Polvo de pulido de Ceria de grado CMP para óptica AR, matrices de microlentes y sensores ópticos portátiles
Detalles del producto
| Pureza: | 99,99% | Tarifa del retiro: | Controlado de alta precisión |
|---|---|---|---|
| Tamaño medio de partículas: | 0,2 – 0,3 µm | Estabilidad de dispersión: | Excelente |
| apariencia: | Polvo fino amarillo claro | Nivel de impureza: | ultrabajo |
| Resaltar |
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Descripción de producto
Polvo de pulido de cerio de grado CMP para ópticas AR, matrices de microlentes y sensores ópticos portátiles
Descripción general del producto
Este polvo de pulido de cerio de grado CMP está diseñado para componentes microópticos de próxima generación utilizados en dispositivos portátiles de AR, sensores ópticos y sistemas de imagen miniaturizados.
Con reactividad controlada e ingeniería de partículas ultrafinas, el producto permite un acabado superficial a nivel atómico requerido para un rendimiento óptico de alta resolución e integración fotónica avanzada.
Adecuado tanto para la preparación de suspensiones como para procesos CMP personalizados.
Ventajas técnicas clave
Formulación compatible con CMP
Generación de superficies ultra lisas
Daño subsuperficial mínimo
Excelente calidad de transmisión óptica
Diseñado para el procesamiento de óptica a nivel de semiconductores
Distribución del tamaño de partículaAplicaciones
Pulido de matrices de microlentes
- Componentes de sensores ópticos
- Ópticas de proyección AR
- Dispositivos ópticos MEMS
- Ópticas fotónicas y láser
- Obleas ópticas de precisión
- ¿Por qué elegir Lichen como su proveedor global?
Fabricante dedicado de pulido de cerio y alúmina
- Cadena de suministro estable de materias primas de tierras raras
- Capacidad de ingeniería de partículas personalizada
- Control de calidad consistente lote a lote
- Soporte técnico para la optimización del proceso de pulido
Lo más destacado del producto
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