반도체 닦는 Ceo2 산화물 슬러리 고정도 1.0μm
제품 상세정보
| 입자 크기: | 1.0±0.2μm | CAS 번호: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CEO₂: | 99% | 정지율: | 높은 |
| Ph 범위: | 7-10 | 공식화: | 맞춤형 |
| 강조하다 |
롤링 옥시드 매립물,10.0μm 산화물 매일,롤링 ceo2 매립물 |
||
제품 설명
고정밀 반도체 제조용 닦기 슬러리
개요:
반도체 제조에 필요한 고성능 닦기 용액은 반도체 산업의 까다로운 요구를 충족시키기 위해 설계되었습니다.이 매료는 웨이퍼 표면 마무리에서 우수한 정밀도를 제공합니다., 다음 세대의 반도체 장치에 필수적인 초 부드러운 표면을 보장합니다.
주요 특징:
고순도 세리움 산화물: 뛰어난 닦기 효율과 세밀한 표면 완비를 제공하기 위해 첨단 세리움 산화물 기술을 사용합니다.
우수한 제거 속도: 최소한의 표면 결함으로 정밀 물질 제거를 위해 최적화되어 고급 반도체 웨이퍼 응용 프로그램에 이상적입니다.
다재다능한 응용: 실리콘, 갈륨 아르세나이드 (GaAs) 및 기타 복합 반도체 등 광범위한 반도체 재료에 설계되었습니다.
낮은 오염: 높은 순수성과 반도체 제조 프로세스와 호환성을 보장하는 이온 오염의 감소 수준.
일관성 품질: 엄격한 품질 관리 표준에 따라 제조되며 각 팩에 대한 균일 분산과 일관성을 보장합니다.
기술 데이터
| 분자 공식 | CAS 번호 | CeO2 % | D50 (μm) | 외모 | 적용 |
| CeO2 | 1306-38-3 | 99% | 10.0±0.2 | 백색 매물 | 반도체 |
질문 및 답변
1희토류 가늘게 닦는 분말이란 무엇입니까?
희토류 가루는 광학 부품, 반도체 웨이퍼, 그리고 유리와 렌즈와 같은 섬세한 표면을 가리는 데 사용되는 고순도의 화합물입니다.소재를 손상시키지 않고 높은 선명성 가공.
2제 응용 프로그램에 적합한 희토류 가루를 어떻게 선택할 수 있습니까?
이상적인 닦는 분말을 선택하려면 닦는 재료, 필요한 완성도, 입자 크기와 순수성 등의 사양을 고려하십시오.우리의 판매 팀은 귀하의 필요에 대한 완벽한 제품을 선택하는 데 도움이 사용할 수 있습니다.
3희토류 가루를 어떻게 보관해야 할까요?
시원하고 건조한 곳에 보관하고, 습기와 직접 햇빛으로부터 멀리 보관하십시오.보통 1~2년 정도 지속됩니다..
4특화된 희토류 제조품을 제공하시나요?
예, 우리는 특화된 희토류 가루와 용액을 제공합니다. 분자 크기, 화학 성분 또는 용액의 일관성을 조정하는 등 귀하의 특정 필요에 맞게 조정됩니다.
5대량 주문하기 전에 샘플을 받을 수 있나요?
절대적으로! 우리는 평가를 위해 샘플을 제공합니다. 샘플을 요청하기 위해 우리의 팀에 연락하고, 우리는 배송을 준비합니다.
6어떻게 주문을 할 수 있나요? 일반적인 배송시간은 얼마인가요?
주문을 하기 위해, 단순히 우리의 판매 팀과 연락, 그들은 과정을 통해 당신을 안내하고 공고를 제공 합니다. 배달 시간은 주문 크기와 위치, 그리고 재고 가용성에 따라 다릅니다.주문이 확정되면 예상 스케줄을 알려드리겠습니다.
제품 하이라이트
고정밀 반도체 제조용 닦기 슬러리 개요: 반도체 제조에 필요한 고성능 닦기 용액은 반도체 산업의 까다로운 요구를 충족시키기 위해 설계되었습니다.이 매료는 웨이퍼 표면 마무리에서 우수한 정밀도를 제공합니다., 다음 세대의 반도체 장치에 필수적인 초 부드러운 표면을 보장합니다. 주요 특징: 고순도 세리움 산화물: 뛰어난 닦기 효율과 세밀한 표면 완비를 제공하기 위해 첨단 세리움 산화물 기술을 사용합니다. 우수한 제거 속도: 최소한의 표면 결함으로 정밀 물질 제거를 위해 최적화되어 고급 반도체 웨이퍼 응용 프로그램에 이상적입니다. 다재다...
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