品質 高純度極細磨き酸化セリウム粉 99.999% 工場
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高純度極細磨き酸化セリウム粉 99.999%

ブランド名: LICHEN
原産地: 中国
認証: ISO9001
最小注文数量: 20KGS
価格: NEGOCIABLE
供給能力: 3000MT/year

製品詳細


応用: 光学ガラス、結晶性材料 使用法: セラミックス、ガラス、蛍光体
キーワード: セリウムの酸化物の磨く粉 分子量: 392.24 G/mol
密度: 4.5 ~ 7.0 g/cm3 (特定の酸化物によって異なります) 紫外線分離率: UVB>90% UVA>60%
アプリケーション: 触媒、磁石、蛍光体、セラミックス CAS: 13709-42-7
サンプル: 利用可能 純度: 99.9%以上
パッキング: 50kg/太鼓 式: Y2O3
水への溶解度: 水に中程度に不溶性 色: 白からオフホワイトまで
化学式: イットリウム
ハイライト

高純度セリウム粉

,

超細質セリウム粉

,

ガラスを磨くための細いセリウム酸化物

製品の説明

精密光学・半導体磨き用超清潔5Nセリウム酸化物

 概要:

高純度極細セリウムオキシド磨き粉 (99.999%) は,最高級の5Nセリウム酸化物 (CeO2) で,最も要求の高い精密磨きおよび表面加工アプリケーションのために設計されています.極低の不純度と狭い微細な粒子の大きさ分布により,この製品は例外的な表面の滑らかさ,最小限の欠陥生成,高重複性のある磨き性能.

特別に設計されたのは 先進的な光学,半導体基板,光子学,高価なガラス部品で 微小な汚染や表面損傷さえも 許容できません

 

主要 な 特徴 と 利点

超高純度 (5N,99.999%)

非常に少ない金属とイオン不純物により,敏感なプロセスでの汚染リスクが軽減されます.

超細粒子の大きさ分布

表面の滑らかさで 制御された 柔らかい素材の除去を可能にします

低欠陥生成

微小な傷や霧や穴や 地下損傷を最小限に抑える

優れたバッチ一致性

高精度製造で安定した磨き性能を保証します

高化学・機械的な磨き効率

最適化されたセリウム化学は,ガラスや酸化物表面の磨き選択性と効率性を向上させる.


典型的な用途

精密光学磨き

レンズ,プリズム,窓,レーザー光学


半導体&ガラス・ウェーファー仕上げ

ガラスのウエファー,オキシド層,特殊な基板の磨き

 

フォトニクス&ディスプレイグラス

フォトニック部品や高度なディスプレイパネルの 高透明な表面

 

表面を前面塗装する準備

ARや光学薄膜コーティング前の超清潔な表面


製品 ハイライト

精密光学・半導体磨き用超清潔5Nセリウム酸化物 概要: 高純度極細セリウムオキシド磨き粉 (99.999%) は,最高級の5Nセリウム酸化物 (CeO2) で,最も要求の高い精密磨きおよび表面加工アプリケーションのために設計されています.極低の不純度と狭い微細な粒子の大きさ分布により,この製品は例外的な表面の滑らかさ,最小限の欠陥生成,高重複性のある磨き性能. 特別に設計されたのは 先進的な光学,半導体基板,光子学,高価なガラス部品で 微小な汚染や表面損傷さえも 許容できません 主要 な 特徴 と 利点 超高純度 (5N,99.999%) 非常に少ない金属とイオン不純物により,敏感なプロセスで...

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