"cerium oxide slurry"
스크래치 저항성 유리 닦기용 세리움 산화물 슬러리 0.6μM
디스플레이 커버 글래스를 위한 세리움 산화물 슬러리 설명에 디스플레이 커버 글래스를 위한 리첸 세리움 산화물 슬러리는 스마트폰, 태블릿, 웨어러블 기기,그리고 다른 소비자 전자제품초미세한 세리움 산화질소 입자로 구성된 이 용액은 우수한 표면 매끄러움, 광학 명성 및 스크래치 저항성을 보장하며 고급 유리 덮개에 우수한 완성도를 제공합니다. 표면 결함, 안개, 미세한 긁힘을 제거하는데 완벽합니다.현대 전자제품에 필요한 엄격한 품질 표준을 충족하는 초 부드러운 마무리. 주요 특징 및 장점 고순도 세리움 산화물 우리의 매료는 초순한 세리움 ...
평형화 세리움 산화물 매물 반도체 유리를 위한 가려진 닦기 페이스트
반도체 유리 기판용 세리움 산화물 슬러리 설명에 반도체 유리 기판을 위한 리헨 세리움 산화물 슬러리는 반도체 유리 용도로 특별히 제조된 고순도, 물 기반의 닦기 슬러리이다.이 매료는 물질 제거율이 우수합니다., 일관된 표면 완공, 그리고 정확한 평면화, 그것은 반도체 유리 기판을 닦는 데 이상적입니다그리고 첨단 통합 회로 제조. 화학-기계 평면화 (CMP) 공정에서 사용하도록 설계된,리첸의 세리움 산화물 매체는 반도체 산업에서 요구하는 중요한 표면 품질과 균일성을 유지하면서 대용량 생산 환경에서 안정적인 성능을 제공합니다.. 주요 ...
디스플레이 표면 닦기용 고성능 세리움 산화물 슬러리 CAS 1306-38-3
디스플레이 표면 가공용 고성능 세리움 슬러리 설명 우리의 정밀 설계 세리움 산화물 (CeO2) 슬러리로 타협하지 않는 광학적 선명성을 달성합니다.우리의 슬러리는 나노미터 수준의 평평성과 고해상도 LCD에 필수적인 결함 없는 표면을 제공합니다., OLED 및 MicroLED 소비자 전자제품. 고 순수 희토류 산화물과 첨단 화학 안정제를 결합함으로써 우리의 제품 라인은 뛰어난 화학-기계 닦기 (CMP) 작용을 보장합니다.모든 디스플레이 글래스 기판에 극저분산 및 앵그스트롬 수준의 마무리 작업을 제공합니다.. 성능 장점 서브 나노미터 거...
자동차 유리용 화학 기계적 세리움 산화물 슬러리 닦기 분말
자동차 안전 유리를 위한 세리움 산화물 닦기 분말 설명에 자동차 안전 유리의 리헨 세리움 산화물 닦기 분말은 자동차 안전 유리에 뛰어난 투명성과 부드러움을 제공하기 위해 설계된 고성능 닦기 솔루션입니다.전초기반용으로 특별히 설계된, 측면 창문, 그리고 다른 중요한 안전 유리 응용 프로그램, 우리의 세리움 산화물 분말은 유리 표면이 결함 없는 것을 보장, 최적의 시야, 운전자 안전, 그리고 미적 품질을 제공합니다. 스크래치, 산화 또는 흐릿한 자동차 유리를 닦고 있든 말든, 우리의 닦기 파우더는 고품질의 결과를 제공하며 불완전함을 제...
OEM CMP 폴리싱 세리움 산화물 슬러리 러브레이브 레이저 광학 반도체
레이저 광학용 맞춤형 닦기 슬러리 설명 고성능 레이저 광학의 까다로운 요구사항을 위해 특별히 설계된 우리의 고급, 맞춤형 세리움 기반 닦기 매개로 고결하고 결함 없는 광학 표면을 달성하세요. 우리 제품들은 고순도 세리움 산화물 (CeO2) 를 주요 가려물로 사용하며, 그 독특한 화학-기계 닦기 (CMP) 특성을 활용하여생산성 증가, 그리고 지하 피해를 최소화합니다. 주요 이점 완성품:일관되게 안그스트롬 수준의 표면 거칠성을 달성하는 것은 빛의 산란을 최소화하고 고전력 레이저 시스템에서 성능을 극대화하는 데 중요합니다. 레이저 재료에 ...
자외선 보호 금속 CMP 시리움 산화물 슬러리
시리움 산화물 유리를 선면화하여 닦을 용 설명에 리헨 세리움 옥시드 슬러리 (Lichen Cerium Oxide Slurry for Pre-Coating Glass Polishing) 는 세리움 옥시드 기반의 고성능 슬러리로, 특히 선장 유리 닦기 위해 설계되었다.유리 제조 및 코팅 산업에서 사용하기에 이상적입니다., 이 용액은 유리 코팅의 최적의 접착과 균일성을 위해 필수적인 부드럽고 결함없는 표면을 보장합니다.또는 소비자 전자 제품 유리, 우리의 매료는 매우 균일한 마무리, 후속 코팅 프로세스에 유리 표면을 준비합니다. 리첸의 ...
반도체 유리용 정밀 평면화 세리움 산화물 슬러리
반도체 유리의 미세한 평형화 용 매료 설명에 반도체 유리의 미세한 평형화를 위한 리첸 세리움 기반 닦기 슬러리는 고순도,반도체 제조에 첨단 유리 평면화 프로세스를 위해 설계된 사용 준비 매립물정밀하게 제어 된 세리움 산화질소 입자로 구성 된 이 용액은 탁월한 표면 평면성, 낮은 거칠성 및 최소한의 결함 발생을 제공합니다.현대 반도체 및 마이크로 전자 생산의 엄격한 요구 사항을 충족. 그것은 캐리어 글래스, 인터포저 글래스 및 디스플레이 관련 반도체 글래스 구성 요소를 포함하여 광범위한 반도체 유리 기판을 닦기 위해 적합합니다. 주요 ...
스크래치 무료 랩링 슬러리 세리움 산화물 스크래시브 스마트 폰 카메라 렌즈
스마트폰 카메라 렌즈용 스크래치 없는 세리움 산화물 슬러리 설명 우리의 스크래치 없는 세리움 산화물 슬러리는 스마트폰 카메라 렌즈에 최고 수준의 닦기 성능을 제공하기 위해 특별히 만들어졌습니다.표면 손상을 방지하는 동시에 우수한 표면 품질을 제공하기 위해 설계되었습니다., 이 세리움 산화물 매개체는 고품질 스마트폰 카메라에서 명확성, 스크래치 저항성 및 최소한의 왜곡을 보장하여 광 렌즈에 고정도의 마무리 작업을 달성하는 데 이상적입니다. 주요 특징: 스크래치 무료 포뮬레이션: 우리의 세리움 산화물 매립물은 매우 부드럽고 스크래치 무...
유리 닦기용 초세리움 산화물 대용품 물 기반 슬러리 안개 제거기
디스플레이 커버 글래스를 위한 세리움 산화물 슬러리 설명에 디스플레이 커버 글래스를 위한 리첸 세리움 산화물 슬러리는 디스플레이 커버 글래스를 정밀하게 닦을 수 있도록 고순도, 수산성 슬러리로 만들어졌다.스마트폰 화면 제조에 사용하도록 특별히 설계된, 태블릿 커버, 그리고 유리 터치 표면을 가진 다른 소비자 전자제품, 우리의 세리움 산화물 매개체는 탁월한 표면 품질, 향상된 광학 명성, 그리고 높은 내구성을 보장합니다. 이 용액은 스크래치, 안개, 미세 결함 같은 표면 결함을 효과적으로 제거합니다.제조업체가 전자 및 디스플레이 산업...
스크래치 제거기 지르코니아 유리 닦기 분말 세리움 산화물 슬러리 ODM
디스플레이 글래스의 미세 스크래치를 제거하기 위한 세리움 산화물 매물 설명 입자 크기:파우더는 일반적으로 초미세하고 균일한 입자 크기 분포를 특징으로하며, 이는 명확한 디스플레이에 필요한 극히 낮은 표면 거칠성을 달성하는 데 필수적입니다. 메커니즘분말은 화학적, 기계적 합력 과정을 통해 미세한 긁힘, 흐릿함, 물 얼룩, 썰매 흔적과 같은 결함을 부드럽게합니다. 호환성:온화, 가루, 스마트 폰, 태블릿, 일반 전자 디스플레이에 사용되는 다양한 커버 유리 등 다양한 종류의 유리에서 안전하게 사용할 수 있습니다. 적용:파우더는 일반적으로 ...
시리움 산화물 화합물 광학 유리 기판용 슬러리 Abrasive
유리 기판용 세리움 산화물 슬러리 설명에 유리 기판을 위한 세리움 산화물 슬러리는 다양한 유리 재료를 고밀도로 닦을 수 있도록 설계되었습니다.이 용액은 표면 부드러움을 제공합니다., 제어 된 재료 제거 및 낮은 결함 생성. 광학 수준의 마무리 및 높은 생산 일관성을 요구하는 응용 프로그램에 이상적입니다. 주요 특징 고순도 세리움 산화물: 최소한의 오염으로 효율적인 닦기를 보장하며 민감한 유리 응용 프로그램에 적합합니다. 안정적인 슬러리 분포: 일정한 닦기 성능과 반복 가능한 결과를 제공하기 위해 균일한 입자 분포를 유지합니다. 낮은 ...
유리 희토류 화합물 슬러리 세륨 산화물 보석 닦기
디스플레이 유리 생산에서 결함 제거를 위한 슬러리 설명에 디스플레이 글래스 생산에서 결함을 제거하기 위한 리첸 세리움 산화물 매물디스플레이 글라스 제조에서 결함을 효율적으로 제거하기 위해 특별히 설계된 수분 기반의 닦기 매일최적화 된 세리움 산화물 입자로 구성 된 이 매료는 매끄럽고 균일한 표면을 보장하며 경사, 구멍 및 안개와 같은 결함을 최소화합니다. 평면 화면, 터치 스크린 및 광 유리 생산에 이상적입니다.이 용액은 모든 유리 기판이 디스플레이 기술 응용에 필요한 엄격한 품질 표준을 충족시키는 것을 보장합니다.스마트폰 화면, ...
