Calidad Nano Ceria CMP Slurry para el vidrio óptico y el pulido de obleas. Fábrica
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Nano Ceria CMP Slurry para el vidrio óptico y el pulido de obleas.

Nombre de la marca: LICHEN
Número de modelo: LC
Lugar de origen: Porcelana
Certificación: ISO
Cantidad mínima de pedido: 20KGS
Precio: Contact us
Capacidad de suministro: 3800TM/AÑO

Detalles del producto


Nombre del producto: Lechada de Ceria CMP Material abrasivo: CeO₂
Tamaño de partícula: Personalizado Pureza del CeO₂: ≥99,9%
Contenido sólido: Personalizado pH: Personalizado
Resaltar

Sementes de nano Ceria CMP para vidrio óptico

,

Lloras de pulido de óxido de cerio para obleas

,

Esparcimiento de tierra rara con garantía

Descripción de producto


Nano Ceria CMP Slurry para el vidrio óptico y el pulido de obleas.

Resumen del producto

Nuestro Nano Ceria CMP Slurry está diseñado para el pulido de precisión de sustratos ópticos y obleas especiales que requieren una calidad de superficie superior.el estiércol combina actividad química con pulido mecánico para lograr una excelente planitud, transparencia y baja rugosidad de la superficie.

La formulación está optimizada para un rendimiento de pulido estable al tiempo que minimiza defectos y arañazos.

Características clave

  • Abrasivo de óxido de cerio de tamaño nano
  • Distribución uniforme del tamaño de las partículas
  • Excelente resistencia a los arañazos
  • Alta precisión de pulido
  • Sistema de suspensión estable
  • Excelente acabado de la superficie
  • Baja aglomeración
  • Rendimiento de pulido constante
  • Formulación a medida disponible

Distribución del tamaño de las partículasEl

Nano Ceria CMP Slurry para el vidrio óptico y el pulido de obleas. 0

Aplicaciones

  • Limpieza de vidrio óptico
  • Polido de obleas de cuarzo
  • Polido de sustrato de zafiro
  • Polido de cerámica de precisión
  • Fabricación de vidrio para pantallas
  • Polido de componentes fotónicos
  • Óptica de alta precisión


Preguntas frecuentes

¿Qué materiales pueden pulirse?

Adecuado para vidrio óptico, zafiro, cuarzo, cerámica y otros sustratos de precisión.

P2. ¿Reduce el estiércol los arañazos?

Sí, el tamaño controlado de las nanopartículas ayuda a reducir los arañazos manteniendo una alta eficiencia de pulido.

P3: ¿Se puede personalizar el tamaño de las partículas?

- ¿ Qué?

P4: ¿Provee usted apoyo técnico?

Podemos recomendar formulaciones adecuadas de estiércol basadas en su proceso de pulido y material de sustrato.

Lo más destacado del producto

Nano Ceria CMP Slurry para el vidrio óptico y el pulido de obleas. Resumen del producto Nuestro Nano Ceria CMP Slurry está diseñado para el pulido de precisión de sustratos ópticos y obleas especiales que requieren una calidad de superficie superior.el estiércol combina actividad química con pulido ...

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