1.0um Óxido de zirconio Slurry Polishing Compound Solución a base de agua
Detalles del producto
| D50/um: | 1.0-1.3 | pH: | 6-7 |
|---|---|---|---|
| Sólido el Content%: | 23-27 | solicitud: | Pulido de materiales blandos |
| Resaltar |
Esparcimiento de óxido de circonio,Esparcimiento de óxido a base de agua,1.0um compuesto de pulido de óxido de aluminio |
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Descripción de producto
Solución de pulido de óxido de circonio con una distribución estrecha del tamaño de las partículas
Resumen general:
Solución de pulido de óxido de circonio de liquen con distribución de tamaño de partícula estrecha es de alto rendimiento,solución de pulido de zirconio a base de agua diseñada para aplicaciones que requieren una alta uniformidad de la superficieEsta solución, mediante la utilización de partículas de óxido de circonio clasificadas con precisión, ofrece unacomportamiento de pulido predecible en sustratos ópticos y de vidrio sensibles.
Diseñada para entornos de fabricación óptica avanzada, la solución admite calidad de superficie repetible, reducción de micro arañazos,y rendimiento estable en sistemas de pulido automáticos y manuales.
Características y ventajas clave
Distribución del tamaño de partícula estrecha (PSD)
Las partículas de zirconio controladas de forma estricta proporcionan una acción de corte uniforme y una mejor consistencia superficial.
Rendimiento de pulido bajo de arañazos
Minimiza los micro arañazos, la niebla y la no uniformidad de la superficie, especialmente en materiales de vidrio sensibles.
Óxido de zirconio de alta pureza
Los bajos niveles de impurezas reducen el riesgo de contaminación y apoyan los acabados ópticos.
Formulación estable a base de agua
Una excelente estabilidad de dispersión garantiza un rendimiento de pulido constante durante el funcionamiento prolongado.
Compatibilidad de procesos y equipos
Adecuado para una amplia gama de almohadillas, herramientas y equipos de pulido de precisión.
Datos técnicos
| Fórmula molecular | No CAS. | PH | D50 (μm) | Apariencia | Aplicación |
| ZrO2 | 1314-23-4 y | 6 y 7 | 10,0-1,3 μm | Esparcimiento blanco | Polishing de materiales blandos |
Distribución del tamaño de las partículas
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Lo más destacado del producto
Solución de pulido de óxido de circonio con una distribución estrecha del tamaño de las partículas Resumen general: Solución de pulido de óxido de circonio de liquen con distribución de tamaño de partícula estrecha es de alto rendimiento,solución de pulido de zirconio a base de agua diseñada para ...
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