クォーツガラス セリウム酸化 磨き粉 CAS 1306-38-3 カスタマイズ
製品詳細
| 粒子サイズ: | 2.5±0.2μm | CAS番号: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO₂: | 99.5% | 停止率: | 高い |
| Ph 範囲: | 7-10 | 配合: | カスタマイズされた |
| ハイライト |
クォーツガラスセリウムオキシドの磨き粉,1306-38-3 セリウムオキシドの磨き粉,1306-38-3 クォーツの磨き粉 |
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製品の説明
クォーツガラス基板の磨き用セリウム酸化物
記述について
クォーツガラス基板を磨くためのリッヘンセリウム酸化物は,クォーツガラス仕上げの厳しい要求のために特別に開発された高純度セリウムベースの磨き粉である.粒子のサイズ分布が最適化され,化学・機械的な磨き性能が優れている溶融クォーツと合成クォーツ基板の表面の滑らかさと低欠陥密度,一貫した材料除去を可能にします.
この製品は,半導体,光子,先進光学製造を含む高光学透明性,次元精度,表面整合性を要求するアプリケーションに広く使用されています.
主要 な 特徴 と 利点
高純度セリウム酸化物組成
低不純度で安定した磨き性能を保証し,石英基板の表面汚染を防ぐ.
最適化された粒子サイズ制御
均一な粒子の分布により,滑らかな磨き効果がもたらされ,傷害や地下の損傷の危険が軽減されます.
優れた 化学 機械 相互作用
セルウム酸化物とクォーツガラスの間の化学反応性を高めるため 効率的で制御された物質除去のために設計されています
上質 な 表面
表面の粗さも低く,表面の均一性が高く,厳格な光学および技術的な仕様を満たします.
安定し 繰り返す 性能
批量ごとに一貫した結果を確保し,大量の工業的な磨きプロセスをサポートします.
技術データ
| 分子式 | CAS番号 | CeO2 % | D50 (μm) | 外見 | 適用する |
| CeO2 | 1306-38-3 | 990.5% | 3.0±0.2μm | 白い粉末 | クォーツガラス基板 |
粒子の大きさの分布について
Q&A
1稀土の磨き粉とは?
光学部品や半導体ウェーファーや ガラスやレンズなどの繊細な表面を 磨くのに使用される 高純度化合物です高透明度で材料を損傷することなく仕上げ.
2稀土の磨き粉を どう選べますか?
理想的な磨き粉を選ぶには,磨いている材料,必要な仕上げ,粒子の大きさや純度などの要素を考慮してください.あなたのニーズに最適な製品を選択するのに役立ちます..
3稀土の磨き粉を どうやって保管すればいいですか?
温かい乾燥した場所に保管し,湿度や日光から遠ざけます. 汚染を防止し有効性を維持するために,粉末を気密容器に保管します.通常は1〜2年続きます.
4稀土の製剤を 提供していますか?
はい,私たちは,あなたの特定のニーズを満たすために,細粒子のサイズ,化学的組成,またはスラムの一貫性調整を含む,カスタム稀土の磨き粉やスラムを提供しています.
5大量注文する前にサンプルを貰えますか?
絶対! 評価のためにサンプルを用意します. サンプルを依頼するためにチームに連絡してください. そして私たちは出荷を整理します.
6どうすれば注文できますか? 典型的な配達時間は?
注文をするには,単に販売チームと連絡してください. 彼らはプロセスを通してあなたを案内し,オートを提供します. 配達時間は,注文のサイズ,場所,および在庫の可用性によって異なります.オーダーが確認されたら 予定表を教えます.
製品 ハイライト
クォーツガラス基板の磨き用セリウム酸化物 記述について クォーツガラス基板を磨くためのリッヘンセリウム酸化物は,クォーツガラス仕上げの厳しい要求のために特別に開発された高純度セリウムベースの磨き粉である.粒子のサイズ分布が最適化され,化学・機械的な磨き性能が優れている溶融クォーツと合成クォーツ基板の表面の滑らかさと低欠陥密度,一貫した材料除去を可能にします. この製品は,半導体,光子,先進光学製造を含む高光学透明性,次元精度,表面整合性を要求するアプリケーションに広く使用されています. 主要 な 特徴 と 利点 高純度セリウム酸化物組成 低不純度で安定した磨き性能を保証し,石英基板の表面汚染を...
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