品質 高純度光学磨き化合物 粉末 セリウム酸化物 ガラスLEDディスプレイ用 工場
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高純度光学磨き化合物 粉末 セリウム酸化物 ガラスLEDディスプレイ用

ブランド名: LICHEN
モデル番号: LC036
原産地: 中国
認証: ISO9001
最小注文数量: 20KGS
価格: NEGOCIABLE
供給能力: 250MT/月

製品詳細


粒子サイズ: 3.0±0.2μm CAS番号: 1306-38-3
CeO₂%: 63~68% 停止率: 高い
Ph 範囲: 7-10 配合: カスタマイズされた
ハイライト

ガラスの光学磨き化合物

,

セリウムオキシド 光学磨き剤

,

ガラス用セリウムオキシド化合物

製品の説明

LEDディスプレイ用 高純度ポリシング粉末

記述

LEDの製造の厳格な基準に合わせて設計されています高純度セリウム酸化物 (CeO2) の磨き粉は 次世代のディスプレイ技術に必要な 原子レベルでの表面の完璧性を提供しますこの特殊な製剤は,先進的な化学機械磨き (CMP) を利用し,ナノメートル未満の粗さで純正な基質を供給します.高画質密度と均質な光の放出のために必須.

 

業界をリードする特徴

微小小の精度:厳格に制御された粒子の大きさの分布により,大きな粒子が排除され,敏感なLEDバックプレンの微小の傷が防止されます.

高純度: 高性能ディスプレイ回路で霧や電気干渉を引き起こす微量汚染物質を除去するために精製された.

ナノスケール表面滑らか: アンストロムレベルの表面仕上げを達成し,光の散乱を最小限に抑え,高明るさのディスプレイの光学透明性を最大化します.

ススペンション安定性: 再循環システムで長期にわたる分散のために作られ,大型のガラス基板で一貫した磨き性能を保証する.

 

技術データ

分子式 CAS番号 CeO2 % D50 (μm) 外見 適用する
CeO2 1306-38-3 63~68 3.0±02 白い粉末 LEDディスプレイ

 

粒子の大きさの分布

高純度光学磨き化合物 粉末 セリウム酸化物 ガラスLEDディスプレイ用 0

Q&A

1セリウムオキシドの磨き粉とは?

答え:

セリウム酸化物磨き粉は,光学部品,半導体ウェーファー,ガラスやレンズなどの他の繊細な表面を磨くために広く使用される高純度化合物です.細い粒子 と 優れた 化学 特性 を 備える 材料 に よっ て,磨き られ て いる 表面 に 損傷 を 及ぼさ ず に 高い 透明 性 と 滑らかさ を 得る の に 理想 的 に なり ます.

2適切なセリウムオキシドの磨き粉を どのようにして選べますか?

答え:

適正 な 磨き粉 を 選べる の は,磨く 材料 と 望ま れ て いる 仕上げ に 依存 し て い ます.粒子 の 大きさ,純度,そして,あなたの磨きプロセスの特定の要求は,あなたの選択を導くべきです販売チームは,あなたのニーズに最適な製品を選択するのにあなたを助けることができます.

3セリウムオキシドの磨き粉をどのように保管すべきですか?

セリウム オキシド の 磨き粉 は,直接 の 日光 や 湿度 から 遠ざかっ て,涼しく 乾燥 し た 場所 に 保管 し,汚染 を 防止 する ため,密閉 し た 防空 容器 に 保管 し て ください.適切な保管は,製品が時間とともに品質と有効性を維持することを保証します正しく保管された場合,セリウム酸化物磨き粉は通常1〜2年の保存期間があります.

4セリウムオキシドの製剤を 提供していますか?

ええ,我々は特定の性能要件を満たす パーソナライズドセリウムオキシド磨き粉末とスラージーを提供します.またはスローリングの一貫性あなたのニーズに最も適した配合を作ることができます.

5大量注文する前にサンプルを貰えますか?

はい,我々は評価のために我々のセリウムオキシド磨き粉とスラージーのサンプルを提供します. サンプルを依頼するために私達に連絡してください,そして私たちのチームは出荷を整理します.

6. どうやって注文できますか?セリウム酸化物製品の典型的な配達時間は?

販売チームに連絡して注文することができます. プロセスを通して案内し,製品選択に助け,お客様のニーズに基づいて価格を提示します. 注文が確認されたら,推定配送スケジュールを提供します.配送時間は,注文のサイズ,場所,および商品が在庫かどうかによって異なります.

製品 ハイライト

LEDディスプレイ用 高純度ポリシング粉末 記述 LEDの製造の厳格な基準に合わせて設計されています高純度セリウム酸化物 (CeO2) の磨き粉は 次世代のディスプレイ技術に必要な 原子レベルでの表面の完璧性を提供しますこの特殊な製剤は,先進的な化学機械磨き (CMP) を利用し,ナノメートル未満の粗さで純正な基質を供給します.高画質密度と均質な光の放出のために必須. 業界をリードする特徴 微小小の精度:厳格に制御された粒子の大きさの分布により,大きな粒子が排除され,敏感なLEDバックプレンの微小の傷が防止されます. 高純度: 高性能ディスプレイ回路で霧や電気干渉を引き起こす微量汚染物質を除去...

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