Nano Ceria CMP Slurry untuk Optical Glass & Wafer Polishing.
Rincian produk
| Nama Produk: | Bubur Ceria CMP | Bahan abrasif: | CEO₂ |
|---|---|---|---|
| Ukuran Partikel: | Disesuaikan | Kemurnian CeO₂: | ≥99,9% |
| Konten padat: | Disesuaikan | pH: | Disesuaikan |
| Menyoroti |
Nano Ceria CMP Slurry untuk Kaca Optik,Cerium oxide polishing slurry untuk wafer,Limbah Penggilap Bumi Langka dengan Garansi |
||
Deskripsi Produk
Nano Ceria CMP Slurry untuk Pemolesan Kaca Optik & Wafer | Bubur Pemoles Cerium Oksida
Ikhtisar Produk
Slurry Nano Ceria CMP kami dirancang untuk pemolesan presisi pada substrat optik dan wafer khusus yang memerlukan kualitas permukaan unggul. Memanfaatkan nanopartikel cerium oksida, bubur ini menggabungkan aktivitas kimia dengan pemolesan mekanis untuk mencapai kerataan, transparansi, dan kekasaran permukaan yang rendah.
Formulasinya dioptimalkan untuk kinerja pemolesan yang stabil sekaligus meminimalkan cacat dan goresan.
Fitur Utama
- Bahan abrasif cerium oksida berukuran nano
- Distribusi ukuran partikel seragam
- Ketahanan gores yang sangat baik
- Presisi pemolesan tinggi
- Sistem suspensi yang stabil
- Permukaan akhir yang sangat baik
- Aglomerasi rendah
- Performa pemolesan yang konsisten
- Formulasi khusus tersedia
Distribusi Ukuran Partikeltion
Aplikasi
- Pemolesan kaca optik
- Pemolesan wafer kuarsa
- Pemolesan substrat safir
- Pemolesan keramik presisi
- Pembuatan kaca display
- Pemolesan komponen fotonik
- Optik presisi tinggi
Pertanyaan yang Sering Diajukan
Q1. Substrat apa yang bisa dipoles?
Cocok untuk kaca optik, safir, kuarsa, keramik, dan substrat presisi lainnya.
Q2. Apakah bubur mengurangi goresan?
Ya. Ukuran partikel nano yang terkontrol membantu mengurangi goresan sekaligus menjaga efisiensi pemolesan yang tinggi.
Q3. Bisakah ukuran partikel disesuaikan?
Ya
Q4. Apakah Anda memberikan dukungan teknis?
Ya. Kami dapat merekomendasikan formulasi bubur yang sesuai berdasarkan proses pemolesan dan bahan substrat Anda.
Sorotan Produk
Nano Ceria CMP Slurry untuk Pemolesan Kaca Optik & Wafer | Bubur Pemoles Cerium Oksida Ikhtisar Produk Slurry Nano Ceria CMP kami dirancang untuk pemolesan presisi pada substrat optik dan wafer khusus yang memerlukan kualitas permukaan unggul. Memanfaatkan nanopartikel cerium oksida, bubur ini ...
Cerium Oxide for Anti-Corrosion and Protective Coatings
Cerium Oxide for Anti-Corrosion and Protective Coatings Product Overview Cerium Oxide for Anti-Corrosion and Protective Coatings is a functional ceria powder developed for advanced surface protection systems where improved chemical stability, oxidation resistance, and coating durability are required...
Cerium Oxide Additive for High-Temperature Protective Coatings
Cerium Oxide Additive for High-Temperature Protective Coatings Product Overview Cerium Oxide Additive for High-Temperature Protective Coatings is engineered for coating systems exposed to elevated temperatures, oxidation, and demanding service conditions. CeO₂ has excellent thermal stability and ...
Nano Cerium Oxide for Advanced Functional Coatings
Nano Cerium Oxide for Advanced Functional Coatings Product Overview High-Purity Cerium Oxide (CeO₂) for Functional Coatings is a fine ceria powder designed as a functional additive and performance-enhancing material for advanced coating formulations. Its high chemical purity, controlled particle ...
High-Purity Cerium Oxide for Functional Coatings
High-Purity Cerium Oxide for Functional Coatings Product Overview High-Purity Cerium Oxide (CeO₂) for Functional Coatings is a fine ceria powder designed as a functional additive and performance-enhancing material for advanced coating formulations. Its high chemical purity, controlled particle size, ...
Silakan gunakan formulir kontak pertanyaan online kami di bawah ini jika Anda memiliki pertanyaan, tim kami akan menghubungi Anda sesegera mungkin.
