Puro ultra fino de polimento de óxido de cério 99,999%
Detalhes do produto
| aplicativo: | vidro óptico, material cristalino | Uso: | cerâmica, vidro, fósforo |
|---|---|---|---|
| Palavras-chave: | Pó de lustro do óxido do cério | Peso molecular: | 392.24 G/mol |
| Densidade: | 4,5-7,0 g/cm³ (dependendo do óxido específico) | Taxa UV do isolamento: | UVB>90% UVA>60% |
| Aplicativos: | Catalisadores, ímãs, fósforos, cerâmicas | CAS: | 13709-42-7 |
| Amostra: | Disponível | Pureza: | 99,9% ou superior |
| Embalagem: | 50 kg/tambor | Fórmula: | Y2o3 |
| Solubilidade em água: | Insolúvel em água, moderadamente | Cor: | Branco a esbranquiçado |
| Fórmula Química: | Ítrio | ||
| Destacar |
pó de cério de alta pureza,Ultrafine cerium em pó,Óxido de cério fino para polir vidro |
||
Descrição do produto
Óxido de cério 5N ultra-limpo para polimento óptico e semicondutor de precisão
Visão geral:
Polvilhador de óxido de cério ultrafinos de alta pureza para líquen (99.999%) é um óxido de cério 5N (CeO2) de qualidade superior, concebido para as aplicações mais exigentes de polimento de precisão e acabamento de superfíciesCom níveis de impurezas ultra-bajos e distribuição de tamanho de partículas estreita e ultra-fina, este produto oferece uma suavidade de superfície excepcional, gerando um mínimo de defeitos,e desempenho de polimento altamente repetível.
É especificamente concebido para óptica avançada, substratos de semicondutores, fotónica e componentes de vidro de alto valor em que nem mesmo vestígios de contaminação ou danos à superfície são aceitáveis.
Principais características e vantagens
Ultra-alta pureza (5N, 99,999%)
As impurezas metálicas e iónicas extremamente baixas reduzem o risco de contaminação em processos sensíveis.
Distribuição do tamanho das partículas ultrafinas
Permite a remoção controlada e suave de material com uma suavidade superficial superior.
Geração com baixo grau de defeito
Minimiza micro-arranhões, neblina, buracos e danos subterrâneos.
Excelente consistência do lote
Assegura um desempenho de polimento estável na fabricação de alta precisão.
Eficiência elevada de polimento químico-mecânico
A química de cério otimizada melhora a seletividade e a eficiência do polimento em superfícies de vidro e óxido.
Aplicações típicas
Poluição óptica de precisão
Lentes, prismas, janelas e óptica a laser.
Semicondutores e acabamento de wafer de vidro
Poluição de wafers de vidro, camadas de óxido e substratos especiais.
Fotônica e vidro de exibição
Superfícies de alta clareza para componentes fotónicos e painéis de exibição avançados.
Preparação da superfície de pré-revestimento
Superfícies ultralimpas antes da AR e revestimentos ópticos de película fina.
Destaques do Produto
Óxido de cério 5N ultra-limpo para polimento óptico e semicondutor de precisão Visão geral: Polvilhador de óxido de cério ultrafinos de alta pureza para líquen (99.999%) é um óxido de cério 5N (CeO2) de qualidade superior, concebido para as aplicações mais exigentes de polimento de precisão e ...
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