50nm Σύνθεση σπάνιων γαιών Ceria Cerium Oxide Ceo2 Νανόσκονη
Λεπτομέρειες προιόντος
| Φυσικό μέγεθος: | 325 Δίκτυο | Μέγεθος: | 1-2 μμ |
|---|---|---|---|
| εφαρμογή: | χρησιμοποιείται για βολφράμιο και μολυβδαίνιο | Πακέτο: | Σακούλα αλουμινίου, συσκευασία κενού |
| Σημείο Τήξης: | 2315 °C | Περιεχόμενο μολύβδου: | ≤0.0005% |
| Περιεχόμενο: | 99%-99.999% | Εφαρμογές: | Καταλύτες, φώσφοροι, γυάλισμα γυαλιού, ηλεκτρονικά |
| Δείγμα: | Διαθέσιμος | Διαλυτότητα στο νερό: | Αδιάλυτο στο νερό, μέτρια |
| Τύπος προϊόντος: | μέταλλο σπάνια γαίας | Πρότυπο προτύπου: | Εθνικό Πρότυπο |
| Μοριακό βάρος: | 747.69 | Πατικό μέγεθος: | D50=0.6-1.0um |
| TERO: | >99% | ||
| Επισημαίνω |
50nm Συνδυασμός σπάνιων γαιών,Νανόσκονη από σύνθετα σπάνιων γαιών,Νανόσκονη οξειδίου του κερίου 50 nm |
||
Περιγραφή προϊόντων
50 nm Συνδυασμός σπάνιων γαιών Ceria (οξείδιο του κερίου) CeO2 Νανόσκονη
Σύνοψη:
Λυχνίο 50 nm Συνδυασμός σπάνιων γαιών Σήρια (οξείδιο του σέριου) CeO2 Νανόσκονη είναι υλικό υψηλής ποιότητας σε νανοκλίμακα που έχει σχεδιαστεί για εφαρμογές που απαιτούν ακριβή έλεγχο του μεγέθους των σωματιδίων, μεγάλη επιφάνεια,και σταθερές χημικές επιδόσειςΜε μέσο μέγεθος σωματιδίων περίπου 50 νανομέτρων, αυτή η νανορούφη προσφέρει αυξημένη αντιδραστικότητα, συμπεριφορά διασποράς,και λειτουργικές επιδόσεις σε σύγκριση με τις συμβατικές σκόνες οξειδίου του κερίου σε κλίμακα μικρών.
Χρησιμοποιείται ευρέως στην προηγμένη γυάλωση, τους καταλύτες, τα ενεργειακά υλικά, τις επικαλύψεις και την Ε&Α, όπου οι ιδιότητες των υλικών σε νανοεπίπεδο είναι απαραίτητες.
Βασικά χαρακτηριστικά και πλεονεκτήματα
Μέγεθος σωματιδίων σε νανοκλίμακα (~ 50 nm)
Παρέχει υψηλή ειδική επιφάνεια και βελτιωμένη λειτουργική απόδοση.
Οξείδιο του κερίου υψηλής καθαρότητας (CeO2)
Τα χαμηλά επίπεδα προσμείξεων εξασφαλίζουν αξιόπιστη απόδοση σε ευαίσθητες εφαρμογές.
Εξαιρετικά χαρακτηριστικά διασποράς
Σχεδιασμένο για σταθερή διασπορά σε υδατικά και διαλύτες συστήματα.
Ενισχυμένη Χημική Δραστηριότητα
Η κηρία σε νανοκλίμακα προσφέρει ανώτερη αναγωγική συμπεριφορά και επιφανειακή δραστηριότητα.
Συνεπής ποιότητα παρτίδας
Ο αυστηρός έλεγχος ποιότητας εξασφαλίζει επαναληπτή απόδοση σε όλες τις παρτίδες παραγωγής.
Τυπικές εφαρμογές
Προχωρημένη λαξευτική και CMP
Υπερτελής επιφάνειας για οπτική, γυαλί και υποστρώματα ημιαγωγών.
Καταλύτες και υποστηρικτές καταλύτη
Καταλύτες καυσαερίων αυτοκινήτων, χημικοί καταλύτες και περιβαλλοντικές εφαρμογές.
Ενέργεια και λειτουργικά υλικά
Στερεά οξείδια κυψελών καυσίμου (SOFC), υλικά αποθήκευσης οξυγόνου και έρευνα για μπαταρίες.
Επιχρίσεις και επεξεργασίες επιφάνειας
Λειτουργικές επικάλυψεις που απαιτούν αυξημένη σκληρότητα ή χημική σταθερότητα.
Έρευνα & Ανάπτυξη
Πανεπιστήμια, εργαστήρια και προηγμένα ερευνητικά ιδρύματα υλικών.
Σημαντικά σημεία του προϊόντος
50 nm Συνδυασμός σπάνιων γαιών Ceria (οξείδιο του κερίου) CeO2 Νανόσκονη Σύνοψη: Λυχνίο 50 nm Συνδυασμός σπάνιων γαιών Σήρια (οξείδιο του σέριου) CeO2 Νανόσκονη είναι υλικό υψηλής ποιότητας σε νανοκλίμακα που έχει σχεδιαστεί για εφαρμογές που απαιτούν ακριβή έλεγχο του μεγέθους των σωματιδίων, μεγάλ...
Σκόνη στίλβωσης Κηρίου ποιότητας CMP για οπτικά AR, συστοιχίες μικροφακών & οπτικούς αισθητήρες φορητών συσκευών
CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics
Υπερτελή σκόνη γυάλωσης οξειδίου του κεριού για έξυπνα φορητά καλύμματα γυαλιού και μικρο-οπτικής τελικής κατασκευής
Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in
Σκόνη γυάλωσης με οξείδιο του κερίου υψηλής καθαρότητας για την παραγωγή γυαλιών κυματοδηγού AR και οπτικών φακών
High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and
Οξαλικό Κερίου Σκόνη Χημικό Αντιδραστήριο Στοιχεία
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
Παρακαλούμε χρησιμοποιήστε την ηλεκτρονική φόρμα επικοινωνίας παρακάτω αν έχετε οποιεσδήποτε ερωτήσεις, η ομάδα μας θα επικοινωνήσει μαζί σας το συντομότερο δυνατό.
