Kualitas 1.0um Zirconium Oxide Slurry Polishing Compound Solution Berbasis Air Pabrik
<
Kualitas 1.0um Zirconium Oxide Slurry Polishing Compound Solution Berbasis Air Pabrik
Kualitas 1.0um Zirconium Oxide Slurry Polishing Compound Solution Berbasis Air Pabrik
>

1.0um Zirconium Oxide Slurry Polishing Compound Solution Berbasis Air

Nama merek: LICHEN
Nomor Model: DZ001S
Tempat Asal: Cina
Sertifikasi: ISO9001
Jumlah pesanan minimum: 20KGS
Harga: NEGOCIABLE
Kemampuan Penyediaan: 3000MT/tahun

Rincian produk


D50/um: 1.0-1.3 pH: 6-7
Konten Padat%: 23-27 Aplikasi: Poles Bahan Lembut
Menyoroti

Limbah sirkonium oksida

,

bubur oksida berbasis air

,

1.0um senyawa polishing aluminium oksida

Deskripsi Produk

Larutan polishing zirconium oxide dengan distribusi ukuran partikel yang sempit

Gambaran umum:

Lichen Zirconium Oxide Polishing Solution dengan Distribusi Ukuran Partikel yang Sempit adalah kinerja tinggi,larutan polishing zirconia berbasis air yang dirancang untuk aplikasi yang membutuhkan seragam permukaan yang tinggiDengan menggunakan partikel zirconium oksida yang diklasifikasikan dengan tepat, solusi ini memberikan konsistensi,perilaku polishing yang dapat diprediksi di atas substrat optik dan kaca yang sensitif.

Dirancang untuk lingkungan manufaktur optik canggih, solusi ini mendukung kualitas permukaan berulang, mengurangi micro-garuk,dan kinerja yang stabil dalam sistem polesan otomatis dan manual.

 

Fitur & Keuntungan Utama

Distribusi ukuran partikel sempit (PSD)
Partikel zirconia yang dikontrol ketat memberikan tindakan pemotongan yang seragam dan peningkatan konsistensi permukaan.

Kinerja Polishing dengan Goresan Rendah
Meminimalkan micro-garuk, kabut, dan permukaan tidak seragam, terutama pada bahan kaca sensitif.

Zirconium oxide dengan kemurnian tinggi
Tingkat kekotoran yang rendah mengurangi risiko kontaminasi dan mendukung finishing kelas optik.

Formulasi Berbasis Air yang Stabil
Stabilitas dispersi yang sangat baik memastikan kinerja polesan yang konsisten selama operasi yang diperpanjang.

Kompatibilitas Proses & Peralatan
Cocok untuk berbagai pad polesan, alat, dan peralatan polesan presisi.

 

Data Teknis

Rumus Molekuler Nomor CAS. PH D50 (μm) Penampilan Aplikasi
ZrO2 1314-23-4 6-7 10,0-1,3 μm Limbah Putih Pengelasan Bahan Lembut

 

Distribusi ukuran partikel

1.0um Zirconium Oxide Slurry Polishing Compound Solution Berbasis Air 0

 

Pertanyaan dan Jawaban

1Bisakah aku mendapatkan sampel sebelum melakukan pesanan massal?

Kami menyediakan sampel untuk evaluasi. hubungi tim kami untuk meminta sampel, dan kami akan mengatur pengiriman.

2Bagaimana saya bisa memesan?

Untuk melakukan pesanan, cukup hubungi tim penjualan kami, yang akan memandu Anda melalui proses dan memberikan penawaran.Waktu pengiriman bervariasi berdasarkan ukuran pesanan, lokasi, dan ketersediaan stok, dan kami akan memberi Anda perkiraan jadwal setelah pesanan dikonfirmasi.

Sorotan Produk

Larutan polishing zirconium oxide dengan distribusi ukuran partikel yang sempit Gambaran umum: Lichen Zirconium Oxide Polishing Solution dengan Distribusi Ukuran Partikel yang Sempit adalah kinerja tinggi,larutan polishing zirconia berbasis air yang dirancang untuk aplikasi yang membutuhkan seragam ...

Produk terkait
Kualitas Bubuk Poles Ceria Tingkat CMP untuk Optik AR, Susunan Lensa Mikro & Sensor Optik yang Dapat Dipakai Pabrik

Bubuk Poles Ceria Tingkat CMP untuk Optik AR, Susunan Lensa Mikro & Sensor Optik yang Dapat Dipakai

CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics

Kualitas Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder Untuk Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Pabrik

Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder Untuk Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing

Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in

Kualitas Powder Polishing Cerium Oxide Kemurnian Tinggi Untuk AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Pabrik

Powder Polishing Cerium Oxide Kemurnian Tinggi Untuk AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing

High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and

Kualitas Bubuk Oksalat Serium Reagen Kimia Unsur Pabrik

Bubuk Oksalat Serium Reagen Kimia Unsur

Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically

Minta Kutipan

Silakan gunakan formulir kontak pertanyaan online kami di bawah ini jika Anda memiliki pertanyaan, tim kami akan menghubungi Anda sesegera mungkin.

Anda dapat mengunggah hingga 5 file dan setiap file ukuran 10M max.