Nano Ceria CMP-slam voor het polijsten van optisch glas en wafers
Productdetails
| Productnaam: | Ceria CMP-slurry | Abrasief materiaal: | CeO₂ |
|---|---|---|---|
| Deeltjesgrootte: | Aangepast | Zuiverheid van CeO₂: | ≥99,9% |
| Solide inhoud: | Aangepast | pH: | Aangepast |
| Markeren |
Nano Ceria CMP-slijm voor optisch glas,Cerium-oxidepoetslam voor wafers,Seldzaam aardpoetsmiddel met garantie |
||
Productomschrijving
Nano Ceria CMP-slurry voor het polijsten van optisch glas en wafers | Ceriumoxide-polijstslurry
Productoverzicht
Onze Nano Ceria CMP-slurry is ontworpen voor het nauwkeurig polijsten van optische substraten en speciale wafers die een superieure oppervlaktekwaliteit vereisen. Door gebruik te maken van nanodeeltjes van ceriumoxide combineert de slurry chemische activiteit met mechanisch polijsten om uitstekende vlakheid, transparantie en lage oppervlakteruwheid te bereiken.
De formule is geoptimaliseerd voor stabiele polijstprestaties en minimaliseert defecten en krassen.
Belangrijkste kenmerken
- Ceriumoxide-schuurmiddel van nanogrootte
- Uniforme deeltjesgrootteverdeling
- Uitstekende krasbestendigheid
- Hoge polijstprecisie
- Stabiel ophangsysteem
- Uitstekende oppervlakteafwerking
- Lage agglomeratie
- Consistente polijstprestaties
- Aangepaste formulering beschikbaar
Deeltjesgrootteverdelingtie
Toepassingen
- Optisch glas polijsten
- Kwartswafel polijsten
- Polijsten van saffiersubstraten
- Precisie keramisch polijsten
- Productie van displayglas
- Polijsten van fotonische componenten
- Optiek met hoge precisie
Veelgestelde vragen
Q1. Welke ondergronden kunnen gepolijst worden?
Geschikt voor optisch glas, saffier, kwarts, keramiek en andere precisiesubstraten.
Vraag 2. Vermindert de slurry krassen?
Ja. De gecontroleerde nanodeeltjesgrootte helpt krassen te verminderen terwijl de hoge polijstefficiëntie behouden blijft.
Q3. Kan de deeltjesgrootte worden aangepast?
Ja
Q4. Biedt u technische ondersteuning?
Ja. Op basis van uw polijstproces en substraatmateriaal kunnen wij geschikte slurryformuleringen aanbevelen.
Producthoogtepunten
Nano Ceria CMP-slurry voor het polijsten van optisch glas en wafers | Ceriumoxide-polijstslurry Productoverzicht Onze Nano Ceria CMP-slurry is ontworpen voor het nauwkeurig polijsten van optische substraten en speciale wafers die een superieure oppervlaktekwaliteit vereisen. Door gebruik te maken ...
Ceriumoxidepoeder met hoge zuiverheid voor de productie van speciaal glas
Ceriumoxidepoeder met hoge zuiverheid voor de productie van speciaal glas Productoverzicht Ceriumoxide met hoge zuiverheid (CeO₂) is een hoogwaardig zeldzaam aardoxide dat veel wordt gebruikt als functioneel additief bij de productie van speciaal glas. Dankzij het uitstekende UV-absorptievermogen, ...
Ceriumoxidepoeder met hoge zuiverheid voor geavanceerde industriële toepassingen
Ceriumoxidepoeder met hoge zuiverheid voor geavanceerde industriële toepassingen Productoverzicht Ceriumoxide met hoge zuiverheid (CeO₂) is een multifunctioneel zeldzaam aardmateriaal dat wordt gebruikt in een breed scala aan geavanceerde industriële toepassingen. Vanwege zijn unieke zuurstofopslagc...
Ceriumoxide met hoge zuiverheid voor de productie van metaal en legeringen
Ceriumoxide met hoge zuiverheid voor de productie van metaal en legeringen Productoverzicht Ceriumoxide met hoge zuiverheid is een belangrijk additief voor zeldzame aardmetalen dat wordt gebruikt in de geavanceerde metallurgie en de productie van legeringen. Het fungeert als een effectief raffinagem...
Hoge zuiverheid Nano-Ceria CMP-slijm voor de vervaardiging van halfgeleiders
Hoge zuiverheid Nano-Ceria CMP-slijm voor de vervaardiging van halfgeleiders Productoverzicht Onze hoogzuivere Ceria CMP Slurry wordt vervaardigd met behulp van premium cerium-oxide nanodeeltjes om veeleisende halfgeleiderpoetstoepassingen te ondersteunen.De zorgvuldig gecontroleerde deeltjesgrootte ...
Gebruik ons online contactformulier als u vragen heeft, ons team zal u zo snel mogelijk contacteren.
