Nano Ceria CMP Slurry per lucidare vetri ottici e wafer.
Dettagli del prodotto
| Nome del prodotto: | Liquame Ceria CMP | Materiale abrasivo: | CeO2 |
|---|---|---|---|
| Dimensione delle particelle: | Personalizzato | Purezza del CeO₂: | ≥99,9% |
| Contenuti solidi: | Personalizzato | pH: | Personalizzato |
| Evidenziare |
Slag per vetro ottico Nano Ceria CMP,Ossido di cerio,liquido di lucidatura per wafer |
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Descrizione di prodotto
Nano Ceria CMP Slurry per lucidare vetri ottici e wafer.
Visualizzazione del prodotto
Il nostro Nano Ceria CMP Slurry è progettato per la lucidatura di precisione di substrati ottici e wafer speciali che richiedono una qualità superficiale superiore.l'impasto combina attività chimica con lucidatura meccanica per ottenere un'eccellente piattezza, trasparenza e bassa rugosità superficiale.
La formulazione è ottimizzata per prestazioni di lucidatura stabili riducendo al minimo difetti e graffi.
Caratteristiche chiave
- Abrasivo di nano-dimensioni con ossido di cerio
- Distribuzione uniforme delle dimensioni delle particelle
- Ottima resistenza agli graffi
- Alta precisione di lucidatura
- Sistema di sospensione stabile
- Finitura superficiale eccellente
- Basso numero di agglomerati
- prestazioni di lucidatura costanti
- Disponibile formulazione personalizzata
Distribuzione della dimensione delle particelleLa Commissione
Applicazioni
- Polizione di vetri ottici
- Polizione di wafer di quarzo
- Polizione del substrato di zaffiro
- Polizione di ceramica di precisione
- Fabbricazione di vetri per schermi
- lucidatura di componenti fotonici
- Ottica ad alta precisione
Domande frequenti
Q1. Quali substrati possono essere lucidati?
Adatto per vetro ottico, zaffiro, quarzo, ceramica e altri substrati di precisione.
D. La scorie riduce i graffi?
La dimensione controllata delle nanoparticelle aiuta a ridurre i graffi mantenendo un'elevata efficienza di lucidatura.
D. La dimensione delle particelle può essere personalizzata?
- Sì, sì.
Q4. Fornisce supporto tecnico?
Possiamo consigliare formulazioni di liquame adeguate in base al processo di lucidatura e al materiale del substrato.
Caratteristiche del prodotto
Nano Ceria CMP Slurry per lucidare vetri ottici e wafer. Visualizzazione del prodotto Il nostro Nano Ceria CMP Slurry è progettato per la lucidatura di precisione di substrati ottici e wafer speciali che richiedono una qualità superficiale superiore.l'impasto combina attività chimica con lucidatura ...
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