品質 高性能セリウムオキシドスラム 展示表面磨き用 CAS 1306-38-3 工場
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高性能セリウムオキシドスラム 展示表面磨き用 CAS 1306-38-3

ブランド名: LICHEN
モデル番号: LC032S08
原産地: 中国
認証: ISO9001
最小注文数量: 20KGS
価格: NEGOCIABLE
供給能力: 250MT/月

製品詳細


粒子サイズ: 0.6~0.8μm CAS番号: 1306-38-3
CeO₂%: 63~68% 停止率: 高い
Ph 範囲: 7-10 配合: カスタマイズされた
ハイライト

Cerium Oxide スラムを表示する

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1306-38-3 セリウムオキシドスラム

,

セリウムオキシードでディスプレイを磨く

製品の説明

ディスプレイ表面の仕上げのための高性能セリウムスラー

記述

精密設計のセリウムオキシド (CeO2) 溶液で 妥協のない光学的な透明性を 実現します高解像度のLCDに不可欠なナノメートルの平らさと欠陥のない表面を供給しますOLED,マイクロLEDの消費電子機器

高純度な稀土酸化物と 先進的な化学安定剤を組み合わせることで 優れた化学機械磨き (CMP) 効果を保証しますすべてのディスプレイガラス基板に超低分散度とアングストロムレベルの仕上げを提供.

 

パフォーマンス・アドバンテージ

サブナノメートルの粗さ (Ra): 高級モバイルおよび自動車ディスプレイの光伝達とタッチ感度を最大限に高める表面仕上げを達成するために設計されています.

無欠陥表面品質: 厳格に制御された粒子のサイズ分布 (PSD) は,大量の生産中に微小な傷や穴を防ぐ大きな粒子を排除します.

高速ストック除去:セリアとシリケートガラス間の化学反応を最適化するために策定された.

優れた懸垂安定性: 先進的な噴射技術により,循環システム全体で均等な濃度が確保されます.

洗浄性が最適化:低粘着化学により,迅速な洗浄が可能になり,処理後の超音波洗浄サイクルを短縮し,工場全体の生産量を増加させます.

 

技術データ

分子式 CAS番号 CeO2 % D50 (μm) 外見 適用する
CeO2 1306-38-3 63~68 0.6-08 白いスラム ディスプレイ

 

粒子の大きさの分布

高性能セリウムオキシドスラム 展示表面磨き用 CAS 1306-38-3 0

Q&A

1セリウムオキシドの磨き粉とは?

セリウム酸化物磨き粉は,光学部品,半導体ウェーファー,ガラスやレンズなどの他の繊細な表面を磨くために広く使用される高純度化合物です.細い粒子 と 優れた 化学 特性 を 備える 材料 に よっ て,磨き られ て いる 表面 に 損傷 を 及ぼさ ず に 高い 透明 性 と 滑らかさ を 得る の に 理想 的 に なり ます.

2適切なセリウムオキシドの磨き粉を どのようにして選べますか?

適正 な 磨き粉 を 選べる の は,磨く 材料 と 望ま れ て いる 仕上げ に 依存 し て い ます.粒子 の 大きさ,純度,そして,あなたの磨きプロセスの特定の要求は,あなたの選択を導くべきです販売チームは,あなたのニーズに最適な製品を選択するのにあなたを助けることができます.

3セリウムオキシドの磨き粉をどのように保管すべきですか?

セリウム オキシド の 磨き粉 は,直接 の 日光 や 湿度 から 遠ざかっ て,涼しく 乾燥 し た 場所 に 保管 し,汚染 を 防止 する ため,密閉 し た 防空 容器 に 保管 し て ください.適切な保管は,製品が時間とともに品質と有効性を維持することを保証します正しく保管された場合,セリウム酸化物磨き粉は通常1〜2年の保存期間があります.

4セリウムオキシドの製剤を 提供していますか?

ええ,我々は特定の性能要件を満たす パーソナライズドセリウムオキシド磨き粉末とスラージーを提供します.またはスローリングの一貫性あなたのニーズに最も適した配合を作ることができます.

5大量注文する前にサンプルを貰えますか?

はい,我々は評価のために我々のセリウムオキシド磨き粉とスラージーのサンプルを提供します. サンプルを依頼するために私達に連絡してください,そして私たちのチームは出荷を整理します.

6. どうやって注文できますか?セリウム酸化物製品の典型的な配達時間は?

販売チームに連絡して注文することができます. プロセスを通して案内し,製品選択に助け,お客様のニーズに基づいて価格を提示します. 注文が確認されたら,推定配送スケジュールを提供します.配送時間は,注文のサイズ,場所,および商品が在庫かどうかによって異なります.

製品 ハイライト

ディスプレイ表面の仕上げのための高性能セリウムスラー 記述 精密設計のセリウムオキシド (CeO2) 溶液で 妥協のない光学的な透明性を 実現します高解像度のLCDに不可欠なナノメートルの平らさと欠陥のない表面を供給しますOLED,マイクロLEDの消費電子機器 高純度な稀土酸化物と 先進的な化学安定剤を組み合わせることで 優れた化学機械磨き (CMP) 効果を保証しますすべてのディスプレイガラス基板に超低分散度とアングストロムレベルの仕上げを提供. パフォーマンス・アドバンテージ サブナノメートルの粗さ (Ra): 高級モバイルおよび自動車ディスプレイの光伝達とタッチ感度を最大限に高める表面仕...

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