Qualität Cerium-Pulver mit hochreiner Ultrafeine Polier-Oxid 99,999% Fabrik
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Cerium-Pulver mit hochreiner Ultrafeine Polier-Oxid 99,999%

Markenbezeichnung: LICHEN
Herkunftsort: China
Zertifizierung: ISO9001
Mindestbestellmenge: 20 kg
Preis: NEGOCIABLE
Versorgungsfähigkeit: 3000MT/year

Produktdetails


Anwendung: optisches Glas, kristallines Material Verwendung: Keramik, Glas, Leuchtstoffe
Schlüsselwörter: Cer-Oxid-Polierpulver Molekulargewicht: 392.24 G/mol
Dichte: 4,5–7,0 g/cm³ (je nach spezifischem Oxid) UVisolierungsrate: UVB>90% UVA>60%
Anwendungen: Katalysatoren, Magnete, Leuchtstoffe, Keramik CAS: 13709-42-7
Probe: Verfügbar Reinheit: 99,9 % oder höher
Verpackung: 50 kg/Trommel Formel: Y2o3
Löslichkeit im Wasser: Mäßig wasserunlöslich Farbe: Weiß bis cremefarben
Chemische Formel: Yttrium
Hervorheben

Ceriumpulver mit hoher Reinheit

,

Ultrafeines Ceriumpulver

,

Feine Ceriumoxid für die Glaspolierung

Produkt-Beschreibung

Ultra-reines 5N-Cerium-Oxid für die Präzisionsoptische und Halbleiterpolierung

 Übersicht:

Lichen High Purity Ultra-Fine Cerium-Oxid Polishing-Pulver (99.999%) ist ein hochwertiges 5N-Cerium-Oxid (CeO2), das für anspruchsvollste Präzisionspolier- und Oberflächenbearbeitungsanwendungen entwickelt wurdeMit einem sehr niedrigen Verunreinigungsgrad und einer schmalen, sehr feinen Partikelgrößenverteilung bietet dieses Produkt eine außergewöhnliche Oberflächenglattheit, minimale Defektbildung,und hochwiederholbare Polierleistung.

Es ist speziell für fortschrittliche Optik, Halbleitersubstrate, Photonik und hochwertige Glaskomponenten entwickelt, bei denen selbst Spuren von Kontamination oder Oberflächenschäden inakzeptabel sind.

 

Hauptmerkmale und Vorteile

Ultra-hohe Reinheit (5N, 99,999%)

Extrem geringe metallische und ionische Verunreinigungen verringern das Kontaminationsrisiko in sensiblen Verfahren.

Ultrafeine Partikelgrößenverteilung

Ermöglicht eine kontrollierte, sanfte Materialentfernung mit einer überlegenen Oberflächenglatheit.

Niedrig defekte Erzeugung

Minimiert Mikro-Kratzer, Nebel, Gruben und Untergrundschäden.

Ausgezeichnete Konsistenz der Chargen

Gewährleistet eine stabile Polierleistung bei der hochpräzisen Fertigung.

Hohe chemische-mechanische Poliereffizienz

Optimierte Ceriumchemie verbessert die Polierselektivität und Effizienz auf Glas- und Oxidoberflächen.


Typische Anwendungen

Präzisionsoptisches Polieren

Linsen, Prismen, Fenster und Laseroptik.


Halbleiter- und Glaswaferveredelung

Polieren von Glaswafern, Oxidschichten und speziellen Substraten.

 

Photonik und Displayglas

Hochdurchsichtige Oberflächen für photonische Komponenten und fortschrittliche Display-Panels.

 

Vorbehandlung der Oberfläche

Ultra-reine Oberflächen vor AR und optische Dünnschichtbeschichtungen.


Produkt-Highlights

Ultra-reines 5N-Cerium-Oxid für die Präzisionsoptische und Halbleiterpolierung Übersicht: Lichen High Purity Ultra-Fine Cerium-Oxid Polishing-Pulver (99.999%) ist ein hochwertiges 5N-Cerium-Oxid (CeO2), das für anspruchsvollste Präzisionspolier- und Oberflächenbearbeitungsanwendungen entwickelt ...

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