Qualité Poudre d'oxyde de cérium de polissage ultrafin de haute pureté 99,999% Usine
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Qualité Poudre d'oxyde de cérium de polissage ultrafin de haute pureté 99,999% Usine
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Poudre d'oxyde de cérium de polissage ultrafin de haute pureté 99,999%

Nom de marque: LICHEN
Lieu d'origine: Chine
Certification: ISO9001
Quantité de commande minimale: 20KGS
Prix: NEGOCIABLE
Capacité à fournir: 3000MT/year

Détails de produit


application: verre optique, matériau cristallin Usage: céramique, verre, phosphores
Mots-clés: Poudre de polissage d'oxyde de cérium Poids moléculaire: 392.24 G/mol
Densité: 4,5-7,0 g/cm³ (selon l&#39;oxyde spécifique) Taux UV d'isolement: UVB>90% UVA>60%
Applications: Catalyseurs, aimants, phosphores, céramiques CAS: 13709-42-7
Échantillon: Disponible Pureté: 99,9 % ou plus
Emballage: 50 kg par tambour Formule: Y2O3
Solubilité dans l&#39;eau: Insoluble dans l&#39;eau, modérément Couleur: Blanc à blanc cassé
Formule chimique: Yttrium
Mettre en évidence

poudre de cérium de haute pureté

,

Poudre de cérium ultrafin

,

Oxyde de cérium fin pour le polissage du verre

Description de produit

Oxyde de cérium 5N ultra-propre pour le polissage optique et semi-conducteur de précision

 Résumé:

Pour les produits de traitement des eaux usées, la teneur maximale en dioxyde de carbone doit être de 10 mg/Nm3.999%) est un oxyde de cérium 5N (CeO2) de qualité supérieure conçu pour les applications de polissage de précision et de finition de surface les plus exigeantes. Avec des niveaux d'impuretés ultra-faibles et une répartition étroite et fine des particules, ce produit offre une surface exceptionnellement lisse, une génération minimale de défauts,et performances de polissage très répétables.

Il est spécialement conçu pour l'optique avancée, les substrats semi-conducteurs, la photonique et les composants en verre de grande valeur où même une trace de contamination ou de dommages à la surface est inacceptable.

 

Principales caractéristiques et avantages

Ultra-haute pureté (5N, 99,999%)

Les impuretés métalliques et ioniques extrêmement faibles réduisent le risque de contamination dans les procédés sensibles.

Distribution de la taille des particules ultra-fines

Permet une élimination contrôlée et douce des matériaux avec une finesse de surface supérieure.

Génération à faible défectuosité

Minimise les micro rayures, le brouillard, les fosses et les dommages sous-terrestres.

Excellente consistance du lot

Assure une performance de polissage stable dans la fabrication de haute précision.

Efficacité élevée du polissage chimique-mécanique

La chimie du cérium optimisée améliore la sélectivité et l'efficacité du polissage sur les surfaces de verre et d'oxyde.


Applications typiques

Polissage optique de précision

Lentilles, prismes, fenêtres et optique laser.


Finition des plaquettes de semi-conducteurs et de verre

Polissage des plaquettes de verre, des couches d'oxyde et des substrats spéciaux.

 

Vitres photonics et affichage

Surfaces de haute clarté pour les composants photoniques et les panneaux d'affichage avancés.

 

Préparation de la surface avant revêtement

Surfaces ultra-propres avant AR et revêtements optiques à film mince.


Points forts du produit

Oxyde de cérium 5N ultra-propre pour le polissage optique et semi-conducteur de précision Résumé: Pour les produits de traitement des eaux usées, la teneur maximale en dioxyde de carbone doit être de 10 mg/Nm3.999%) est un oxyde de cérium 5N (CeO2) de qualité supérieure conçu pour les applications ...

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