Cerium-Pulver mit hochreiner Ultrafeine Polier-Oxid 99,999%
Produktdetails
| Anwendung: | optisches Glas, kristallines Material | Verwendung: | Keramik, Glas, Leuchtstoffe |
|---|---|---|---|
| Schlüsselwörter: | Cer-Oxid-Polierpulver | Molekulargewicht: | 392.24 G/mol |
| Dichte: | 4,5–7,0 g/cm³ (je nach spezifischem Oxid) | UVisolierungsrate: | UVB>90% UVA>60% |
| Anwendungen: | Katalysatoren, Magnete, Leuchtstoffe, Keramik | CAS: | 13709-42-7 |
| Probe: | Verfügbar | Reinheit: | 99,9 % oder höher |
| Verpackung: | 50 kg/Trommel | Formel: | Y2o3 |
| Löslichkeit im Wasser: | Mäßig wasserunlöslich | Farbe: | Weiß bis cremefarben |
| Chemische Formel: | Yttrium | ||
| Hervorheben |
Ceriumpulver mit hoher Reinheit,Ultrafeines Ceriumpulver,Feine Ceriumoxid für die Glaspolierung |
||
Produkt-Beschreibung
Ultra-reines 5N-Cerium-Oxid für die Präzisionsoptische und Halbleiterpolierung
Übersicht:
Lichen High Purity Ultra-Fine Cerium-Oxid Polishing-Pulver (99.999%) ist ein hochwertiges 5N-Cerium-Oxid (CeO2), das für anspruchsvollste Präzisionspolier- und Oberflächenbearbeitungsanwendungen entwickelt wurdeMit einem sehr niedrigen Verunreinigungsgrad und einer schmalen, sehr feinen Partikelgrößenverteilung bietet dieses Produkt eine außergewöhnliche Oberflächenglattheit, minimale Defektbildung,und hochwiederholbare Polierleistung.
Es ist speziell für fortschrittliche Optik, Halbleitersubstrate, Photonik und hochwertige Glaskomponenten entwickelt, bei denen selbst Spuren von Kontamination oder Oberflächenschäden inakzeptabel sind.
Hauptmerkmale und Vorteile
Ultra-hohe Reinheit (5N, 99,999%)
Extrem geringe metallische und ionische Verunreinigungen verringern das Kontaminationsrisiko in sensiblen Verfahren.
Ultrafeine Partikelgrößenverteilung
Ermöglicht eine kontrollierte, sanfte Materialentfernung mit einer überlegenen Oberflächenglatheit.
Niedrig defekte Erzeugung
Minimiert Mikro-Kratzer, Nebel, Gruben und Untergrundschäden.
Ausgezeichnete Konsistenz der Chargen
Gewährleistet eine stabile Polierleistung bei der hochpräzisen Fertigung.
Hohe chemische-mechanische Poliereffizienz
Optimierte Ceriumchemie verbessert die Polierselektivität und Effizienz auf Glas- und Oxidoberflächen.
Typische Anwendungen
Präzisionsoptisches Polieren
Linsen, Prismen, Fenster und Laseroptik.
Halbleiter- und Glaswaferveredelung
Polieren von Glaswafern, Oxidschichten und speziellen Substraten.
Photonik und Displayglas
Hochdurchsichtige Oberflächen für photonische Komponenten und fortschrittliche Display-Panels.
Vorbehandlung der Oberfläche
Ultra-reine Oberflächen vor AR und optische Dünnschichtbeschichtungen.
Produkt-Highlights
Ultra-reines 5N-Cerium-Oxid für die Präzisionsoptische und Halbleiterpolierung Übersicht: Lichen High Purity Ultra-Fine Cerium-Oxid Polishing-Pulver (99.999%) ist ein hochwertiges 5N-Cerium-Oxid (CeO2), das für anspruchsvollste Präzisionspolier- und Oberflächenbearbeitungsanwendungen entwickelt ...
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