CMP スーパーセリウムオキシド ポリシング 粉末 サファイア基板のための稀土化合物
製品詳細
| D50(μm): | 1.5±0.2 | CAS番号: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO₂%: | 73~78% | 応用: | 光学 |
| ハイライト |
スーパーセリウムオキシード 粉末,スーパーセリウムオキシド 化合物,CMP稀土化合物 |
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製品の説明
サファイア基板のための磨き粉
記述
セリウム酸化物は,主にガラスや柔らかい結晶を磨くための"ゴールドスタンダード"として知られています.砂利の極端な硬さ (モーススケールで9) により,砂利の主要な磨材として単独で使用されることはめったにありません.精密サファイア光学における特定の最終加工段階に使用される.
セリウム オキシド が ザファイア 磨き に 与える 役割
最終仕上げ/超磨き:高純度セリウムオキシドナノ粒子は,表面の粗さが非常に低いことを達成するために使用されます.
化学機械磨き (CMP):セリウムオキシドは,サファイアのためのCMPスラーリに使用されるいくつかの重要な磨材の1つです.単純な機械的な磨きが達成できる以上の表面を滑らかにする共働化学反応を容易にする.
コンポジットブレンド:製造者はしばしばセリウム酸化物をアルミニウムなどの硬い鉱物と混ぜて,高い材料除去と鏡のような仕上げとの間のギャップを埋めます.
技術データ
| 分子式 | CAS番号 | CeO2 % | D50 (μm) | 外見 | 適用する |
| CeO2 | 1306-38-3 | 73~78% | 1.5±02 | 粉末 | 光学 |
粒子の大きさの分布
Q&A
1セリウムオキシドの磨き粉とは?
セリウム酸化物磨き粉は,光学部品,半導体ウェーファー,ガラスやレンズなどの他の繊細な表面を磨くために広く使用される高純度化合物です.細い粒子 と 優れた 化学 特性 を 備える 材料 に よっ て,磨き られ て いる 表面 に 損傷 を 及ぼさ ず に 高い 透明 性 と 滑らかさ を 得る の に 理想 的 に なり ます.
2適切なセリウムオキシドの磨き粉を どのようにして選べますか?
適正 な 磨き粉 を 選べる の は,磨く 材料 と 望ま れ て いる 仕上げ に 依存 し て い ます.粒子 の 大きさ,純度,そして,あなたの磨きプロセスの特定の要求は,あなたの選択を導くべきです販売チームは,あなたのニーズに最適な製品を選択するのにあなたを助けることができます.
3セリウムオキシドの磨き粉をどのように保管すべきですか?
セリウム オキシド の 磨き粉 は,直接 の 日光 や 湿度 から 遠ざかっ て,涼しく 乾燥 し た 場所 に 保管 し,汚染 を 防止 する ため,密閉 し た 防空 容器 に 保管 し て ください.適切な保管は,製品が時間とともに品質と有効性を維持することを保証します正しく保管された場合,セリウム酸化物磨き粉は通常1〜2年の保存期間があります.
4セリウムオキシドの製剤を 提供していますか?
ええ,我々は特定の性能要件を満たす パーソナライズドセリウムオキシド磨き粉末とスラージーを提供します.またはスローリングの一貫性あなたのニーズに最も適した配合を作ることができます.
5大量注文する前にサンプルを貰えますか?
はい,我々は評価のために我々のセリウムオキシド磨き粉とスラージーのサンプルを提供します. サンプルを依頼するために私達に連絡してください,そして私たちのチームは出荷を整理します.
6. どうやって注文できますか?セリウム酸化物製品の典型的な配達時間は?
販売チームに連絡して注文することができます. プロセスを通して案内し,製品選択に助け,お客様のニーズに基づいて価格を提示します.注文が確認されたら 納品予定を 提供します配送時間は注文のサイズや場所, 商品の在庫量によって異なります
製品 ハイライト
サファイア基板のための磨き粉 記述 セリウム酸化物は,主にガラスや柔らかい結晶を磨くための"ゴールドスタンダード"として知られています.砂利の極端な硬さ (モーススケールで9) により,砂利の主要な磨材として単独で使用されることはめったにありません.精密サファイア光学における特定の最終加工段階に使用される. セリウム オキシド が ザファイア 磨き に 与える 役割 最終仕上げ/超磨き:高純度セリウムオキシドナノ粒子は,表面の粗さが非常に低いことを達成するために使用されます. 化学機械磨き (CMP):セリウムオキシドは,サファイアのためのCMPスラーリに使用されるいくつかの重要な磨材の1つで...
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