고순도 초미세 닦기 산화물 세리움 분말 99.999%
제품 상세정보
| 애플리케이션: | 광학 유리, 결정질 재료 | 용법: | 도자기, 유리, 형광체 |
|---|---|---|---|
| 키워드: | 파우더를 닦는 세륨 옥사이드 | 분자량: | 392.24g/mol |
| 밀도: | 4.5-7.0 g/cm³(특정 산화물에 따라 다름) | UV 절연도: | UVB>90% UVA>60% |
| 응용: | 촉매, 자석, 형광체, 세라믹 | 카스: | 13709-42-7 |
| 견본: | 사용 가능 | 청정: | 99.9% 이상 |
| 포장: | 50 킬로그램 /는 드럼을 칩니다 | 공식: | Y2O3 |
| 물의 용해도: | 물에 불용성, 적당히 | 색상: | 흰색에서 황백색까지 |
| 화학식: | 이트륨 | ||
| 강조하다 |
고순도 세리움 분말,초미세 세리움 분말,유리 닦기용 세리움 산화물 |
||
제품 설명
정밀 광학 및 반도체 닦기용 초정결 5N 세리움 산화물
개요:
리첸 고순도 초미세한 세리움 산화물 닦기 분말 (99.999%) 는 최고 수준의 5N 세리움 산화물 (CeO2) 이며, 가장 까다로운 정밀 닦기 및 표면 가공 애플리케이션을 위해 설계되었습니다.아주 낮은 불순물 수준과 좁고, 아주 미세한 입자 크기의 분포로 이 제품은 탁월한 표면 매끄러움, 최소한의 결함 발생,고 반복성 있는 닦기 성능.
그것은 첨단 광학, 반도체 기판, 광학 및 고부가가치 유리 부품에 특별히 설계되었습니다. 심지어 흔적 오염이나 표면 손상이 허용되지 않는 곳.
주요 특징 및 장점
초고정도 (5N, 99.999%)
극히 낮은 금속 및 이온 불순물이 민감한 공정에서 오염 위험을 줄입니다.
초미세 입자 크기 분포
통제되고 부드러운 물질 제거를 가능하게 합니다.
저 결함 발생
미세한 스크래치, 안개, 구덩이, 그리고 지하 손상을 최소화합니다.
우수한 팩 일관성
고 정밀 제조에서 안정적인 닦기 성능을 보장합니다.
높은 화학적·기계적 닦기 효율성
최적화된 세리움 화학은 유리 및 산화물 표면에 있는 닦기 선택성과 효율성을 향상시킵니다.
전형적 사용법
정밀 광학 닦기
렌즈, 프리즘, 창문, 레이저 광학
반도체 및 유리 웨이퍼 마무리
유리 웨이퍼, 산화질 층 및 특수 기판의 닦기
광학 및 디스플레이 유리
광학 부품과 첨단 디스플레이 패널을 위한 고해명 표면
표면 가습기 준비
AR 이전에는 초정결한 표면과 광학 얇은 필름 코팅이 필요합니다.
제품 하이라이트
정밀 광학 및 반도체 닦기용 초정결 5N 세리움 산화물 개요: 리첸 고순도 초미세한 세리움 산화물 닦기 분말 (99.999%) 는 최고 수준의 5N 세리움 산화물 (CeO2) 이며, 가장 까다로운 정밀 닦기 및 표면 가공 애플리케이션을 위해 설계되었습니다.아주 낮은 불순물 수준과 좁고, 아주 미세한 입자 크기의 분포로 이 제품은 탁월한 표면 매끄러움, 최소한의 결함 발생,고 반복성 있는 닦기 성능. 그것은 첨단 광학, 반도체 기판, 광학 및 고부가가치 유리 부품에 특별히 설계되었습니다. 심지어 흔적 오염이나 표면 손상이 허용되지 않...
AR 광학, 마이크로 렌즈 배열 및 착용 가능한 광학 센서용 CMP-그라드 세리아 롤링 파우더
CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics
스마트 웨어러블 커버 글래스 및 마이크로 광학 마무리용 초미세 세리아 산화물 닦기 분말
Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in
AR波导玻璃和光学镜头制造用高纯度氧化铈抛光粉
High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and
세륨 옥살산염 분말 화학 시약 원소
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
아래의 온라인 문의 연락 양식을 사용하시기 바랍니다. 질문이 있으시면 저희 팀이 가능한 한 빨리 연락합니다.
