 설명에 유리 기판을 위한 세리움 산화물 슬러리는 다양한 유리 재료를 고밀도로 닦을 수 있도록 설계되었습니다.이 용액은 표면 부드러움을 제공합니다., 제어 된 재료 제거 및 낮은 결함 생성. 광학 수준의 마무리 및 높은 생산 일관성을 요구하는 응용 프로그램에 이상적입니다. 주요 특징 고순도 세리움 산화물: 최소한의 오염으로 효율적인 닦기를 보장하며 민감한 유리 응용 프로그램에 적합합니다. 안정적인 슬러리 분포: 일정한 닦기 성능과 반복 가능한 결과를 제공하기 위해 균일한 입자 분포를 유지합니다. 낮은 ...
0스마트폰 태블릿용.2μM 세리움 산화물 유리 닦기 분말
표면 유리 가공용 세리움 산화물 닦기 분말 설명에 리헨 세리움 산화물 닦기 분말은 고순도,소비자 전자제품 및 자동차 디스플레이 용품에 사용되는 커버 글래스의 최종 가공을 위해 특별히 설계된 미세먼지 닦기 재료그것은 안정적이고 효율적인 닦기 성능을 유지하면서 탁월한 표면 부드러움, 높은 광택 및 우수한 결함 통제를 제공합니다. 이 제품은 스마트 폰 커버 글래스, 태블릿 글래스, 스마트 워치 글래스, 카메라 보호 글래스 및 자동차 디스플레이 커버 패널의 닦는데 널리 사용됩니다.탁월한 광적 선명성과 표면 일관성을 보장합니다.. 주요 특징 ...
쿼츠 글래스 세리움 산화물 닦기 분말 cas 1306-38-3 맞춤
쿼츠 유리 기판을 닦는 데 사용되는 세리움 산화물 설명에 쿼츠 유리 기판을 닦을 수 있는 리첸 세리움 산화물은 쿼츠 유리 가공의 까다로운 요구사항을 위해 특별히 개발된 고순도 세리움 기반의 닦기 분말이다.최적화된 입자 크기 분포와 우수한 화학-기계 닦는 행동, 그것은 우수한 표면 매끄러움, 낮은 결함 밀도, 그리고 합성 쿼츠와 합성 쿼츠 기판에서 일관된 물질 제거를 가능하게합니다. 이 제품은 반도체, 광학 및 첨단 광학 제조를 포함하여 높은 광학 명료성, 차원 정확성 및 표면 무결성을 요구하는 응용 프로그램에서 널리 사용됩니다. 주...
반도체 유리용 정밀 평면화 세리움 산화물 슬러리
반도체 유리의 미세한 평형화 용 매료 설명에 반도체 유리의 미세한 평형화를 위한 리첸 세리움 기반 닦기 슬러리는 고순도,반도체 제조에 첨단 유리 평면화 프로세스를 위해 설계된 사용 준비 매립물정밀하게 제어 된 세리움 산화질소 입자로 구성 된 이 용액은 탁월한 표면 평면성, 낮은 거칠성 및 최소한의 결함 발생을 제공합니다.현대 반도체 및 마이크로 전자 생산의 엄격한 요구 사항을 충족. 그것은 캐리어 글래스, 인터포저 글래스 및 디스플레이 관련 반도체 글래스 구성 요소를 포함하여 광범위한 반도체 유리 기판을 닦기 위해 적합합니다. 주요 ...
반도체 웨이퍼 롤링을 위한 맞춤형 세리움 롤링 파우더 페이스트
초미세 웨이퍼 롤링용 롤링 파우더 설명에 반도체 유리의 미세한 평형화를 위한 리첸 세리움 기반 닦기 슬러리는 고순도,반도체 제조에 첨단 유리 평면화 프로세스를 위해 설계된 사용 준비 매립물정밀하게 제어 된 세리움 산화질소 입자로 구성 된 이 용액은 탁월한 표면 평면성, 낮은 거칠성 및 최소한의 결함 발생을 제공합니다.현대 반도체 및 마이크로 전자 생산의 엄격한 요구 사항을 충족. 그것은 캐리어 글래스, 인터포저 글래스 및 디스플레이 관련 반도체 글래스 구성 요소를 포함하여 광범위한 반도체 유리 기판을 닦기 위해 적합합니다. 주요 특...
평형화 세리움 산화물 매물 반도체 유리를 위한 가려진 닦기 페이스트
반도체 유리 기판용 세리움 산화물 슬러리 설명에 반도체 유리 기판을 위한 리헨 세리움 산화물 슬러리는 반도체 유리 용도로 특별히 제조된 고순도, 물 기반의 닦기 슬러리이다.이 매료는 물질 제거율이 우수합니다., 일관된 표면 완공, 그리고 정확한 평면화, 그것은 반도체 유리 기판을 닦는 데 이상적입니다그리고 첨단 통합 회로 제조. 화학-기계 평면화 (CMP) 공정에서 사용하도록 설계된,리첸의 세리움 산화물 매체는 반도체 산업에서 요구하는 중요한 표면 품질과 균일성을 유지하면서 대용량 생산 환경에서 안정적인 성능을 제공합니다.. 주요 ...
2.2μM Ph 중립 닦기 CMP 유리 웨이퍼 기판용 슬러리
유리 웨이퍼 기판용 CMP 슬러리 설명에 유리 웨이퍼 서브스트레이트용 리첸 CMP 슬러리는 유리 웨이퍼 서브스트레이트의 정밀 화학 기계적 평면화 (CMP) 를 위해 제조된 고순도, 사용 준비가 된 닦기 슬러리입니다.첨단 반도체용으로 설계된, 광학 및 마이크로 전자 산업, 이 매개체는 최적의 재료 제거, 균일한 표면 닦기 및 낮은 결함 밀도를 보장합니다.고성능 유리 웨이퍼 기판에 대한 엄격한 요구 사항을 충족하는 웨이퍼 레벨 포장재, MEMS 장치, 광 마스크 및 광학적 부품. 고출력, 고출력 애플리케이션을 위해 설계된 리첸의 CMP ...
OEM 자동차 정면 유리창 Cas 1306-38-3에 대한 CEO2 가루 닦기
자동차 유리 및 정면 유리 에 사용 되는 닦기 가루 설명에 자동차 유리 및 풍경용 리첸 세리움 산화물 닦기 분말은 자동차 유리 산업에서 우수한 결과를 제공하기 위해 고순도, 정밀 품질의 닦기 재료입니다.정밀 마감을 위해 설계된, 이 세리움 산화물 닦는 가루는 고품질의 표면 매끄러움, 광택, 그리고 맑음을 보장합니다.그리고 차량의 다른 중요한 유리 부품. 물 얼룩, 스크래치, 안개, 또는 다른 결함을 제거 할 수 있는지 여부에 관계없이, 리첸의 세리움 산화물 가루는 자동차 유리의 미용과 기능 모두를 향상시키기 위해 만들어졌습니다.안전...
유리 닦기용 초세리움 산화물 대용품 물 기반 슬러리 안개 제거기
디스플레이 커버 글래스를 위한 세리움 산화물 슬러리 설명에 디스플레이 커버 글래스를 위한 리첸 세리움 산화물 슬러리는 디스플레이 커버 글래스를 정밀하게 닦을 수 있도록 고순도, 수산성 슬러리로 만들어졌다.스마트폰 화면 제조에 사용하도록 특별히 설계된, 태블릿 커버, 그리고 유리 터치 표면을 가진 다른 소비자 전자제품, 우리의 세리움 산화물 매개체는 탁월한 표면 품질, 향상된 광학 명성, 그리고 높은 내구성을 보장합니다. 이 용액은 스크래치, 안개, 미세 결함 같은 표면 결함을 효과적으로 제거합니다.제조업체가 전자 및 디스플레이 산업...
스크래치 저항성 유리 닦기용 세리움 산화물 슬러리 0.6μM
디스플레이 커버 글래스를 위한 세리움 산화물 슬러리 설명에 디스플레이 커버 글래스를 위한 리첸 세리움 산화물 슬러리는 스마트폰, 태블릿, 웨어러블 기기,그리고 다른 소비자 전자제품초미세한 세리움 산화질소 입자로 구성된 이 용액은 우수한 표면 매끄러움, 광학 명성 및 스크래치 저항성을 보장하며 고급 유리 덮개에 우수한 완성도를 제공합니다. 표면 결함, 안개, 미세한 긁힘을 제거하는데 완벽합니다.현대 전자제품에 필요한 엄격한 품질 표준을 충족하는 초 부드러운 마무리. 주요 특징 및 장점 고순도 세리움 산화물 우리의 매료는 초순한 세리움 ...
PH 중립 세리움 산화물 바위 롤러 자동차 디스플레이 유리
차 안의 디스플레이 유리 가루 가리는 용품 설명에 자동차용 디스플레이 유리 닦기용 리첸 슬러리는 자동차용 디스플레이 유리 닦기의 까다로운 요구사항을 위해 특별히 설계된 고순도 세리움 산화물 기반의 슬러리입니다.이 용액은 뛰어난 표면 매끄러움을 제공하기 위해 만들어졌습니다., 높은 광학 맑음, 그리고 차 안의 디스플레이, 터치 스크린, 기기 클러스터에 사용되는 유리 표면에 스크래치 없는 마무리. 자동차 인포테인먼트 시스템, 디지털 대시보드, 내비게이션 화면, 후면 거울에 적합합니다.리첸의 닦는 매료는 차 안의 디스플레이 유리에서 최고 ...
실리콘 웨이퍼를 위한 맞춤형 유리 닦기 페이스트 파우더 3 미크론
실리콘 웨이퍼 제조용 맞춤형 롤링 파우더 설명에 Lichen Tailored Polishing Powder for Silicon Wafer Manufacturing is a premium cerium oxide-based powder formulated to deliver exceptional performance in the polishing of silicon wafers used in semiconductor manufacturing반도체 산업의 엄격한 요구 사항을 충족하도록 설계된 이 파우더는 물질 제거 속도, 표면 평면성, ...
