Ultra-niedrige Defekt-Ceroxid-CMP-Slurry für die Halbleiter-Siliziumwafer-Herstellung
Produktdetails
| Reinheit: | ≥ 99,95% | solider Inhalt: | 5–30 Gew.-% |
|---|---|---|---|
| Partikelgröße (D50): | 30-120 nm | pH-Bereich: | einstellbar |
| Einheitliche Abtragsrate: | Exzellent | Haltbarkeit: | 6–12 Monate |
| Hervorheben |
Ultra-niedrige Defekt-Ceroxid-CMP-Slurry,Ceroxid-Slurry für Halbleiterwafer,Seltenerd-Polierslurry für Silizium |
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Produkt-Beschreibung
Ultra-Low-Defekt-Ceroxid-CMP-Slurry für die Halbleiter-Siliziumwafer-Herstellung
Produktübersicht
Unsere Ultra-Low-Defekt-Ceroxid-CMP-Slurry wurde entwickelt, um die strengen Anforderungen der Halbleiterfertigung der nächsten Generation zu erfüllen. Die Slurry liefert eine präzise chemisch-mechanische Wechselwirkung zwischen abrasiven Partikeln und Siliziumoberflächen, was eine atomare Planarisierung ermöglicht, die für fortschrittliche Knoten und Hochleistungsgeräte erforderlich ist.
Entwickelt für die Kompatibilität mit führenden CMP-Plattformen, unterstützt die Slurry eine stabile Verarbeitung über verlängerte Polierzyklen hinweg und behält dabei konsistente Abtragsraten und eine hervorragende Wafer-Ausbeute bei.
Wichtige technische Vorteile
- Oberflächenveredelung auf atomarer Ebene
- Hervorragende Defektkontrolle für fortschrittliche Knoten
- Hohe Prozessstabilität
- Reduzierte Kratzer- und Dunstbildung
- Optimierte chemische Reaktivität
- Kontrolle der Halbleiterqualität
- Zuverlässige Leistung bei der Großserienfertigung
PartikelgrößenverteilungAnwendungen
Fortschrittliche Halbleiterfertigung
- Unterstützung der STI- und ILD-Planarisierung
- Oberflächenveredelung von Siliziumsubstraten
- CMP-Prozessentwicklung
- Fertigungsstraßen von Foundries und IDMs
Produkt-Highlights
Ultra-Low-Defekt-Ceroxid-CMP-Slurry für die Halbleiter-Siliziumwafer-Herstellung Produktübersicht Unsere Ultra-Low-Defekt-Ceroxid-CMP-Slurry wurde entwickelt, um die strengen Anforderungen der Halbleiterfertigung der nächsten Generation zu erfüllen. Die Slurry liefert eine präzise chemisch...
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