"ph neutral polishing powder"
精度Ceo2セリウム酸化物 PH中性磨き粉 高純度99%
高純度セリウムオキシド磨き粉 99% 概要: 高純度セリウム酸化物 99%の磨き粉は 高品質,効率性,表面の滑らかさの最高水準が要求される精密磨きアプリケーションのために設計されています.純度99%まで製造,このセリウムオキシドの磨き粉は,ガラス,光学部品,半導体ウエファー,陶器を含む幅広い材料を磨くのに理想的です欠陥を最小限に抑える 優れた表面仕上げを保証する. 主要な特徴: 純度99%: 私たちのセリウムオキシドの磨き粉は 99%の純度で生産され,最小限の汚染で最高磨き性能を保証します繊細で高精度なアプリケーションに最適化. 優れた磨き効率: この高純度粉末は,繊細な表面に滑らかで,かき傷...
ISO PH 中性ガラス 陶器用 磨き粉 Cas 1306-38-3
グラスセラミックの磨き粉 記述について グラスセラミックのリッセン磨き粉は,グラスセラミックの基板の精密磨きのために特別に開発された高性能磨き材料です.ガラスセラミックは,混合結晶形構造と高い表面硬さにより,ユニークな課題を提示しています.この磨き粉末は,制御された材料除去,優れた表面の滑らかさ,低欠陥発生をもたらし,技術的および装飾的なガラスセラミックアプリケーションの両方に理想的です. この製品は,表面の質,平らさ,微小の欠陥制御が重要な中間および最終的な磨き段階に適しています. 主要 な 特徴 と 利点 グラス ・ 陶器 材料 に 最適 化 さ れ た 水晶と無形相を均等に磨くように設計...
1.0μM 光子産業用稀土磨き粉 PH 中性
フォトニクス産業のための磨き粉 記述 光学産業用の 磨き粉は 光学や光子部品の 製造の要求に応えるように 特別に設計されていますこの高性能粉末はレンズに最適です鏡,プリズム,光ファイバー,波導体など,最先端の光学アプリケーションで使用されます. 主要な特徴: 特殊な純度最高品質の素材で製造された 磨き粉は 最低限の汚染と 最重要な用途でも一貫した結果を提供します 精密アブラシブ光学部品の表面を細かく仕上げながら 光学装置にとって不可欠な 厳格な容量と寸法整合性を維持します 効率的な物質除去:質を損なうことなく 流量を増やす 迅速で均質な磨き作用を提供します 広く互換性グラス,シリカ,サファイア...
2.2μM Ph 中性ポリシング CMP グラス・ウェーファー基板用スラム
CMP グラス・ウェーバー基板のためのスラム 記述について グラス・ウェーバー基板のためのリッセン・CMPスラーリーは,グラス・ウェーバー基板の精密化学機械的平面化 (CMP) のために製成された高純度,使用準備のよい磨きスラーリである.高度な半導体向けに設計されたこのスローリーは,材料を最適に除去し,表面を均等に磨き,欠陥密度が低くします.高性能ガラス・ウエファー・サブストラットに対する厳格な要求を満たすMEMS装置,フォトマスク,光学部品 高出力で高出力な用途のために設計された リッセン社のCMPスローリーは ガラスのウエファーを磨く上質な性能を提供します生産コストを最小限に抑えながら,顧...
PH 中性セリウムオキシド 自動車ディスプレイガラス用岩石ポリッシュスラム
車内ディスプレイガラスの磨き用スラム 記述について 自動車用ディスプレイガラスの磨き用リッセンスラーリーは,自動車用ディスプレイガラスの磨きの厳しい要求のために特別に設計された高純度セリウム酸化物ベースのスラーリです.このスローリーは,優れた表面の滑らかさを提供するために策定されています自動車内ディスプレイ,タッチスクリーン,計測器のガラスの表面には,高光学透明度,そして擦り傷のない仕上げがあります. 自動車のインフォテインメントシステムや デジタルダッシュボード,ナビゲーションスクリーン,リートビューミラーに最適ですカー内ディスプレイガラスは最高レベルの視覚品質を保ちます耐久性やユーザー体験 ...
