Polvo de óxido de cerio de pulido ultra fino de alta pureza 99,999%
Detalles del producto
| solicitud: | vidrio óptico, material cristalino | Uso: | cerámica, vidrio, fósforos |
|---|---|---|---|
| Palabras clave: | Polvo de pulido del óxido del cerio | Peso molecular: | 392.24 G/mol |
| Densidad: | 4,5-7,0 g/cm³ (dependiendo del óxido específico) | Tarifa ULTRAVIOLETA del aislamiento: | EL UVB>90% EL UVA>60% |
| Aplicaciones: | Catalizadores, imanes, fósforos, cerámicas. | CAS: | 13709-42-7 |
| Muestra: | Disponible | Pureza: | 99,9% o superior |
| Embalaje: | 50 kg por tambor | Fórmula: | Y2O3 |
| Solubilidad en el agua: | Insoluble en agua, moderadamente | Color: | Blanco a blanquecino |
| Fórmula química: | Itrio | ||
| Resaltar |
Polvo de cerio de alta pureza,Polvo de cerio ultra fino,Óxido de cerio fino para el pulido de vidrio |
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Descripción de producto
Óxido de cerio 5N ultralimpio para el pulido óptico y semiconductor de precisión
Resumen general:
Polvo de pulido de óxido de cerio ultrafinos de alta pureza para líquenes (99.999%) es un óxido de cerio 5N (CeO2) de calidad superior diseñado para las aplicaciones de pulido de precisión y acabado de superficies más exigentesCon niveles de impurezas muy bajos y una distribución estrecha de partículas muy finas, este producto ofrece una suavidad de superficie excepcional, una generación mínima de defectos,y rendimiento de pulido altamente repetible.
Está diseñado específicamente para óptica avanzada, sustratos de semiconductores, fotónica y componentes de vidrio de alto valor donde incluso un rastro de contaminación o daño superficial es inaceptable.
Características y ventajas clave
Ultra alta pureza (5N, 99,999%)
Las impurezas metálicas e iónicas extremadamente bajas reducen el riesgo de contaminación en procesos sensibles.
Distribución del tamaño de partículas ultrafinas
Permite la eliminación de material controlada y suave con una suavidad superficial superior.
Generación de defecto bajo
Minimiza los micro arañazos, neblina, hoyos y daños subterráneos.
Consistencia del lote excelente
Asegura un rendimiento de pulido estable en la fabricación de alta precisión.
Alta eficiencia de pulido químico-mecánico
La química de cerio optimizada mejora la selectividad y la eficiencia del pulido en superficies de vidrio y óxido.
Aplicaciones típicas
Polido óptico de precisión
Lentes, prismas, ventanas y óptica láser.
Finishing de semiconductores y obleas de vidrio
Polido de obleas de vidrio, capas de óxido y sustratos especiales.
Fotónica y vidrio de pantalla
Superficies de alta claridad para componentes fotónicos y paneles de visualización avanzados.
Preparación de las superficies antes del recubrimiento
Superficies ultralimpias antes del AR y recubrimientos ópticos de película delgada.
Lo más destacado del producto
Óxido de cerio 5N ultralimpio para el pulido óptico y semiconductor de precisión Resumen general: Polvo de pulido de óxido de cerio ultrafinos de alta pureza para líquenes (99.999%) es un óxido de cerio 5N (CeO2) de calidad superior diseñado para las aplicaciones de pulido de precisión y acabado de ...
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