고순도 초미세 닦기 산화물 세리움 분말 99.999%
제품 상세정보
| 애플리케이션: | 광학 유리, 결정질 재료 | 용법: | 도자기, 유리, 형광체 |
|---|---|---|---|
| 키워드: | 파우더를 닦는 세륨 옥사이드 | 분자량: | 392.24g/mol |
| 밀도: | 4.5-7.0 g/cm³(특정 산화물에 따라 다름) | UV 절연도: | UVB>90% UVA>60% |
| 응용: | 촉매, 자석, 형광체, 세라믹 | 카스: | 13709-42-7 |
| 견본: | 사용 가능 | 청정: | 99.9% 이상 |
| 포장: | 50 킬로그램 /는 드럼을 칩니다 | 공식: | Y2O3 |
| 물의 용해도: | 물에 불용성, 적당히 | 색상: | 흰색에서 황백색까지 |
| 화학식: | 이트륨 | ||
| 강조하다 |
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||
제품 설명
정밀 광학 및 반도체 닦기용 초정결 5N 세리움 산화물
개요:
리첸 고순도 초미세한 세리움 산화물 닦기 분말 (99.999%) 는 최고 수준의 5N 세리움 산화물 (CeO2) 이며, 가장 까다로운 정밀 닦기 및 표면 가공 애플리케이션을 위해 설계되었습니다.아주 낮은 불순물 수준과 좁고, 아주 미세한 입자 크기의 분포로 이 제품은 탁월한 표면 매끄러움, 최소한의 결함 발생,고 반복성 있는 닦기 성능.
그것은 첨단 광학, 반도체 기판, 광학 및 고부가가치 유리 부품에 특별히 설계되었습니다. 심지어 흔적 오염이나 표면 손상이 허용되지 않는 곳.
주요 특징 및 장점
초고정도 (5N, 99.999%)
극히 낮은 금속 및 이온 불순물이 민감한 공정에서 오염 위험을 줄입니다.
초미세 입자 크기 분포
통제되고 부드러운 물질 제거를 가능하게 합니다.
저 결함 발생
미세한 스크래치, 안개, 구덩이, 그리고 지하 손상을 최소화합니다.
우수한 팩 일관성
고 정밀 제조에서 안정적인 닦기 성능을 보장합니다.
높은 화학적·기계적 닦기 효율성
최적화된 세리움 화학은 유리 및 산화물 표면에 있는 닦기 선택성과 효율성을 향상시킵니다.
전형적 사용법
정밀 광학 닦기
렌즈, 프리즘, 창문, 레이저 광학
반도체 및 유리 웨이퍼 마무리
유리 웨이퍼, 산화질 층 및 특수 기판의 닦기
광학 및 디스플레이 유리
광학 부품과 첨단 디스플레이 패널을 위한 고해명 표면
표면 가습기 준비
AR 이전에는 초정결한 표면과 광학 얇은 필름 코팅이 필요합니다.
제품 하이라이트
정밀 광학 및 반도체 닦기용 초정결 5N 세리움 산화물 개요: 리첸 고순도 초미세한 세리움 산화물 닦기 분말 (99.999%) 는 최고 수준의 5N 세리움 산화물 (CeO2) 이며, 가장 까다로운 정밀 닦기 및 표면 가공 애플리케이션을 위해 설계되었습니다.아주 낮은 불순물 수준과 좁고, 아주 미세한 입자 크기의 분포로 이 제품은 탁월한 표면 매끄러움, 최소한의 결함 발생,고 반복성 있는 닦기 성능. 그것은 첨단 광학, 반도체 기판, 광학 및 고부가가치 유리 부품에 특별히 설계되었습니다. 심지어 흔적 오염이나 표면 손상이 허용되지 않...
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