Εξαιρετικά χαμηλής ατέλειας πολτός CMP οξειδίου του δημητρίου για την κατασκευή ημιαγωγών πλακετών πυριτίου
Λεπτομέρειες προιόντος
| Καθαρότητα: | ≥ 99,95% | στερεό περιεχόμενο: | 5-30% κ.β. |
|---|---|---|---|
| Μέγεθος σωματιδίων (D50): | 30-120 nm | Εύρος Ph: | ευκανόνιστος |
| Ομοιομορφία ρυθμού αφαίρεσης: | Εξοχος | Διάρκεια ζωής: | 6-12 μηνών |
| Επισημαίνω |
Πολτός CMP οξειδίου του δημητρίου εξαιρετικά χαμηλής ατέλειας,Πολτός οξειδίου του δημητρίου για ημιαγωγούς πλακέτες πυριτίου,Πολτός στίλβωσης σπάνιων γαιών για πυρίτιο |
||
Περιγραφή προϊόντων
Εξαιρετικά Χαμηλού Ελαττώματος Σκόνη Οξειδίου του Κερίου για την Κατασκευή Ημιαγωγών Πυριτικών Δίσκων
Επισκόπηση Προϊόντος
Η πάστα μας CMP με εξαιρετικά χαμηλό ελάττωμα οξειδίου του κερίου έχει σχεδιαστεί για να ανταποκρίνεται στις αυστηρές απαιτήσεις της κατασκευής ημιαγωγών επόμενης γενιάς. Η πάστα παρέχει ακριβή χημικο-μηχανική αλληλεπίδραση μεταξύ των λειαντικών σωματιδίων και των επιφανειών πυριτίου, επιτρέποντας την επιπεδοποίηση σε ατομική κλίμακα που απαιτείται για προηγμένους κόμβους και συσκευές υψηλής απόδοσης.
Σχεδιασμένη για συμβατότητα με κορυφαίες πλατφόρμες CMP, η πάστα υποστηρίζει σταθερή επεξεργασία σε εκτεταμένους κύκλους στίλβωσης, διατηρώντας σταθερούς ρυθμούς αφαίρεσης και εξαιρετική απόδοση απόδοσης δίσκων.
Βασικά Τεχνικά Πλεονεκτήματα
- Δυνατότητα φινιρίσματος επιφάνειας σε ατομικό επίπεδο
- Εξαιρετικός έλεγχος ελαττωμάτων για προηγμένους κόμβους
- Υψηλή σταθερότητα διαδικασίας
- Μειωμένος σχηματισμός γρατζουνιών και θολερότητας
- Βελτιστοποιημένη χημική δραστικότητα
- Έλεγχος καθαρότητας ημιαγωγικού βαθμού
- Αξιόπιστη απόδοση μεγάλης κλίμακας παραγωγής
Κατανομή μεγέθους σωματιδίωνΕφαρμογές
Προηγμένη κατασκευή ημιαγωγών κόμβων
- Υποστήριξη επιπεδοποίησης STI και ILD
- Φινίρισμα υποστρώματος πυριτίου
- Ανάπτυξη διαδικασίας CMP
- Γραμμές παραγωγής Foundry και IDM
Σημαντικά σημεία του προϊόντος
Εξαιρετικά Χαμηλού Ελαττώματος Σκόνη Οξειδίου του Κερίου για την Κατασκευή Ημιαγωγών Πυριτικών Δίσκων Επισκόπηση Προϊόντος Η πάστα μας CMP με εξαιρετικά χαμηλό ελάττωμα οξειδίου του κερίου έχει σχεδιαστεί για να ανταποκρίνεται στις αυστηρές απαιτήσεις της κατασκευής ημιαγωγών επόμενης γενιάς. Η πάστ...
Σκόνη στίλβωσης Κηρίου ποιότητας CMP για οπτικά AR, συστοιχίες μικροφακών & οπτικούς αισθητήρες φορητών συσκευών
CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics
Υπερτελή σκόνη γυάλωσης οξειδίου του κεριού για έξυπνα φορητά καλύμματα γυαλιού και μικρο-οπτικής τελικής κατασκευής
Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in
Σκόνη γυάλωσης με οξείδιο του κερίου υψηλής καθαρότητας για την παραγωγή γυαλιών κυματοδηγού AR και οπτικών φακών
High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and
Οξαλικό Κερίου Σκόνη Χημικό Αντιδραστήριο Στοιχεία
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
Παρακαλούμε χρησιμοποιήστε την ηλεκτρονική φόρμα επικοινωνίας παρακάτω αν έχετε οποιεσδήποτε ερωτήσεις, η ομάδα μας θα επικοινωνήσει μαζί σας το συντομότερο δυνατό.
