Qualität Ultra-niedrige Defekt-Ceroxid-CMP-Slurry für die Halbleiter-Siliziumwafer-Herstellung Fabrik
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Ultra-niedrige Defekt-Ceroxid-CMP-Slurry für die Halbleiter-Siliziumwafer-Herstellung

Markenbezeichnung: LICHEN
Modellnummer: LC
Herkunftsort: China
Zertifizierung: ISO
Mindestbestellmenge: 20 kg
Preis: Contact us
Versorgungsfähigkeit: 3000MT/year

Produktdetails


Reinheit: ≥ 99,95% solider Inhalt: 5–30 Gew.-%
Partikelgröße (D50): 30-120 nm pH-Bereich: einstellbar
Einheitliche Abtragsrate: Exzellent Haltbarkeit: 6–12 Monate
Hervorheben

Ultra-niedrige Defekt-Ceroxid-CMP-Slurry

,

Ceroxid-Slurry für Halbleiterwafer

,

Seltenerd-Polierslurry für Silizium

Produkt-Beschreibung


Ultra-Low-Defekt-Ceroxid-CMP-Slurry für die Halbleiter-Siliziumwafer-Herstellung

Produktübersicht

Unsere Ultra-Low-Defekt-Ceroxid-CMP-Slurry wurde entwickelt, um die strengen Anforderungen der Halbleiterfertigung der nächsten Generation zu erfüllen. Die Slurry liefert eine präzise chemisch-mechanische Wechselwirkung zwischen abrasiven Partikeln und Siliziumoberflächen, was eine atomare Planarisierung ermöglicht, die für fortschrittliche Knoten und Hochleistungsgeräte erforderlich ist.

Entwickelt für die Kompatibilität mit führenden CMP-Plattformen, unterstützt die Slurry eine stabile Verarbeitung über verlängerte Polierzyklen hinweg und behält dabei konsistente Abtragsraten und eine hervorragende Wafer-Ausbeute bei.

Wichtige technische Vorteile

  • Oberflächenveredelung auf atomarer Ebene
  • Hervorragende Defektkontrolle für fortschrittliche Knoten
  • Hohe Prozessstabilität
  • Reduzierte Kratzer- und Dunstbildung
  • Optimierte chemische Reaktivität
  • Kontrolle der Halbleiterqualität
  • Zuverlässige Leistung bei der Großserienfertigung


PartikelgrößenverteilungAnwendungen

Ultra-niedrige Defekt-Ceroxid-CMP-Slurry für die Halbleiter-Siliziumwafer-Herstellung 0

Fortschrittliche Halbleiterfertigung

  • Unterstützung der STI- und ILD-Planarisierung
  • Oberflächenveredelung von Siliziumsubstraten
  • CMP-Prozessentwicklung
  • Fertigungsstraßen von Foundries und IDMs

Produkt-Highlights

Ultra-Low-Defekt-Ceroxid-CMP-Slurry für die Halbleiter-Siliziumwafer-Herstellung Produktübersicht Unsere Ultra-Low-Defekt-Ceroxid-CMP-Slurry wurde entwickelt, um die strengen Anforderungen der Halbleiterfertigung der nächsten Generation zu erfüllen. Die Slurry liefert eine präzise chemisch...

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