Nano Ceria CMP Slurry untuk Optical Glass & Wafer Polishing.
Rincian produk
| Nama Produk: | Bubur Ceria CMP | Bahan abrasif: | CEO₂ |
|---|---|---|---|
| Ukuran Partikel: | Disesuaikan | Kemurnian CeO₂: | ≥99,9% |
| Konten padat: | Disesuaikan | pH: | Disesuaikan |
| Menyoroti |
Nano Ceria CMP Slurry untuk Kaca Optik,Cerium oxide polishing slurry untuk wafer,Limbah Penggilap Bumi Langka dengan Garansi |
||
Deskripsi Produk
Nano Ceria CMP Slurry untuk Pemolesan Kaca Optik & Wafer | Bubur Pemoles Cerium Oksida
Ikhtisar Produk
Slurry Nano Ceria CMP kami dirancang untuk pemolesan presisi pada substrat optik dan wafer khusus yang memerlukan kualitas permukaan unggul. Memanfaatkan nanopartikel cerium oksida, bubur ini menggabungkan aktivitas kimia dengan pemolesan mekanis untuk mencapai kerataan, transparansi, dan kekasaran permukaan yang rendah.
Formulasinya dioptimalkan untuk kinerja pemolesan yang stabil sekaligus meminimalkan cacat dan goresan.
Fitur Utama
- Bahan abrasif cerium oksida berukuran nano
- Distribusi ukuran partikel seragam
- Ketahanan gores yang sangat baik
- Presisi pemolesan tinggi
- Sistem suspensi yang stabil
- Permukaan akhir yang sangat baik
- Aglomerasi rendah
- Performa pemolesan yang konsisten
- Formulasi khusus tersedia
Distribusi Ukuran Partikeltion
Aplikasi
- Pemolesan kaca optik
- Pemolesan wafer kuarsa
- Pemolesan substrat safir
- Pemolesan keramik presisi
- Pembuatan kaca display
- Pemolesan komponen fotonik
- Optik presisi tinggi
Pertanyaan yang Sering Diajukan
Q1. Substrat apa yang bisa dipoles?
Cocok untuk kaca optik, safir, kuarsa, keramik, dan substrat presisi lainnya.
Q2. Apakah bubur mengurangi goresan?
Ya. Ukuran partikel nano yang terkontrol membantu mengurangi goresan sekaligus menjaga efisiensi pemolesan yang tinggi.
Q3. Bisakah ukuran partikel disesuaikan?
Ya
Q4. Apakah Anda memberikan dukungan teknis?
Ya. Kami dapat merekomendasikan formulasi bubur yang sesuai berdasarkan proses pemolesan dan bahan substrat Anda.
Sorotan Produk
Nano Ceria CMP Slurry untuk Pemolesan Kaca Optik & Wafer | Bubur Pemoles Cerium Oksida Ikhtisar Produk Slurry Nano Ceria CMP kami dirancang untuk pemolesan presisi pada substrat optik dan wafer khusus yang memerlukan kualitas permukaan unggul. Memanfaatkan nanopartikel cerium oksida, bubur ini ...
Bubuk Cerium Oxide Keurasan Tinggi untuk Pabrik Kaca Spesial
Bubuk Cerium Oksida Kemurnian Tinggi untuk Pembuatan Kaca Khusus Ikhtisar Produk Cerium Oksida Kemurnian Tinggi (CeO₂) adalah oksida tanah jarang premium yang banyak digunakan sebagai aditif fungsional dalam pembuatan kaca khusus. Karena kemampuan penyerapan UV yang sangat baik, kinerja oksidasi, ...
Bubuk Cerium Oksida Kebersihan Tinggi untuk Aplikasi Industri Lanjutan
Bubuk Cerium Oksida Kebersihan Tinggi untuk Aplikasi Industri Lanjutan Ringkasan Produk High Purity Cerium Oxide (CeO2) adalah bahan bumi langka multifungsi yang digunakan di berbagai aplikasi industri canggih.Stabilitas kimia, dan ketahanan termal, ia berfungsi sebagai aditif fungsional penting ...
Cerium oxide kemurnian tinggi untuk pembuatan logam dan paduan
Cerium oxide kemurnian tinggi untuk pembuatan logam dan paduan Ringkasan Produk High Purity Cerium Oxide adalah aditif bumi langka penting yang digunakan dalam metalurgi canggih dan pembuatan paduan.mengubah struktur biji-bijian, dan meningkatkan sifat mekanik dari bahan logam. Cerium oxide kami ...
Slurry Nano Ceria CMP dengan Kemurnian Tinggi untuk Pembuatan Semikonduktor
Limbah Nano Ceria CMP Keurasan Tinggi untuk Produksi Semikonduktor Ringkasan Produk Ceria CMP High-Purity Slurry kami diproduksi menggunakan nanopartikel cerium oxide premium untuk mendukung aplikasi polishing semikonduktor yang menuntut.Ukuran partikel yang dikontrol dengan hati-hati memberikan ...
Silakan gunakan formulir kontak pertanyaan online kami di bawah ini jika Anda memiliki pertanyaan, tim kami akan menghubungi Anda sesegera mungkin.
