나노 세리아 CMP 광학 유리 및 웨이퍼 닦기 용 슬러리
제품 상세정보
| 제품명: | 세리아 CMP 슬러리 | 연마재: | CEO₂ |
|---|---|---|---|
| 입자 크기: | 맞춤형 | CeO2의 순도: | ≥99.9% |
| 솔리드 콘텐츠: | 맞춤형 | pH: | 맞춤형 |
| 강조하다 |
나노 세리아 CMP 광 유리 용 슬러리,세리움 산화물 롤링 슬러리,보증이 있는 희토류 가루 |
||
제품 설명
광학유리 및 웨이퍼 연마용 나노세리아 CMP 슬러리 | 세륨 산화물 연마 슬러리
제품개요
당사의 Nano Ceria CMP 슬러리는 우수한 표면 품질이 요구되는 광학 기판 및 특수 웨이퍼의 정밀 연마를 위해 설계되었습니다. 산화세륨 나노입자를 활용한 슬러리는 화학적 활성과 기계적 연마를 결합하여 탁월한 평탄도, 투명성 및 낮은 표면 거칠기를 달성합니다.
안정적인 연마 성능을 위해 최적화된 배합으로 결함 및 스크래치를 최소화합니다.
주요 특징
- 나노크기의 산화세륨 연마재
- 균일한 입자 크기 분포
- 우수한 내스크래치성
- 높은 연마 정밀도
- 안정적인 서스펜션 시스템
- 우수한 표면조도
- 낮은 응집
- 일관된 연마 성능
- 맞춤형 제제 사용 가능
입자 크기 분포tion

응용
- 광학 유리 연마
- 석영 웨이퍼 연마
- 사파이어 기판 연마
- 정밀 세라믹 연마
- 디스플레이 유리 제조
- 광자 부품 연마
- 고정밀 광학
자주 묻는 질문
Q1. 어떤 기판을 연마할 수 있나요?
광학 유리, 사파이어, 석영, 세라믹 및 기타 정밀 기판에 적합합니다.
Q2. 슬러리가 긁힘을 줄여줍니까?
예. 제어된 나노 입자 크기는 긁힘을 줄이는 동시에 높은 연마 효율을 유지하는 데 도움이 됩니다.
Q3. 입자 크기를 맞춤 설정할 수 있나요?
예
Q4. 기술 지원을 제공합니까?
예. 귀하의 연마 공정과 기판 재료에 따라 적합한 슬러리 제제를 추천해 드릴 수 있습니다.
제품 하이라이트
광학유리 및 웨이퍼 연마용 나노세리아 CMP 슬러리 | 세륨 산화물 연마 슬러리 제품개요 당사의 Nano Ceria CMP 슬러리는 우수한 표면 품질이 요구되는 광학 기판 및 특수 웨이퍼의 정밀 연마를 위해 설계되었습니다. 산화세륨 나노입자를 활용한 슬러리는 화학적 활성과 기계적 연마를 결합하여 탁월한 평탄도, 투명성 및 낮은 표면 거칠기를 달성합니다. 안정적인 연마 성능을 위해 최적화된 배합으로 결함 및 스크래치를 최소화합니다. 주요 특징 나노크기의 산화세륨 연마재 균일한 입자 크기 분포 우수한 내스크래치성 높은 연마 정밀도 안정...
특수 유리 제조용 고순도 산화세륨 분말
특수 유리 제조용 고순도 산화세륨 분말 제품개요 고순도 산화세륨(CeO2)은 특수 유리 제조 시 기능성 첨가제로 널리 사용되는 프리미엄 희토류 산화물입니다. 탁월한 UV 흡수 능력, 산화 성능 및 광학 안정성으로 인해 유리 품질을 향상시키고 내구성을 향상시키며 제조 효율성을 최적화합니다. 엄격한 품질관리 하에 제조된 산화세륨은 높은 화학적 순도, 제어된 입자 크기 분포, 낮은 불순물 수준을 특징으로 하여 광학유리, 디스플레이 유리, 자동차 유리, 태양광 유리 등 고성능 산업용 유리 생산에 적합합니다. 경험이 풍부한 희토류 재료 공급...
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첨단 산업 응용 분야를 위한 고순도 산화세륨 분말 제품개요 고순도 산화세륨(CeO2)은 광범위한 첨단 산업 응용 분야에 사용되는 다기능 희토류 소재입니다. 독특한 산소 저장 용량, 산화환원 특성, 화학적 안정성 및 내열성으로 인해 유리 제조, 야금, 세라믹, 촉매, 전자 재료 및 환경 기술에서 중요한 기능성 첨가제 역할을 합니다. 고순도 희토류 공급원료와 고급 처리 기술로 생산된 당사의 산화세륨은 까다로운 산업 응용 분야에 일관된 품질, 탁월한 공정 호환성 및 안정적인 성능을 제공합니다.. 주요 특징 높은 산소 저장 용량 우수한 열 ...
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금속 및 합금 제조용 고순도 세리움 산화물 제품 개요 고순도 세리움 산화물은 첨단 금속공학 및 합금 제조에 사용되는 중요한 희토류 첨가물입니다. 그것은 녹음 청결성을 향상함으로써 효과적인 정제제로 작용합니다.곡물 구조를 변경하는 것, 그리고 금속 물질의 기계적 특성을 향상시킵니다. 우리의 세리움 산소는 첨단 정화 기술을 사용하여 생산됩니다. 아주 낮은 불순물 수준과 우수한 화학 일관성을 보장하기 위해,초연금 제조업체, 그리고 비철금속 생산자. 주요 특징 높은 화학 순수성 우수한 산화 안정성 합금 미세 구조를 개선합니다. 부식 저항성...
반도체 제조용 고순도 나노세리아 CMP 슬러리
반도체 제조용 고순도 나노 세리아 CMP 슬러리 제품 개요 우리의 고순도 Ceria CMP 슬러리는 요구되는 반도체 닦기 응용 프로그램을 지원하기 위해 프리미엄 세리움 산화 나노 입자를 사용하여 제조됩니다.주의 깊게 제어 된 입자 크기는 닦기 효율과 표면 품질 사이의 최적의 균형을 제공합니다.. 첨단 웨이퍼 제조를 위해 설계 된 매체는 신뢰할 수있는 닦기 성능, 우수한 분산 안정성 및 산업 생산에 대한 일관된 품질을 제공합니다. 주요 특징 고순도 나노 세리움 산화물 안정적인 분산 기술 우수한 닦기 일관성 낮은 결함 높은 대량 일관성 ...
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