Nano Ceria CMP Schlamm für optisches Glas und Wafer Polieren.
Produktdetails
| Produktname: | Ceroxid-CMP-Aufschlämmung | Schleifmittel: | CeO2 |
|---|---|---|---|
| Partikelgröße: | Maßgeschneidert | Reinheit von CeO₂: | ≥99,9 % |
| Solide Inhalte: | Maßgeschneidert | pH-Wert: | Maßgeschneidert |
| Hervorheben |
Nano-Ceria CMP-Schlamm für optisches Glas,Cerium-Oxid-Polierschlamm für Wafer,Seltene Erdenpolierschlamm mit Garantie |
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Produkt-Beschreibung
Nano Ceria CMP Schlamm für optisches Glas und Wafer Polieren.
Produktübersicht
Unsere Nano Ceria CMP Schlamm ist für die Präzisionspolierung von optischen Substraten und Spezialwafern entwickelt, die eine überlegene Oberflächenqualität erfordern.Der Schlamm kombiniert chemische Aktivität mit mechanischem Polieren, um eine ausgezeichnete Flachheit zu erzielen., Transparenz und geringe Oberflächenrauheit.
Die Formulierung ist für eine stabile Polierleistung optimiert und minimiert dabei Defekte und Kratzer.
Wesentliche Merkmale
- Cerium-Oxid-Schleifmittel in Nano-Größe
- Einheitliche Partikelgrößenverteilung
- Ausgezeichnete Kratzfestigkeit
- Hohe Polierpräzision
- Stabiles Aufhängungssystem
- Ausgezeichnete Oberflächenveredelung
- Niedrige Agglomeration
- Konsistente Polierleistung
- Zusammensetzung nach Maß
PartikelgrößenverteilungDie
Anwendungen
- Glaspolieren
- Quarzwaferpolieren
- Polieren von Saphirsubstraten
- Präzisionspolieren von Keramik
- Herstellung von Glas für Bildschirme
- Polieren von photonischen Bauteilen
- Hochpräzisionsoptik
Häufig gestellte Fragen
Q1. Welche Substrate können poliert werden?
Geeignet für optisches Glas, Saphir, Quarz, Keramik und andere Präzisionssubstrate.
F2: Verringert der Schlamm Kratzer?
Die kontrollierte Nanopartikelgröße hilft, Kratzer zu reduzieren und gleichzeitig eine hohe Poliereffizienz zu erhalten.
Q3. Kann die Partikelgröße angepasst werden?
- Ja, das ist es.
Q4. Bieten Sie technische Unterstützung an?
Ja, wir können Ihnen geeignete Schlammformulationen empfehlen, basierend auf Ihrem Polierverfahren und dem Substratmaterial.
Produkt-Highlights
Nano Ceria CMP Schlamm für optisches Glas und Wafer Polieren. Produktübersicht Unsere Nano Ceria CMP Schlamm ist für die Präzisionspolierung von optischen Substraten und Spezialwafern entwickelt, die eine überlegene Oberflächenqualität erfordern.Der Schlamm kombiniert chemische Aktivität mit ...
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