품질 쿼츠 글래스 세리움 산화물 닦기 분말 cas 1306-38-3 맞춤 공장
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품질 쿼츠 글래스 세리움 산화물 닦기 분말 cas 1306-38-3 맞춤 공장
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쿼츠 글래스 세리움 산화물 닦기 분말 cas 1306-38-3 맞춤

브랜드 이름: LICHEN
모델 번호: LC006
원산지: 중국
인증: ISO9001
최소 주문 수량: 20KGS
가격: NEGOCIABLE
공급 능력: 250MT/월

제품 상세정보


입자 크기: 2.5±0.2μm CAS 번호: 1306-38-3
CEO₂: 99.5% 정지율: 높은
Ph 범위: 7-10 공식화: 맞춤형
강조하다

쿼츠 글래스 세리움 산화물 닦기 분말

,

1306-38-3 세리움 산화물 닦기 분말

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1306-38-3 쿼츠 닦기 분말

제품 설명

쿼츠 유리 기판을 닦는 데 사용되는 세리움 산화물

설명

쿼츠 유리 기판을 닦을 수 있는 리첸 세리움 산화물은 쿼츠 유리 가공의 까다로운 요구사항을 위해 특별히 개발된 고순도 세리움 기반의 닦기 분말이다.최적화된 입자 크기 분포와 우수한 화학-기계 닦는 행동, 그것은 우수한 표면 매끄러움, 낮은 결함 밀도, 그리고 합성 쿼츠와 합성 쿼츠 기판에서 일관된 물질 제거를 가능하게합니다.

이 제품은 반도체, 광학 및 첨단 광학 제조를 포함하여 높은 광학 명료성, 차원 정확성 및 표면 무결성을 요구하는 응용 프로그램에서 널리 사용됩니다.

 

주요 특징 및 장점

고순도 세리움 산화질의 성분

낮은 불순물 수준은 안정적인 닦기 성능을 보장하고 쿼츠 기판의 표면 오염을 방지합니다.

최적화된 입자 크기 제어

균일한 입자 분포는 스크래치 및 지하 손상의 위험을 줄이는 원활한 닦기 작용을 제공합니다.

훌륭 한 화학 기계적 상호 작용

효율적이고 통제된 물질 제거를 위해 세리움 산화물과 쿼츠 유리 사이의 화학적 반응성을 향상시키기 위해 설계되었습니다.

우수한 표면 품질

낮은 표면 거칠성 및 높은 표면 균일성을 달성하여 엄격한 광학 및 기술 사양을 충족시킵니다.

안정적이고 반복 가능한 성능

대량에 따라 일관된 결과를 보장하고 대량 산업 닦기 프로세스를 지원합니다.

 

기술 데이터

분자 공식 CAS 번호 CeO2 % D50 (μm) 외모 적용
CeO2 1306-38-3 990.5% 30.0±0.2μm 흰색 분말 쿼츠 유리 기판

 

입자 크기 분포의정

쿼츠 글래스 세리움 산화물 닦기 분말 cas 1306-38-3 맞춤

질문 및 답변

1희토류 가늘게 닦는 분말이란 무엇입니까?

희토류 가루는 광학 부품, 반도체 웨이퍼, 그리고 유리와 렌즈와 같은 섬세한 표면을 가리는 데 사용되는 고순도의 화합물입니다.소재를 손상시키지 않고 높은 선명성 가공.

2제 응용 프로그램에 적합한 희토류 가루를 어떻게 선택할 수 있습니까?

이상적인 닦는 분말을 선택하려면 닦는 재료, 필요한 완성도, 입자 크기와 순수성 등의 사양을 고려하십시오.우리의 판매 팀은 귀하의 필요에 대한 완벽한 제품을 선택하는 데 도움이 사용할 수 있습니다.

3희토류 가루를 어떻게 보관해야 할까요?

시원하고 건조한 곳에 보관하고, 습기와 직접 햇빛으로부터 멀리 보관하십시오.보통 1~2년 정도 지속됩니다..

4특화된 희토류 제조품을 제공하시나요?

예, 우리는 특화된 희토류 가루와 용액을 제공합니다. 분자 크기, 화학 성분 또는 용액의 일관성을 조정하는 등 귀하의 특정 필요에 맞게 조정됩니다.

5대량 주문하기 전에 샘플을 받을 수 있나요?

절대적으로! 우리는 평가를 위해 샘플을 제공합니다. 샘플을 요청하기 위해 우리의 팀에 연락하고, 우리는 배송을 준비합니다.

6어떻게 주문을 할 수 있나요? 일반적인 배송시간은 얼마인가요?

주문을 하기 위해, 단순히 우리의 판매 팀과 연락, 그들은 과정을 통해 당신을 안내하고 공고를 제공 합니다. 배달 시간은 주문 크기와 위치, 그리고 재고 가용성에 따라 다릅니다.주문이 확정되면 예상 스케줄을 알려드리겠습니다.

제품 하이라이트

쿼츠 유리 기판을 닦는 데 사용되는 세리움 산화물 설명에 쿼츠 유리 기판을 닦을 수 있는 리첸 세리움 산화물은 쿼츠 유리 가공의 까다로운 요구사항을 위해 특별히 개발된 고순도 세리움 기반의 닦기 분말이다.최적화된 입자 크기 분포와 우수한 화학-기계 닦는 행동, 그것은 우수한 표면 매끄러움, 낮은 결함 밀도, 그리고 합성 쿼츠와 합성 쿼츠 기판에서 일관된 물질 제거를 가능하게합니다. 이 제품은 반도체, 광학 및 첨단 광학 제조를 포함하여 높은 광학 명료성, 차원 정확성 및 표면 무결성을 요구하는 응용 프로그램에서 널리 사용됩니다. 주...

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