Qualidade Sementes de óxido de cério CMP de defeito ultra baixo para fabricação de wafers de silício de semicondutores Fábrica
<
Qualidade Sementes de óxido de cério CMP de defeito ultra baixo para fabricação de wafers de silício de semicondutores Fábrica
>

Sementes de óxido de cério CMP de defeito ultra baixo para fabricação de wafers de silício de semicondutores

Nome da marca: LICHEN
Número do modelo: LC
Lugar de origem: China
Certificação: ISO
Quantidade mínima do pedido: 20kg
Preço: Contact us
Capacidade de abastecimento: 3000MT/year

Detalhes do produto


Pureza: ≥ 99,95% conteúdo sólido: 5-30% em peso
Tamanho de partícula (D50): 30-120nm Faixa de pH: ajustável
Uniformidade da taxa de remoção: Excelente Prazo de validade: 6–12 meses
Destacar

Lixo CMP de óxido de cério de defeito ultra baixo

,

Lâmina de óxido de cério para wafers de semicondutores

,

Laminhas de polimento de terras raras para o silício

Descrição do produto


Suspensão de Óxido de Cério de Ultra Baixo Defeito para Fabricação de Bolachas de Silício Semicondutor

Visão Geral do Produto

Nossa suspensão de óxido de cério de ultra baixo defeito foi projetada para atender aos rigorosos requisitos da fabricação de semicondutores de próxima geração. A suspensão oferece interação química-mecânica precisa entre as partículas abrasivas e as superfícies de silício, permitindo a planarização em escala atômica necessária para nós avançados e dispositivos de alto desempenho.

Projetada para compatibilidade com as principais plataformas de CMP, a suspensão suporta processamento estável em ciclos de polimento estendidos, mantendo taxas de remoção consistentes e excelente desempenho de rendimento de bolachas.

Principais Vantagens Técnicas

  • Capacidade de acabamento de superfície em nível atômico
  • Excelente controle de defeitos para nós avançados
  • Alta estabilidade do processo
  • Redução na formação de arranhões e névoa
  • Reatividade química otimizada
  • Controle de pureza de grau semicondutor
  • Desempenho confiável em fabricação em larga escala


Distribuição do Tamanho de PartículaAplicações

Sementes de óxido de cério CMP de defeito ultra baixo para fabricação de wafers de silício de semicondutores 0

Fabricação de semicondutores de nós avançados

  • Suporte de planarização STI e ILD
  • Acabamento de substrato de silício
  • Desenvolvimento de processo CMP
  • Linhas de fabricação de foundry e IDM

Destaques do Produto

Suspensão de Óxido de Cério de Ultra Baixo Defeito para Fabricação de Bolachas de Silício Semicondutor Visão Geral do Produto Nossa suspensão de óxido de cério de ultra baixo defeito foi projetada para atender aos rigorosos requisitos da fabricação de semicondutores de próxima geração. A suspensão ...

PRODUTOS CONEXOS
Qualidade Pó de Polimento de Cério Grau CMP para Óticas AR, Matrizes de Micro-Lentes e Sensores Ópticos Vestíveis Fábrica

Pó de Polimento de Cério Grau CMP para Óticas AR, Matrizes de Micro-Lentes e Sensores Ópticos Vestíveis

CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics

Qualidade Ultra-Fino Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Fábrica

Ultra-Fino Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing

Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in

Qualidade Pó de Polimento de Óxido de Cério de Alta Pureza para Fabricação de Vidro de Guia de Onda AR e Lentes Ópticas Fábrica

Pó de Polimento de Óxido de Cério de Alta Pureza para Fabricação de Vidro de Guia de Onda AR e Lentes Ópticas

High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and

Qualidade Oxalato de cério em pó Elementos reagentes químicos Fábrica

Oxalato de cério em pó Elementos reagentes químicos

Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically

Peça umas citações

Por favor, use o nosso formulário de contato online abaixo se tiver alguma pergunta, nossa equipe vai voltar para você o mais rápido possível.

Você pode carregar até 5 arquivos e cada arquivo de tamanho máximo de 10M.