タッチスクリーン ガラス 希少土の磨きスラーリ セリウムオキシド CMP カスタマイズ
製品詳細
| 粒子サイズ: | 0.6～0.8μm | CAS番号: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO₂%: | 63~68% | 停止率: | 高い |
| Ph 範囲: | 7-10 | 配合: | カスタマイズされた |
| ハイライト |
カスタマイズされた稀土磨きスラー,セリウムオキシド 希少土の磨きスラム,セリウムcmpスロー |
||
製品の説明
タッチスクリーンガラスの磨き用の磨きスラム
記述
完璧で超透明な仕上げを 提供します 現代のモバイルとインタラクティブなディスプレイが 要求するものです精密なセリウムオキシードと高度な化学添加物を組み合わせて 表面の粗さをナノメートル未満で 特殊な光学透明性を達成します.
主要なパフォーマンスメリット
化学強化ガラスに最適化:微細骨折を誘発せず,薄いディスプレイガラスの構造的整合性を損なうことなく,硬化した表面を効果的に磨くために策定されています.
ナノメートルの平面化: 私たちのスラリー技術は,微小な表面不規則性を除去するために,シネージス的な化学機械的作用を利用し,表面粗さ (Ra) を0まで低くします.鏡状の仕上げのために11nm.
優れた欠陥制御: 厳格に制御された粒子のサイズ分布は,大きな粒子を排除し,パネルの拒絶につながる傷や穴を防ぐことを保証します.
浸湿性と洗浄性が向上: 先進的な表面活性剤は,スラムの分散と表面の浸湿を改善します.磨き中により均質な液体フィルムを確保し,処理後の清掃時間を短縮する.
高度な貯蔵品除去効率:最適化化学により,標準のセリアスラーリと比較して材料除去率 (MRR) が最大7倍まで加速し,生産量が大幅に増加します.
技術データ
| 分子式 | CAS番号 | CeO2 % | D50 (μm) | 外見 | 適用する |
| CeO2 | 1306-38-3 | 63~68 | 0.6-08 | 白いスラム | ディスプレイ |
粒子の大きさの分布
Q&A
1セリウムオキシドの磨き粉とは?
答え:
セリウム酸化物磨き粉は,光学部品,半導体ウェーファー,ガラスやレンズなどの他の繊細な表面を磨くために広く使用される高純度化合物です.細い粒子 と 優れた 化学 特性 を 備える 材料 に よっ て,磨き られ て いる 表面 に 損傷 を 及ぼさ ず に 高い 透明 性 と 滑らかさ を 得る の に 理想 的 に なり ます.
2適切なセリウムオキシドの磨き粉を どのようにして選べますか?
答え:
適正 な 磨き粉 を 選べる の は,磨く 材料 と 望ま れ て いる 仕上げ に 依存 し て い ます.粒子 の 大きさ,純度,そして,あなたの磨きプロセスの特定の要求は,あなたの選択を導くべきです販売チームは,あなたのニーズに最適な製品を選択するのにあなたを助けることができます.
3セリウムオキシドの磨き粉をどのように保管すべきですか?
セリウム オキシド の 磨き粉 は,直接 の 日光 や 湿度 から 遠ざかっ て,涼しく 乾燥 し た 場所 に 保管 し,汚染 を 防止 する ため,密閉 し た 防空 容器 に 保管 し て ください.適切な保管は,製品が時間とともに品質と有効性を維持することを保証します正しく保管された場合,セリウム酸化物磨き粉は通常1〜2年の保存期間があります.
4セリウムオキシドの製剤を 提供していますか?
ええ,我々は特定の性能要件を満たす パーソナライズドセリウムオキシド磨き粉末とスラージーを提供します.またはスローリングの一貫性あなたのニーズに最も適した配合を作ることができます.
5大量注文する前にサンプルを貰えますか?
はい,我々は評価のために我々のセリウムオキシド磨き粉とスラージーのサンプルを提供します. サンプルを依頼するために私達に連絡してください,そして私たちのチームは出荷を整理します.
6. どうやって注文できますか?セリウム酸化物製品の典型的な配達時間は?
販売チームに連絡して注文することができます. プロセスを通して案内し,製品選択に助け,お客様のニーズに基づいて価格を提示します. 注文が確認されたら,推定配送スケジュールを提供します.配送時間は,注文のサイズ,場所,および商品が在庫かどうかによって異なります.
製品 ハイライト
タッチスクリーンガラスの磨き用の磨きスラム記述完璧で超透明な仕上げを 提供します 現代のモバイルとインタラクティブなディスプレイが 要求するものです精密なセリウムオキシードと高度な化学添加物を組み合わせて 表面の粗さをナノメートル未満で 特殊な光学透明性を達成します.主要なパフォーマンスメリット化学強化ガラスに最適化:微細骨折を誘発せず,薄いディスプレイガラスの構造的整合性を損なうことなく,硬化した表面を効果的に磨くために策定されています.ナノメートルの平面化: 私たちのスラリー技術は,微小な表面不規則性を除去するために,シネージス的な化学機械的作用を利用し,表面粗さ (Ra) を0まで低くし...
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