Cerium ベースの稀土の磨き粉末材料 平面ガラスの加工用 Cas 1306 38 3
製品詳細
| 粒子サイズ: | 3.5±0.2μm | CAS番号: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO₂: | 63~68% | 停止率: | 高い |
| Ph 範囲: | 7-10 | 応用: | 板ガラス加工 |
| ハイライト |
セリウム稀土磨き粉,セリウムベースの稀土磨き粉,cas 1306 38 3 |
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製品の説明
平面ガラスの加工のための磨き材料
記述について
平面ガラスの加工のためのリヘンセリウムベースの磨き材料は,平面ガラスの業界の厳しい要求を満たすために設計された特別に策定された磨材です.建築ガラスの場合でも,高純度セリウムオキシド材料は 優れた磨き効果を表面の荒さが低く,欠陥が最小限である高品質の仕上げを保証する.
表面の滑らかさ,透明性,そして一貫性が不可欠である.リッセン製の磨き材料は,高輝度グラス表面の視覚的および機能的質を向上させる.
主要 な 特徴 と 利点
高純度セリウム酸化物
私たちのセリウムオキシド磨き材は 低不純度で作られ 一貫した性能を保証し 汚染を防ぎます
最適化された粒子の大きさ
細かく 均質な粒子は 滑らかで 均質な磨きを保証し 大きなガラスパネルでも 傷や欠陥を最小限に抑えます
上層面の仕上げ
高品質の視覚的な仕上げのために不可欠です 建築,自動車,電子ガラス.
効率 的 な 物質 除去
表面の整合性を損なうことなく処理効率を向上させる.
安定したパフォーマンス
異なるフラットグラス基板で 信頼性と一貫性のある結果を 提供し,大量の自動化ガラス加工に最適です
技術データ
| 分子式 | CAS番号 | CeO2 % | D50 (μm) | 外見 | 適用する |
| CeO2 | 1306-38-3 | 63~68% | 3.5±0.2μm | 白い粉末 | 平面ガラス加工 |
粒子の大きさの分布について
Q&A
1稀土の磨き粉とは?
光学部品や半導体ウェーファーや ガラスやレンズなどの繊細な表面を 磨くのに使用される 高純度化合物です高透明度で材料を損傷することなく仕上げ.
2稀土の磨き粉を どう選べますか?
理想的な磨き粉を選ぶには,磨いている材料,必要な仕上げ,粒子の大きさや純度などの要素を考慮してください.あなたのニーズに最適な製品を選択するのに役立ちます..
3稀土の磨き粉を どうやって保管すればいいですか?
温かい乾燥した場所に保管し,湿度や日光から遠ざけます. 汚染を防止し有効性を維持するために,粉末を気密容器に保管します.通常は1〜2年続きます.
4稀土の製剤を 提供していますか?
はい,私たちは,あなたの特定のニーズを満たすために,細粒子のサイズ,化学的組成,またはスラムの一貫性調整を含む,カスタム稀土の磨き粉やスラムを提供しています.
5大量注文する前にサンプルを貰えますか?
絶対! 評価のためにサンプルを用意します. サンプルを依頼するためにチームに連絡してください. そして私たちは出荷を整理します.
6どうすれば注文できますか? 典型的な配達時間は?
注文をするには,単に販売チームと連絡してください. 彼らはプロセスを通してあなたを案内し,オートを提供します. 配達時間は,注文のサイズ,場所,および在庫の可用性によって異なります.オーダーが確認されたら 予定表を教えます.
製品 ハイライト
平面ガラスの加工のための磨き材料 記述について 平面ガラスの加工のためのリヘンセリウムベースの磨き材料は,平面ガラスの業界の厳しい要求を満たすために設計された特別に策定された磨材です.建築ガラスの場合でも,高純度セリウムオキシド材料は 優れた磨き効果を表面の荒さが低く,欠陥が最小限である高品質の仕上げを保証する. 表面の滑らかさ,透明性,そして一貫性が不可欠である.リッセン製の磨き材料は,高輝度グラス表面の視覚的および機能的質を向上させる. 主要 な 特徴 と 利点 高純度セリウム酸化物 私たちのセリウムオキシド磨き材は 低不純度で作られ 一貫した性能を保証し 汚染を防ぎます 最適化された粒子...
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