ガラス稀土化合物 砂泥 セリウム酸化物 宝石の磨き用
製品詳細
| 粒子サイズ: | 4.0±0.2μm | CAS番号: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO₂: | 63~68% | 停止率: | 高い |
| Ph 範囲: | 7-10 | 応用: | ディスプレイガラスの製造 |
| ハイライト |
ガラスの稀土化合物,宝石 稀土化合物,宝石を磨くセリウム酸化物 |
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製品の説明
ディスプレイガラス生産における欠陥除去のためのスラム
記述について
ディスプレイガラス製造における欠陥除去のためのリッヘンセリウムオキシッドスラーリーは高純度で,水性ポリシングスライス,特にディスプレイガラス製造における欠陥の効率的な除去のために設計された最適化されたセリウム酸化物粒子で作られ,このスローリーは優れた磨き性能を提供し,滑らかで均一な表面を保証し,傷,穴,霧などの欠陥を最小限に抑えます.
フラットパネルディスプレイ,タッチスクリーン,光学ガラスの製造に最適このスローリーは,すべてのガラスの基板がディスプレイ技術の適用に必要な厳格な品質基準を満たしていることを保証します.スマートフォン,タブレット,または大きなテレビパネルを磨いているにせよ 私たちのスローリーは 欠陥のないガラス表面のための信頼できるソリューションを提供します.
主要 な 特徴 と 利点
高純度セリウム酸化物
私たちのセリウムオキシドスローリーは 低金属不純度で作られ 汚染を防止し 高品質で一貫した磨きプロセスを保証します
最適化された粒子の大きさと分布
このスローには,表面に追加的な損傷や荒さを増やすことなく,効果的な欠陥除去を可能にする,細かく均質な磨材が含まれています.
優良 な 欠陥 除去
表面上の微小な傷や穴や霧などの欠陥を効果的に除去し,ディスプレイガラス基板の透明性と質を向上させます.
柔らかい 磨き方
磨き効果のないように設計され,同時に迅速で制御された欠陥除去を実現し,繊細なディスプレイ表面の整合性を保ちます.
一貫した業績
信頼性の高いバッチ対バッチ一貫性は,大規模ディスプレイガラス生産プロセスが効率的で予測可能であることを保証します.
技術データ
| 分子式 | CAS番号 | CeO2 % | D50 (μm) | 外見 | 適用する |
| CeO2 | 1306-38-3 | 63~68% | 3.5±0.2μm | 白い粉末 | 展示ガラス生産 |
粒子の大きさの分布について
Q&A
1稀土の磨き粉とは?
光学部品や半導体ウェーファーや ガラスやレンズなどの繊細な表面を 磨くのに使用される 高純度化合物です高透明度で材料を損傷することなく仕上げ.
2稀土の磨き粉を どう選べますか?
理想的な磨き粉を選ぶには,磨いている材料,必要な仕上げ,粒子の大きさや純度などの要素を考慮してください.あなたのニーズに最適な製品を選択するのに役立ちます..
3稀土の磨き粉を どうやって保管すればいいですか?
温かい乾燥した場所に保管し,湿度や日光から遠ざけます. 汚染を防止し有効性を維持するために,粉末を気密容器に保管します.通常は1〜2年続きます.
4稀土の製剤を 提供していますか?
はい,私たちは,あなたの特定のニーズを満たすために,細粒子のサイズ,化学的組成,またはスラムの一貫性調整を含む,カスタム稀土の磨き粉やスラムを提供しています.
5大量注文する前にサンプルを貰えますか?
絶対! 評価のためにサンプルを用意します. サンプルを依頼するためにチームに連絡してください. そして私たちは出荷を整理します.
6どうすれば注文できますか? 典型的な配達時間は?
注文をするには,単に販売チームと連絡してください. 彼らはプロセスを通してあなたを案内し,オートを提供します. 配達時間は,注文のサイズ,場所,および在庫の可用性によって異なります.オーダーが確認されたら 予定表を教えます.
製品 ハイライト
ディスプレイガラス生産における欠陥除去のためのスラム 記述について ディスプレイガラス製造における欠陥除去のためのリッヘンセリウムオキシッドスラーリーは高純度で,水性ポリシングスライス,特にディスプレイガラス製造における欠陥の効率的な除去のために設計された最適化されたセリウム酸化物粒子で作られ,このスローリーは優れた磨き性能を提供し,滑らかで均一な表面を保証し,傷,穴,霧などの欠陥を最小限に抑えます. フラットパネルディスプレイ,タッチスクリーン,光学ガラスの製造に最適このスローリーは,すべてのガラスの基板がディスプレイ技術の適用に必要な厳格な品質基準を満たしていることを保証します.スマートフ...
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