"high purity cerium powder"
ISO9001 レーザー光学ガラスのためのセリウム酸化光学磨き粉末材料
レーザー光学のための磨き材料 記述 レーザー光学のための磨き材料は,レーザー光学製造の厳格な要件を満たすために特別に策定されています. 優れた表面品質とパフォーマンスを保証します.レーザーミラーなどの高精度部品用に設計されたこの材料はレーザーアプリケーションにとって不可欠な 卓越した仕上げ品質を提供します 主要な特徴: 高精度磨材: レーザー光学における最適な光反射,伝達,および光束品質のために不可欠な最小限の欠陥を持つ超滑らかな表面を達成する. 先進 製法: 磨き 材料 は 均一 で 制御 さ れ た 磨き を 与える ため に 設計 さ れ て い ます.繊細 な 表面 を 保護 し て ...
1.0μM 光子産業用稀土磨き粉 PH 中性
フォトニクス産業のための磨き粉 記述 光学産業用の 磨き粉は 光学や光子部品の 製造の要求に応えるように 特別に設計されていますこの高性能粉末はレンズに最適です鏡,プリズム,光ファイバー,波導体など,最先端の光学アプリケーションで使用されます. 主要な特徴: 特殊な純度最高品質の素材で製造された 磨き粉は 最低限の汚染と 最重要な用途でも一貫した結果を提供します 精密アブラシブ光学部品の表面を細かく仕上げながら 光学装置にとって不可欠な 厳格な容量と寸法整合性を維持します 効率的な物質除去:質を損なうことなく 流量を増やす 迅速で均質な磨き作用を提供します 広く互換性グラス,シリカ,サファイア...
スクラッチリモバー ジルコニア ガラス ポーリング 粉 セリウムオキシド スラム ODM
ディスプレイガラスの微小の傷を消すセリウムオキシドスローリング 記述 粒子の大きさ:粉末は通常,非常に細かく,均質な粒子の大きさ分布を有しており,透明な表示に必要な非常に低い表面粗さを達成するために不可欠です. メカニズム:粉末は化学的・機械的作用で 微細な傷や霧や水や砂痕などの欠陥を 滑らかにします 互換性スマートフォン,タブレット,一般的な電子ディスプレイで使用されるテンプレート,ラミネート,および様々なカバーガラスを含む幅広い種類のガラスに使用するには安全です. 適用:粉末は通常水と混ぜて磨きスラムを形成し,その後,フェルト磨きパッドと回転ツールまたはスクリーン磨き機でプロフェッショナル...
自動車用稀土材料 セリウムIII炭酸白粉
セリウムカルボネート 分子式: Ce2 ((CO3) 3) 外見:セリウム炭酸は白い粉末です 適用:自動車の排気ガス浄化器の製造に使用され,また金属セリウム,セリウム酸化物および他のセリウム化合物の生産のための中間材料として使用されます. ポイント 仕様 試験基準 ポイント C2(CO)3)3-3N5B C2(CO)3)3-4NB C2(CO)3)3-4N5B C2(CO)3)3-5NB TREO ((wt%) 45・50 45・50 45・50 45・50 稀土の相対純度 (Wt%) ラ2オー3/TREO ≤0.01 ≤0.005 ≤0.003 ≤0.0004 GB/T 18115.2 代表...
低塩化セリウムランタン炭酸粉末 石油添加物
石油添加物 低塩化物 ランタン・セリウム・カーボネート 分子式: (LaCe) 2 (CO3) 3 外見:低塩化ランタンセリウム炭酸は白い粉末です 適用:稀土の磨き粉の製造に使用 私はトム 仕様 試験基準 私はトム (レイシー)2(CO)3)3-65CeA1 (レイシー)2(CO)3)3-65CeA2 TREO ((wt%) ≥450 ≥450 ランタン・セリウム分布と稀土不純物 (質量%) ラ2オー3/TREO 35±2 35±2 GB/T 164843 代表取締役2/TREO 65±2 65±2 PR について6オー11/TREO ≤0.01 ≤0.005 ほら2オー3/TREO ≤0...
LaCeF3 原材料稀土物 ランタン・セリウム・フッ化物 淡黄色粉末
ランタン・セリウム・フッ化物 分子式: LaCeF3 外見: ランタン・セリウム・フッ化物は薄黄色の粉末です 適用:ランタン・セリウム金属の製造のための原材料 ポイント 仕様 試験基準 ポイント LACEF3A について LACEF3B について TREO ((wt%) ≥78 ≥78 ランタン・セリウム分布と稀土不純物 (質量%) ラ2オー3/TREO 35±2 35±2 GB/T 164843 代表取締役2/TREO 65±2 65±2 PR について6オー11/TREO ≤0.01 ≤0.005 ほら2オー3/TREO ≤0.01 ≤0.005 S (スム)2オー3/TREO ≤0...
固体稀金属セリウムアセタート水化粉末 触媒用
セリウムアセタート 分子式: Ce ((AC) 3·xH2O 外見:セリウムアセテート は 白い 雪花 の よう な 固体 です 適用:他のセリウム塩やセリウム酸化物,石油添加物などのための原材料として使用されます. ポイント 仕様 試験基準 ポイント オーブン3-3N5 オーブン3-4N オーブン3-4N5 オーブン3-5N TREO ((wt%) ≥45 ≥45 ≥45 ≥45 稀土の相対純度 (Wt%) ラ2オー3/TREO ≤0.01 ≤0.005 ≤0.003 ≤0.0004 GB/T 18115.2 代表取締役2/TREO ≥9995 ≥9999 ≥99995 ≥99999 PR ...
結晶稀土元素 鉱物 セリウムオキシラート 粉末 化学反応体元素
セリウムオキシラート 分子式: Ce2(C2O4) 3 外見:セリウムオキシラートは白い結晶性粉末です 応用:化学反応剤として,他のセリウム塩の調製に使用 ポイント 仕様 試験基準 ポイント C2(C)2オー4)3-3N5 C2(C)2オー4)3-4N C2(C)2オー4)3-4N5 C2(C)2オー4)3-5N TREO ((wt%) ≥38 ≥38 ≥38 ≥38 稀土の相対純度 (Wt%) ラ2オー3/TREO ≤0.01 ≤0.005 ≤0.003 ≤0.0004 GB/T 18115.2 代表取締役2/TREO ≥9995 ≥9999 ≤99995 ≥99999 PR について6オ...
セリウムIII 塩化物 稀土物質 CeCl3 無水性粉末 電池用
無水性セリウム塩化物 分子式:CeCl3 外見: 白い粉状の結晶 用途:金属セリウムと石油触媒の生産,水素貯蔵電池材料の原材料として,単結の成長の分野で使用されます. ポイント 仕様 試験方法 ポイント CeCl3-3N5B CeCl3-4NB CeCl3-4N5B CeCl3-5NB TREO ((wt%) ≥68 ≥68 ≥68 ≥68 稀土の相対純度 (Wt%) ラ2オー3/TREO ≤0.01 ≤0.005 ≤0.003 ≤0.0004 GB/T 18115.2 代表取締役2/TREO ≥9995 ≥9999 ≥99995 ≥99999 PR について6オー11/TREO ≤0.01 ...
化学 機械 セリウムオキシド 磨き スラム 光ファイバー用 粉末ガラス
光ファイバー製造用ポリシングスラム 記述 セリウムベースの磨きスラムは,光ファイバーコネクタで要求される超スムーズで低欠陥の末面仕上げを達成するための光ファイバー製造における業界標準である.高速通信システムで最小限の信号損失と低いバック反射を保証するために 化学的機械的な作用によって動作します. 製品概要 セリウムオキシドスラムは,高純度,マイクロまたは微小未満のセリウムオキシド粒子の水溶液である.分散と流れ特性を高めるための特有の添加物でグラスやセラミック繊維光学部品の最終的な磨き段階のために,鏡のような仕上げを提供するために,特別に策定されています. 光ファイバー化学機械磨き (CMP) ...
紫外線保護金属 CMP セリウムオキシドスラム プレコーティング ガラスポーリング
プレコーティング用ガラス磨き用セリウムオキシドスラム 記述について プレコーティング用ガラス磨き用リッヘンセリウムオキシドスラムは,プレコーティング用ガラス磨き用に特別に設計された高性能セリウムオキシドベースのスラムである.グラス製造およびコーティング産業で使用するのに最適グラスコーティングの最適な粘着と均一性のために不可欠です. 自動車ガラス,建築ガラス,消費電子機器のガラス粘土は高度に均質な仕上げを 提供し,ガラスの表面を 塗料処理に備えています リチェン・スローリーは,表面の滑らかさと光学的な透明性を向上させながら,制御された材料除去を実現し,コーティングが適切に粘着し,持続的な性能を提...
ISO9001 ポリシング セリウムオキシド 電子半導体ガラス用稀土ポリシングスラー
OLEDディスプレイのための高純度磨きスラム 記述について OLEDディスプレイ用の高純度リッセン磨きスラーリーは,OLEDディスプレイ生産の厳しい要求を満たすために設計された先進的なセリウム酸化物ベースのスラーリです.超滑らかな仕上げのために設計されたOLEDパネルにとって極めて重要です 高性能の光学性能,色精度,長期的信頼性を保証します 高画質のOLEDディスプレイに 必要な表面特性を 精密に調整するのに最適です スマートフォンやテレビや他の電子機器製造者は優れた光伝達と均一性を達成し,OLED技術の全体的な品質を向上させることができます. 主要 な 特徴 と 利点 高純度セリウム酸化物 ...
