Dung dịch Nano Ceria CMP dùng để đánh bóng kính quang học & tấm bán dẫn | Bùn đánh bóng xeri oxit
Chi tiết sản phẩm
| Tên sản phẩm: | Bùn Ceria CMP | vật liệu mài mòn: | CEO₂ |
|---|---|---|---|
| Kích thước hạt: | tùy chỉnh | Độ tinh khiết của CeO₂: | ≥99,9% |
| Nội dung vững chắc: | tùy chỉnh | độ pH: | tùy chỉnh |
| Làm nổi bật |
Bùn đánh bóng Nano Ceria CMP cho kính quang học,Bùn đánh bóng xeri oxit cho bánh wafer,Bùn đánh bóng đất hiếm có bảo hành |
||
Mô tả sản phẩm
Dung dịch Nano Ceria CMP dùng để đánh bóng kính quang học & tấm bán dẫn | Bùn đánh bóng xeri oxit
Tổng quan về sản phẩm
Dung dịch Nano Ceria CMP của chúng tôi được thiết kế để đánh bóng chính xác các chất nền quang học và các tấm bán dẫn đặc biệt đòi hỏi chất lượng bề mặt vượt trội. Bằng cách sử dụng các hạt nano oxit xeri, hỗn hợp bùn kết hợp hoạt động hóa học với đánh bóng cơ học để đạt được độ phẳng, độ trong suốt tuyệt vời và độ nhám bề mặt thấp.
Công thức được tối ưu hóa để mang lại hiệu quả đánh bóng ổn định đồng thời giảm thiểu các khuyết tật và trầy xước.
Các tính năng chính
- Chất mài mòn oxit xeri cỡ nano
- Phân bố kích thước hạt đồng đều
- Khả năng chống trầy xước tuyệt vời
- Độ chính xác đánh bóng cao
- Hệ thống treo ổn định
- Bề mặt hoàn thiện tuyệt vời
- Độ kết tụ thấp
- Hiệu suất đánh bóng nhất quán
- Công thức tùy chỉnh có sẵn
Phân bố kích thước hạtsự đề cập
Ứng dụng
- Đánh bóng kính quang học
- Đánh bóng wafer thạch anh
- Đánh bóng bề mặt sapphire
- Đánh bóng gốm chính xác
- Sản xuất kính trưng bày
- Đánh bóng thành phần quang tử
- Quang học có độ chính xác cao
Câu hỏi thường gặp
Q1. Những chất nền nào có thể được đánh bóng?
Thích hợp cho kính quang học, sapphire, thạch anh, gốm sứ và các chất nền chính xác khác.
Q2. Bùn có làm giảm vết trầy xước không?
Đúng. Kích thước hạt nano được kiểm soát giúp hạn chế trầy xước mà vẫn duy trì hiệu quả đánh bóng cao.
Q3. Kích thước hạt có thể được tùy chỉnh?
Đúng
Q4. Bạn có cung cấp hỗ trợ kỹ thuật?
Đúng. Chúng tôi có thể đề xuất các công thức bùn phù hợp dựa trên quy trình đánh bóng và vật liệu nền của bạn.
Điểm nổi bật của sản phẩm
Dung dịch Nano Ceria CMP dùng để đánh bóng kính quang học & tấm bán dẫn | Bùn đánh bóng xeri oxit Tổng quan về sản phẩm Dung dịch Nano Ceria CMP của chúng tôi được thiết kế để đánh bóng chính xác các chất nền quang học và các tấm bán dẫn đặc biệt đòi hỏi chất lượng bề mặt vượt trội. Bằng cách sử d...
Bột oxit xeri có độ tinh khiết cao dùng cho sản xuất thủy tinh đặc biệt
Bột oxit cerium tinh khiết cao cho sản xuất thủy tinh đặc biệt Tổng quan sản phẩm High Purity Cerium Oxide (CeO2) là một loại oxit đất hiếm cao cấp được sử dụng rộng rãi như một chất phụ gia chức năng trong sản xuất thủy tinh đặc biệt.hiệu suất oxy hóa, và ổn định quang học, nó cải thiện chất lượng ...
Bột oxit xeri có độ tinh khiết cao cho các ứng dụng công nghiệp tiên tiến
Bột oxit xeri có độ tinh khiết cao cho các ứng dụng công nghiệp tiên tiến Tổng quan về sản phẩm Cerium Oxide có độ tinh khiết cao (CeO₂) là vật liệu đất hiếm đa chức năng được sử dụng trong nhiều ứng dụng công nghiệp tiên tiến. Nhờ khả năng lưu trữ oxy độc đáo, tính chất oxy hóa khử, tính ổn định h...
Cerium oxide tinh khiết cao cho sản xuất kim loại và hợp kim
Xeri Oxit có độ tinh khiết cao cho sản xuất kim loại và hợp kim Tổng quan về sản phẩm Cerium Oxide có độ tinh khiết cao là một chất phụ gia đất hiếm quan trọng được sử dụng trong luyện kim và sản xuất hợp kim tiên tiến. Nó hoạt động như một tác nhân tinh chế hiệu quả bằng cách cải thiện độ sạch tan ...
Bùn Nano Ceria CMP có độ tinh khiết cao cho sản xuất chất bán dẫn
Bùn Nano Ceria CMP có độ tinh khiết cao cho sản xuất chất bán dẫn Tổng quan về sản phẩm Bùn Ceria CMP có độ tinh khiết cao của chúng tôi được sản xuất bằng cách sử dụng các hạt nano oxit xeri cao cấp để hỗ trợ các ứng dụng đánh bóng chất bán dẫn đòi hỏi khắt khe. Kích thước hạt được kiểm soát cẩn th...
Vui lòng sử dụng biểu mẫu liên lạc trực tuyến của chúng tôi dưới đây nếu bạn có bất kỳ câu hỏi nào, nhóm của chúng tôi sẽ liên lạc lại với bạn càng sớm càng tốt.
