น้ำยาขัดเซเรียมออกไซด์แบบมีตำหนิต่ำพิเศษสำหรับการผลิตแผ่นเวเฟอร์ซิลิคอนเซมิคอนดักเตอร์
รายละเอียดสินค้า
| ความบริสุทธิ์: | ≥ 99.95% | เนื้อหาที่เป็นของแข็ง: | 5-30% โดยน้ำหนัก |
|---|---|---|---|
| ขนาดอนุภาค (D50): | 30-120 นาโนเมตร | ช่วงพีเอช: | ปรับได้ |
| ความสม่ำเสมอของอัตราการกำจัด: | ยอดเยี่ยม | อายุการเก็บรักษา: | 6–12 เดือน |
| เน้น |
น้ำยาขัดเซเรียมออกไซด์แบบมีตำหนิต่ำพิเศษ,น้ำยาเซเรียมออกไซด์สำหรับเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์,น้ำยาขัดหายากสำหรับซิลิคอน |
||
คําอธิบายสินค้า
อุปกรณ์บกพร่องต่ํามาก Cerium Oxide CMP Slurry สําหรับการผลิตแผ่นซิลิคอนของครึ่งตัวนํา
ภาพรวมสินค้า
สารสับซ้อน CMP ของเราที่มีความบกพร่องต่ํามากของเซเรียมโอไซด์ ถูกออกแบบมาเพื่อตอบสนองความต้องการที่เข้มงวด ของการผลิตครึ่งตัวนํารุ่นใหม่หมากรุกให้การปฏิสัมพันธ์ทางเคมีและกลไกที่แม่นยํา ระหว่างอนุภาคบดและพื้นผิวซิลิคอน, ทําให้สามารถปรับระดับระดับอะตอมที่จําเป็นสําหรับหน่วยที่ก้าวหน้าและอุปกรณ์ที่มีผลงานสูง
ออกแบบมาเพื่อให้เข้ากันได้กับแพลตฟอร์ม CMP อันดับต้นๆสารสับสนุนการแปรรูปที่มั่นคงตลอดรอบรอบการเคลือบยาวนาน โดยยังคงความเร็วในการกําจัดที่คงที่และผลิตผลผลผลิตของกระดาษแผ่นที่ดี.
ข้อดีทางเทคนิคสําคัญ
- ความสามารถในการบํารุงผิวบนระดับอะตอม
- การควบคุมความบกพร่องที่ดีเยี่ยมสําหรับหน่วยขั้นสูง
- ความมั่นคงของกระบวนการสูง
- ลดการกัดและการสร้างหมอก
- อัตราปฏิกิริยาทางเคมีที่ดีที่สุด
- การตรวจสอบความบริสุทธิ์ในระดับครึ่งตัวนํา
- ผลงานการผลิตขนาดใหญ่ที่น่าเชื่อถือ
การกระจายขนาดอนุภาคการสื่อสาร
การใช้งาน
- การผลิตครึ่งตัวนําแบบพัฒนา
- การสนับสนุนการปรับระดับ STI และ ILD
- การทําปลายพื้นฐานซิลิคอน
- การพัฒนากระบวนการ CMP
- สายการผลิตโรงหล่อและ IDM
จุดเด่นของผลิตภัณฑ์
อุปกรณ์บกพร่องต่ํามาก Cerium Oxide CMP Slurry สําหรับการผลิตแผ่นซิลิคอนของครึ่งตัวนํา ภาพรวมสินค้า สารสับซ้อน CMP ของเราที่มีความบกพร่องต่ํามากของเซเรียมโอไซด์ ถูกออกแบบมาเพื่อตอบสนองความต้องการที่เข้มงวด ของการผลิตครึ่งตัวนํารุ่นใหม่หมากรุกให้การปฏิสัมพันธ์ทางเคมีและกลไกที่แม่นยํา ระหว่างอนุภาคบดแล...
Competitive price for Lanthanum Sulfate Rare Earth Material White Powdery Crystal
Lanthanum Sulfate Molecular Formula: La₂(SO₄)₃ Appearance : White crystalline or white powder Solubility : Soluble in water, aqueous solution weakly acidic Characteristics : Good thermal stability, rare earth neutral salt Applications : Chemical reagent, catalyst, raw material for lanthanum salts, glass additive, optical materials Item Specification Testing Standard Item La 2 (SO 4 ) 3 -4N La 2 (SO 4 ) 3 -5N TREO(wt%) ≥30 ≥30 La 2 O 3 /TREO ≥99.99 ≥99.999 GB/T 18115.1 CeO 2
CeF3 Cerium Fluoride Crystal High Purity 99.99% For Optical Coating
CeF3 Crystal Cerium Fluoride High Purity 99.99% for Optical Coating or Suxiliary Solvent Molecular Formula: CeF₃ Appearance: Cerium fluoride is a white powder Application: Used as high-purity chemical and coating material Item Specification Testing Standard I tem CeF 3 -3N5 CeF 3 -4N CeF 3 -4N5 CeF 3 -5N TREO(wt%) ≥80 ≥80 ≥80 ≥80 Rare Earth Relative Purity (wt%) La 2 O 3 /TREO ≤0.01 ≤0.005 ≤0.003 ≤0.0004 GB/T 18115.2 CeO 2 /TREO ≥99.95 ≥99.99 ≥99.995 ≥99.999 Pr 6 O 11 /TREO
High Quality 99%Min Purity Rare Earth Material Lanthanum Hydroxide Powder
Lanthanum Hydroxide Appearance: white powder or crystals , slightly soluble in water . Basic Properties Chemical Formula : Appearance : White powder, granules or crystals Solubility : Slightly soluble in water, soluble in strong acids Characteristics : Readily absorbs in air to form lanthanum carbonate; decomposes into lanthanum oxide at 260 °C Applications : Catalysts, glass additives, preparation of lanthanum salts, ceramics, electronic materials 99%min Purity Rare Earth
Aluminum Oxide Polishing Powder For Automotive Paint & Varnish Finishing
Aluminum Oxide Polishing Powder For Automotive Paint & Varnish Finishing Product Overview This alumina polishing powder is developed for automotive coating and varnish polishing applications. It provides efficient leveling of clear coats and varnish layers while producing uniform gloss and smooth surface finishing. The material is widely used in OEM paint shops and automotive refinishing systems. Key Features Excellent coating leveling ability Controlled abrasion rate High
กรุณาใช้แบบสอบถามทางออนไลน์ด้านล่าง หากคุณมีคําถาม ทีมงานของเราจะติดต่อกลับกับคุณในเร็วที่สุด
