"high purity cerium powder"
高純度セリウムオキシド 磨き粉 泥泥 サファイア時計
高純度サファイア時計表を磨くためのセリウム酸化物 記述 高純度サファイア時計表を磨くセリウム酸化物は 高純度サファイア時計表,レンズ,オプティカルコンポーネントこの高性能セリウムオキシードは,サファイア表面の整合性を維持しながら,欠陥のない,傷痕のない仕上げを保証する,例外的な磨き効率を提供します.光学 透明度 の 完璧な バランス を 達成 する ため に 理想 的 です時計製造と高級品産業にとって好ましい選択となっています. 主要 な 特徴 高純度セリウム酸化物:高品質のセリウム酸化物から製造されたこの磨き粉は,サファイア表面に最小限の欠陥や汚染を伴う最適な材料除去を保証します. 超細粒子...
高純度極細磨き酸化セリウム粉 99.999%
精密光学・半導体磨き用超清潔5Nセリウム酸化物 概要: 高純度極細セリウムオキシド磨き粉 (99.999%) は,最高級の5Nセリウム酸化物 (CeO2) で,最も要求の高い精密磨きおよび表面加工アプリケーションのために設計されています.極低の不純度と狭い微細な粒子の大きさ分布により,この製品は例外的な表面の滑らかさ,最小限の欠陥生成,高重複性のある磨き性能. 特別に設計されたのは 先進的な光学,半導体基板,光子学,高価なガラス部品で 微小な汚染や表面損傷さえも 許容できません 主要 な 特徴 と 利点 超高純度 (5N,99.999%) 非常に少ない金属とイオン不純物により,敏感なプロセスで...
高純度セリウムヒドロキシード 希少土粉 原材料
セリウムヒドロキシド 分子式: Ce ((OH) 4 外見:セリウムヒドロキシドは淡い黄色の粉末です 適用: ガラス産業における澄まし剤や脱色剤として,高セリウム化合物の生産のための原材料として使用されます. ポイント 仕様 試験基準 ポイント セルロース4-3N5 セルロース4-4N セルロース4-4N5 セルロース4-5N TREO ((wt%) 550.070だ0 550.070だ0 550.070だ0 550.070だ0 稀土の相対純度 (Wt%) ラ2オー3/TREO ≤0.01 ≤0.005 ≤0.003 ≤0.0004 GB/T 18115.2 代表取締役2/TREO ≥9995 ...
高純度光学磨き化合物 粉末 セリウム酸化物 ガラスLEDディスプレイ用
LEDディスプレイ用 高純度ポリシング粉末 記述 LEDの製造の厳格な基準に合わせて設計されています高純度セリウム酸化物 (CeO2) の磨き粉は 次世代のディスプレイ技術に必要な 原子レベルでの表面の完璧性を提供しますこの特殊な製剤は,先進的な化学機械磨き (CMP) を利用し,ナノメートル未満の粗さで純正な基質を供給します.高画質密度と均質な光の放出のために必須. 業界をリードする特徴 微小小の精度:厳格に制御された粒子の大きさの分布により,大きな粒子が排除され,敏感なLEDバックプレンの微小の傷が防止されます. 高純度: 高性能ディスプレイ回路で霧や電気干渉を引き起こす微量汚染物質を除去...
精度Ceo2セリウム酸化物 PH中性磨き粉 高純度99%
高純度セリウムオキシド磨き粉 99% 概要: 高純度セリウム酸化物 99%の磨き粉は 高品質,効率性,表面の滑らかさの最高水準が要求される精密磨きアプリケーションのために設計されています.純度99%まで製造,このセリウムオキシドの磨き粉は,ガラス,光学部品,半導体ウエファー,陶器を含む幅広い材料を磨くのに理想的です欠陥を最小限に抑える 優れた表面仕上げを保証する. 主要な特徴: 純度99%: 私たちのセリウムオキシドの磨き粉は 99%の純度で生産され,最小限の汚染で最高磨き性能を保証します繊細で高精度なアプリケーションに最適化. 優れた磨き効率: この高純度粉末は,繊細な表面に滑らかで,かき傷...
高純度ポリシング Ceo2 パウダースラー OLEDディスプレイ
OLEDディスプレイのための高純度磨きスラム記述についてOLEDディスプレイ用の高純度リッセン磨きスラーリーは,OLEDディスプレイ生産の厳しい要求を満たすために設計された先進的なセリウム酸化物ベースのスラーリです.超滑らかな仕上げのために設計されたOLEDパネルにとって極めて重要です 高性能の光学性能,色精度,長期的信頼性を保証します高画質のOLEDディスプレイに 必要な表面特性を 精密に調整するのに最適です スマートフォンやテレビや他の電子機器製造者は優れた光伝達と均一性を達成し,OLED技術の全体的な品質を向上させることができます. 主要 な 特徴 と 利点高純度セリウム酸化物リチェン・...
高性能セリウムオキシドスラム 展示表面磨き用 CAS 1306-38-3
ディスプレイ表面の仕上げのための高性能セリウムスラー 記述 精密設計のセリウムオキシド (CeO2) 溶液で 妥協のない光学的な透明性を 実現します高解像度のLCDに不可欠なナノメートルの平らさと欠陥のない表面を供給しますOLED,マイクロLEDの消費電子機器 高純度な稀土酸化物と 先進的な化学安定剤を組み合わせることで 優れた化学機械磨き (CMP) 効果を保証しますすべてのディスプレイガラス基板に超低分散度とアングストロムレベルの仕上げを提供. パフォーマンス・アドバンテージ サブナノメートルの粗さ (Ra): 高級モバイルおよび自動車ディスプレイの光伝達とタッチ感度を最大限に高める表面仕...
高純度99.99%のセリウムフッ化水素結晶
CeF3 結晶セリウムフッ化物 高純度99.99% 光学コーティングまたは補助溶媒用 分子式:CeF3 外見:セリウムフッ化物は白い粉末です 適用:高純度化学物質およびコーティング材料として使用 ポイント 仕様 試験基準 私はトム CeFについて3-3N5 CeFについて3-4N CeFについて3-4N5 CeFについて3-5N TREO ((wt%) ≥80 ≥80 ≥80 ≥80 稀土の相対純度 (Wt%) ラ2オー3/TREO ≤0.01 ≤0.005 ≤0.003 ≤0.0004 GB/T 18115.2 代表取締役2/TREO ≥9995 ≥9999 ≥99995 ≥99999 PR ...
CeO2セリウム稀土磨き粉 LCD OLEDディスプレイパネル用
高解像度ディスプレイパネル用ポリシング粉 記述 高解像度向けに特別に設計された 高精度セリウム酸化物 (CeO2) 磨き粉で 市場に必要な 極度の透明性とピクセル完璧な表面を 提供します 4K/8K LCD,OLED,Micro LEDを含むディスプレイパネル- この高純度粉末は,均一な光放出と高密度のピクセルアライナインメントに必要なナノメートル未満の表面平らさを提供します. 私たちの製剤は 精密な粒子を利用して 超光滑な仕上げをします 光の散乱を最小限にします 卓越したパフォーマンス 滑らかさ: 0.3nm未満の表面荒さ (Ra) 値を達成するために設計され,PPI (ピクセル/インチ) ...
高純度 La2o3 ランタン酸化物粉末 光学ガラス用
高純度ランタンオキシド (LA2O3) 粉末 ((3N5/4N/5N) /光学ガラス,触媒,リンゴのための陶器類 高純度ランタン酸化物 分子式:La2O3外見:高純度ランタン酸化物は白い粉末である. 適用: 3 方向催化剤,ガラス,陶器,電子産業で使用され,高精度光学ガラスおよび光学繊維の製造にも使用されます.電子産業では,陶器コンデンサターとピエゾ電気陶器のドーパントとして機能するさらに,ランタンボリドの生産のための原材料として,および石油分離および精製のための触媒として使用されます. ポイント 仕様 試験基準 グレード La2O3-3N5B La2O3-4N5B La2O3-5NB / ...
セリウムオキシド球状触媒粉末磨き材料
高特異性表面領域 セリウム酸化物 セリウムベースの触媒のための球状粉末 セリウム酸化物 分子式:CeO2 外見: 淡い黄色の粉末 用途: 磨き材料または触媒として使用されます. ポイント 仕様 試験方法 ポイント 代表取締役2-3N5C 代表取締役2-4NC 代表取締役2-4N5C 代表取締役2-5NC TREO ((wt%) ≥990 ≥990 ≥990 ≥990 稀土の相対純度 (Wt%) ラ2オー3/TREO ≤0.01 ≤0.005 ≤0.003 ≤0.0004 GB/T 18115.2 代表取締役2/TREO ≥9995 ≥9999 ≥99995 ≥99999 PR について6オ...
白色稀土酸化セリウム粉 石油添加物 磨き化合物
中国 供給 高品質の白色セリウム酸化物 粉末 石油添加物 セリウム酸化物 (白色) 分子式: CeO2 外見: 白い粉末 用途: 磨き材料または他の触媒として使用 ポイント グレード 仕様 CeO2-3N5A CeO2-4NA CeO2-4N5A CeO2-5NA 試験基準 TREO (Wt%) ≥990 ≥990 ≥990 ≥990 稀土の相対純度 (Wt%) La2O3/TREO ≤0.01 ≤0.005 ≤0.003 ≤0.0004 GB/T 18115.2 CeO2/TREO ≥9995 ≥9999 ≥99995 ≥99999 Pr6O11/TREO ≤0.01 ≤0.002 ≤0...
