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CeO2セリウム稀土磨き粉 LCD OLEDディスプレイパネル用
高解像度ディスプレイパネル用ポリシング粉 記述 高解像度向けに特別に設計された 高精度セリウム酸化物 (CeO2) 磨き粉で 市場に必要な 極度の透明性とピクセル完璧な表面を 提供します 4K/8K LCD,OLED,Micro LEDを含むディスプレイパネル- この高純度粉末は,均一な光放出と高密度のピクセルアライナインメントに必要なナノメートル未満の表面平らさを提供します. 私たちの製剤は 精密な粒子を利用して 超光滑な仕上げをします 光の散乱を最小限にします 卓越したパフォーマンス 滑らかさ: 0.3nm未満の表面荒さ (Ra) 値を達成するために設計され,PPI (ピクセル/インチ) ...
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オプティカルグラス ポーリング ホルミウム稀土酸化物 Ho2O3 白い粉
オプティカルグラス ポーリング ホルミウム稀土酸化物 Ho2O3 白い粉 概要: ホルミウムオキシド (Ho2O3) ホワイトパウダーは,光学ガラス仕上げと精密表面処理のために設計された特殊な稀土オキシド磨き材料です. 安定した化学的特性により,微粒子の制御Ho2O3は,表面質,一貫性,光学性能が重要な高精度磨きプロセスで使用されます. ライトン・ホルミウムオキシドは,光学ガラス製造,研究研究室,先進的な仕上げアプリケーションの厳格な要件を満たすために製造されています. 主要 な 特徴 と 利点 光学レベル 純度 高度な純度で最小限の汚染と一貫した磨き動作が保証されます 細白粉末の形状 ポリシ...
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高純度稀土酸化物 エルビウム酸化物粉末 Er2O3 光るガラス用
高純度稀土酸化物 エルビウム酸化物粉末 (Er2O3) ライトグラス用 概要: リチェン高純度エルビウム酸化物粉 (Er2O3) は,光源性および光学活性ガラスシステムのために開発された高級稀土酸化物である.エルビウムオキシドは,特殊ガラスにおける活性化剤と変容剤として広く使用されています特徴的な放出特性,優れた光学安定性,長期にわたる発光性能を提供します. 精密な粉末形状と 信頼性の高いバッチ一貫性により この製品は 輝くガラス,装飾用光学ガラス, 光子部品,そして先進的なガラス製剤. 主要 な 特徴 と 利点 高純度 Er2O3 低不純度レベルは,ガラスマトリスの安定した光学および発光行動...
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20kg稀土酸化ガドリニウム Gd2O3 トレオ 99% ネオジム金属粉末
稀土酸化物 ガドリニウム酸化物 (Gd2O3) 概要: リッセンガドリニウム酸化物 (Gd2O3) は,産業用級の稀土酸化物で,総稀土酸化物 (TREO) 含有量は ≥99%で,安定かつ費用対効果の高い産業用に使用するために20kgの大量パッケージで供給されています.磁気で知られています電子材料,光学ガラス,セラミック,触媒,磁気アプリケーションに広く使用されています. 厳格な品質管理の下で製造されたこの製品は,一貫した化学組成,信頼性の高い性能,幅広い産業用用途で優れたプロセス互換性を提供します. 主要 な 特徴 と 利点 高いTREO含有量 (≥99%) 安定した性能と信頼性の高い材料の品...
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化合物稀土酸化物 Eu2O3 発光ガラスのためのヨーロッパ酸化物粉
Eu2O3 يورピウム オキシド 粉末 投光ガラス 概要: リヒン Eu2O3 ユーロピウムオキシド粉末は,発光ガラスおよび発光ガラス製造のために特別に開発された高品質の稀土化合物オキシドである.玻璃システムにおける重要なアクティベーターである特殊ガラス製剤に組み込まれると強い赤色放出,高い色純度,安定した発光性能を提供します. 制御された純度,細粒子の特性, 優れた化学的安定性, この製品は機能ガラス,ディスプレイ材料,恒常的な熒光と長期安定性が求められる光学照明アプリケーション. 主要 な 特徴 と 利点 優れた発光特性 ユーロピウムイオンはガラスのマトリックスで高い色純度で強い赤色熒光...
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La2O3 ランタン酸化物粉 99.99% ガラスレンズ用
La2O3 ランタン酸化物粉 99.99% ガラスレンズ用 概要: リッセンラ2O3ランタンオキシド粉 (99.99%) は,光学ガラスおよびガラスレンズ製造のために特別に生産された高純度稀土酸化物です.優れた化学的純度で,均一な粒子の特性この材料は高屈折率光学ガラスにおける主要な添加物として広く使用され,優れた光学性能とプロセス信頼性を可能にします. ランタン酸化物は屈折率,分散制御,光学透明性を向上させる上で重要な役割を果たします精密レンズと先進的な光学部品のための不可欠な原材料になります. 主要 な 特徴 と 利点 高度な純度 (99.99%) 極低の不純度レベルは,一貫した光学特性を確...
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50nm レアアース化合物 セリア セリアオキシド Ceo2 ナノパウダー
50 nm 希少土の化合物 セリア (セリアオキシド) CeO2 ナノパウダー 概要: リッセン 50 nm 希少地球化合物 セリア (セリア酸化物) CeO2 ナノパウダーは,精密な粒子のサイズ制御,大きな表面面積,安定した化学性能このナノパウダーは 平均粒子の大きさは約50ナノメートルで 反応性や分散性を高め標準的なミクロンスケールセリウムオキシド粉末と比較して. 高度な磨き,触媒,エネルギー材料,コーティング,およびR&Dで広く使用されており,ナノレベルの材料特性が不可欠です. 主要 な 特徴 と 利点 ナノスケール粒子サイズ (~50nm) 高固有表面積と機能効率を向上させる. 高純度...
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高純度極細磨き酸化セリウム粉 99.999%
精密光学・半導体磨き用超清潔5Nセリウム酸化物 概要: 高純度極細セリウムオキシド磨き粉 (99.999%) は,最高級の5Nセリウム酸化物 (CeO2) で,最も要求の高い精密磨きおよび表面加工アプリケーションのために設計されています.極低の不純度と狭い微細な粒子の大きさ分布により,この製品は例外的な表面の滑らかさ,最小限の欠陥生成,高重複性のある磨き性能. 特別に設計されたのは 先進的な光学,半導体基板,光子学,高価なガラス部品で 微小な汚染や表面損傷さえも 許容できません 主要 な 特徴 と 利点 超高純度 (5N,99.999%) 非常に少ない金属とイオン不純物により,敏感なプロセスで...
希少土の磨きスローリーは,しばしばセリウム酸化物 ((CeO_{2})) を主要成分として含んでいる. グラス,光学レンズの超精密磨きに使用される高度な高性能磨き剤です.液晶画面これらのスローリーは,高い除去率,優れた表面仕上げ,最小限の地下表面損傷を提供します.特定の用途のためにランタンと他の元素と頻繁に混合されている. 希少土の磨きスラムの主要側面:組成:主にセリウム酸化物,しばしばランタン ((La_{2}O_{3})),プラセオジム,またはフッ素で強化,表面を滑らかにするために優れた硬さと化学反応性を有する. 応用:光学産業 (レンズ,鏡),電子機器 (タッチスクリーン,HDDガラス基...
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稀土の磨き粉は,しばしば"磨き粉の王"と呼ばれています.これは,ガラス,光学,半導体材料高速で選択性の高い 滑らかで損傷のない表面を保証します 主要な特徴と種類 組成:主に (CeO_{2}) (高級の場合はしばしば> 90%),ランタン ((La_{2}O_{3}),プラセオジム,微量フッ素を含む.色:白から茶色,通常セリウム濃度を示す. キープロパティ: 高切断力,長寿命,自動懸垂,仕上げに役立ちます. 粒子の大きさ ((D_{50})): 通常,0.90から2.00 (mu m) までの範囲で,さまざまなアプリケーションに使用されます. 一般的な用途 グラス仕上げ:鏡,フラットグラス,シ...
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