품질 반도체 실리콘 웨이퍼 제조용 초저 결함 세리움 산화물 CMP 슬러리 공장
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품질 반도체 실리콘 웨이퍼 제조용 초저 결함 세리움 산화물 CMP 슬러리 공장
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반도체 실리콘 웨이퍼 제조용 초저 결함 세리움 산화물 CMP 슬러리

브랜드 이름: LICHEN
모델 번호: LC
원산지: 중국
인증: ISO
최소 주문 수량: 20KGS
가격: Contact us
공급 능력: 3000MT/year

제품 상세정보


청정: ≥ 99.95% 솔리드 콘텐트: 5~30중량%
입자 크기(D50): 30-120nm Ph 범위: 조절할 수 있는
제거율 균일성: 훌륭한 유통기한: 6~12개월
강조하다

극저 결함의 세리움 산화물 CMP 매일

,

반도체 웨이퍼용 세리움 산화물 매물

,

실리콘을 위한 희토류 닦기 매개

제품 설명


반도체 실리콘 웨이퍼 제조용 초저결함 산화세륨 CMP 슬러리

제품 개요

당사의 초저결함 산화세륨 CMP 슬러리는 차세대 반도체 제조의 엄격한 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다. 이 슬러리는 연마 입자와 실리콘 표면 간의 정밀한 화학-기계적 상호 작용을 제공하여 고급 노드 및 고성능 장치에 필요한 원자 규모 평탄화를 가능하게 합니다.

주요 CMP 플랫폼과의 호환성을 위해 엔지니어링된 이 슬러리는 일관된 제거율과 우수한 웨이퍼 수율 성능을 유지하면서 확장된 연마 주기 동안 안정적인 공정을 지원합니다.

주요 기술적 장점

  • 원자 수준 표면 마무리 기능
  • 고급 노드를 위한 우수한 결함 제어
  • 높은 공정 안정성
  • 스크래치 및 헤이즈 형성 감소
  • 최적화된 화학 반응성
  • 반도체 등급 순도 제어
  • 안정적인 대규모 제조 성능


입자 크기 분포응용 분야

반도체 실리콘 웨이퍼 제조용 초저 결함 세리움 산화물 CMP 슬러리 0

고급 노드 반도체 제조

  • STI 및 ILD 평탄화 지원
  • 실리콘 기판 마무리
  • CMP 공정 개발
  • 파운드리 및 IDM 제조 라인

제품 하이라이트

반도체 실리콘 웨이퍼 제조용 초저결함 산화세륨 CMP 슬러리 제품 개요 당사의 초저결함 산화세륨 CMP 슬러리는 차세대 반도체 제조의 엄격한 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다. 이 슬러리는 연마 입자와 실리콘 표면 간의 정밀한 화학-기계적 상호 작용을 제공하여 고급 노드 및 고성능 장치에 필요한 원자 규모 평탄화를 가능하게 합니다. 주요 CMP 플랫폼과의 호환성을 위해 엔지니어링된 이 슬러리는 일관된 제거율과 우수한 웨이퍼 수율 성능을 유지하면서 확장된 연마 주기 동안 안정적인 공정을 지원합니다. 주요 기술적 장점 원자 수준 표...

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