-
사피어 세리움 산화물 고정도 아스피어 렌즈용 희토류 닦기 매물
고정밀 아스피어 렌즈 제조용 세리움 산화물 설명 고밀도의 아스피어 렌즈 제조를 위한 우리의 세리움 산화물은 첨단 광학 렌즈 생산의 엄격한 표면 품질과 정확성 요구 사항을 충족하도록 특별히 설계되었습니다.복잡한 아스피어 기하학을 닦기 위해 설계된이 고품질의 세리움 산화물은 탁월한 표면 매끄러움, 형태 정확성, 광학 맑음성을 제공합니다.그리고 정밀 광학 기기. 주요 특징 아스피어 표면에 최적화: 복잡한 아스피어 프로파일에서 균일한 물질 제거를 보장하기 위해 특별히 구성이되어 있으며, 단단한 형태 관용을 유지합니다. 고순도 세리움 산화물...
-
ODM 세리움 산화물 희토류 닦기 슬러리 광전기 덮개 유리
광전기 덮개 유리용 닦기 슬러리 설명에 태양광 커버 글래스를 위한 리첸 폴리싱 슬러리는 태양 전지 패널 커버 글래스를 폴리싱하고 완성하기 위해 특별히 설계된 고성능 세리움 산화물 기반 슬러리입니다.태양 에너지 산업의 까다로운 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다., 이 용액은 우수한 표면 품질, 향상된 빛 전달, 향상된 내구성을 제공합니다.태양광 유리 장치가 광학 성능과 환경 복원성에 대한 최고 표준을 충족하는지 확인합니다.. 우리의 용액은 스크래치, 안개, 미세한 결함과 같은 표면 결함을 효과적으로 제거하고, 동시에 유리의 미적 ...
-
0.8μM 세리움 산화질소 희토류 닦는 매립물 적외선 IR 광학 닦기용 가시제
고인덱스 적외선 (IR) 광학을 닦기 위한 세리움 산화물 설명에 고인덱스 적외선 (IR) 광학을 닦기 위한 리첸 세리움 산화물은 고인덱스 적외선 광학적 구성 요소의 정밀 완화를 위해 설계된 고순도 세리움 기반의 닦기 재료입니다.세리움 산화질소의 독특한 화학적/기계적 닦기 특성을 활용함이 제품은 효율적인 물질 제거, 낮은 표면 거칠성 및 까다로운 IR 기판에 탁월한 표면 균일성을 제공합니다. 첨단 IR 광학 제조를 위해 설계되었으며, 낮은 산란, 높은 전송 및 엄격한 표면 품질 통제가 필요한 응용 프로그램에 적합합니다. 주요 특징 및 ...
-
CMP 세리움 산화질소 희토류 닦기 슬러리 파우더 실리콘 웨이퍼 주문
시리움 산화물 CMP 실리콘 웨이퍼 가솔린 설명 원자 수준의 평면성과 우수한 장치 생산량을 우리의 시리즈 세리움 산화물 (CeO2) CMP 슬러리로 달성합니다.반도체 제조에서 가장 까다로운 화학 기계 평면화 (CMP) 프로세스를 위해 특별히 설계되었습니다.. 2026년, 웨이퍼 기하학이 점점 더 복잡해지면서, 우리의 세리아 기반 조식은 높은 선택성과 극히 낮은 결함을 제공합니다. 성능 우수성 높은 선택성 및 제거율: 정확한 성능을 위해 설계된 우리의 슬러리는 높은 물질 제거율 (MRR) 을 유지하면서 조정 가능한 선택성 비율을 제공...
-
ISO9001 세리움 산화물 닦기 전자 반도체 유리용 희토류 닦기 슬러리
OLED 디스플레이용 고순도 닦기 슬러리 설명에 OLED 디스플레이용 고순도 릴링 슬러리는 OLED 디스플레이 생산의 까다로운 요구 사항을 충족하도록 설계된 고급 세리움 산화물 기반 슬러리입니다.초연끈한 가공을 위해 설계되었습니다., 우리의 슬러리는 탁월한 표면 품질을 제공합니다. OLED 패널에 매우 중요하며, 높은 광학 성능, 색상의 정확성, 그리고 장기적인 신뢰성을 보장합니다. 우리의 용액은 유리 기판을 닦는 데 이상적이며 스마트폰, 텔레비전,그리고 다른 전자 장치리첸의 닦기 매료는 제조업체가 뛰어난 빛 전달과 균일성을 달성하...
-
유리 결함 제거제 세리움 산화질소 희토류 닦는 슬러리 낮은 산란 레이저 광학 닦기
저분산 레이저 광학 닦기용 세리움 산화물 설명에 저분산 레이저 광학 닦기용 리첸 세리움 산화물은 레이저 등급 광학적 구성 요소의 정밀 완화를 위해 고순도, 세리움 기반의 닦기 분말입니다.현대 레이저 시스템의 엄격한 표면 품질 요구 사항을 충족시키기 위해 개발되었습니다., 이 제품은 미세 결함이 최소화 된 초 부드러운 표면을 가능하게하며 빛의 산란과 광적 손실을 크게 줄입니다. 그것은 고 전력 및 정밀 레이저 응용 프로그램을 포함하여 표면 무결성 및 산란 통제가 중요한 레이저 광학을 닦기 위해 이상적으로 적합합니다. 주요 특징 및 장...
-
화학적 기계적 세리움 산화물 닦기 유연 가루 유리 광섬유
광섬유 제조용 닦기 슬러리 설명 세리움 기반의 닦기 매료는 광섬유 연결 장치에 필요한 초 부드럽고 결함이 낮은 최종 표면 완화를 달성하기 위해 광섬유 제조의 산업 표준입니다.그들은 화학-기계 작용을 통해 작동 하 고 고속 통신 시스템에서 최소 신호 손실 및 낮은 후반 반사 보장 합니다. 제품 개요 시리움 산화물 매개물은 고순도, 미크론 또는 미크론 미만의 시리움 산화물 입자의 수중 суспен지입니다.종종 분산 및 흐름 특성을 향상시키기 위해 독점 첨가물그들은 유리 및 세라믹 광섬유 구성 요소의 최종 닦기 단계에 특별히 구성이되어 ...
-
고순도 닦는 CEO2 파우더 슬러리 OLED 디스플레이
OLED 디스플레이용 고순도 닦기 슬러리설명에OLED 디스플레이용 고순도 릴링 슬러리는 OLED 디스플레이 생산의 까다로운 요구 사항을 충족하도록 설계된 고급 세리움 산화물 기반 슬러리입니다.초연끈한 가공을 위해 설계되었습니다., 우리의 슬러리는 탁월한 표면 품질을 제공합니다. OLED 패널에 매우 중요하며, 높은 광학 성능, 색상의 정확성, 그리고 장기적인 신뢰성을 보장합니다.우리의 용액은 유리 기판을 닦는 데 이상적이며 스마트폰, 텔레비전,그리고 다른 전자 장치리첸의 닦기 매료는 제조업체가 뛰어난 빛 전달과 균일성을 달성하고 ...
