CeO2セリウム稀土磨き粉 LCD OLEDディスプレイパネル用
製品詳細
| 粒子サイズ: | 2.0±0.2μm | CAS番号: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO₂: | 63~68% | 停止率: | 高い |
| Ph 範囲: | 7-10 | 配合: | カスタマイズされた |
| ハイライト |
CeO2希土類磨く粉,OLED 稀土磨き粉,CeO2セリウム粉 |
||
製品の説明
高解像度ディスプレイパネル用ポリシング粉
記述
高解像度向けに特別に設計された 高精度セリウム酸化物 (CeO2) 磨き粉で 市場に必要な 極度の透明性とピクセル完璧な表面を 提供します 4K/8K LCD,OLED,Micro LEDを含むディスプレイパネル- この高純度粉末は,均一な光放出と高密度のピクセルアライナインメントに必要なナノメートル未満の表面平らさを提供します.
私たちの製剤は 精密な粒子を利用して 超光滑な仕上げをします 光の散乱を最小限にします
卓越したパフォーマンス
滑らかさ: 0.3nm未満の表面荒さ (Ra) 値を達成するために設計され,PPI (ピクセル/インチ) の高い基板に欠陥のない光学性能を保証する.
狭い粒子の大きさ分布 (PSD):我々の高度な分類プロセスは,D50の狭い範囲を保証します.高解像度のガラスに微小な傷を起こす過大小の粒子を効果的に除去する.
化学・機械的な作用が速い 高出力線に特化した 粉末は シリケートガラスとの共働反応により 物質の除去を加速しますサイクル時間を最大20%短縮する.
強化された懸垂と流量: 固体化防止剤で処理され,再循環スラムシステムで均等な分散を保証し,硬い安定と設備の停止時間を防止する.
技術データ
| 分子式 | CAS番号 | CeO2 % | D50 (μm) | 外見 | 適用する |
| CeO2 | 1306-38-3 | 63~68 | 2.0±02 | 白い粉末 | ディスプレイパネル |
粒子の大きさの分布
Q&A
1稀土の磨き粉とは?
光学部品や半導体ウェーファーや ガラスやレンズなどの繊細な表面を 磨くのに使用される 高純度化合物です高透明度で材料を損傷することなく仕上げ.
2稀土の磨き粉を どう選べますか?
理想的な磨き粉を選ぶには,磨いている材料,必要な仕上げ,粒子の大きさや純度などの要素を考慮してください.あなたのニーズに最適な製品を選択するのに役立ちます..
3稀土の磨き粉を どうやって保管すればいいですか?
温かい乾燥した場所に保管し,湿度や日光から遠ざけます. 汚染を防止し有効性を維持するために,粉末を気密容器に保管します.通常は1〜2年続きます.
4稀土の製剤を 提供していますか?
はい,私たちは,あなたの特定のニーズを満たすために,細粒子のサイズ,化学的組成,またはスラムの一貫性調整を含む,カスタム稀土の磨き粉やスラムを提供しています.
5大量注文する前にサンプルを貰えますか?
絶対! 評価のためにサンプルを用意します. サンプルを依頼するためにチームに連絡してください. そして私たちは出荷を整理します.
6どうすれば注文できますか? 典型的な配達時間は?
注文をするには,単に販売チームと連絡してください. 彼らはプロセスを通してあなたを案内し,オートを提供します. 配達時間は,注文のサイズ,場所,および在庫の可用性によって異なります.オーダーが確認されたら 予定表を教えます.
製品 ハイライト
高解像度ディスプレイパネル用ポリシング粉 記述 高解像度向けに特別に設計された 高精度セリウム酸化物 (CeO2) 磨き粉で 市場に必要な 極度の透明性とピクセル完璧な表面を 提供します 4K/8K LCD,OLED,Micro LEDを含むディスプレイパネル- この高純度粉末は,均一な光放出と高密度のピクセルアライナインメントに必要なナノメートル未満の表面平らさを提供します. 私たちの製剤は 精密な粒子を利用して 超光滑な仕上げをします 光の散乱を最小限にします 卓越したパフォーマンス 滑らかさ: 0.3nm未満の表面荒さ (Ra) 値を達成するために設計され,PPI (ピクセル/インチ) ...
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