렌즈 알루미늄 알루미나 폴리싱 슬러리 3.0um PSD 제어
제품 상세정보
| D50/음: | 2.0-3.0 | pH: | 3-4 |
|---|---|---|---|
| 솔리드 Content%: | 20-25 | 애플리케이션: | 렌즈 표면 처리 장비 |
| 강조하다 |
렌즈 알루미나 닦기 매개,PSD 제어 알루미나 닦기 매일,렌즈 알루미늄 매일 |
||
제품 설명
좁은 입자 크기 분포 알루미나 렌즈 표면 장비
개요:
리첸 좁은 입자 크기 분포 렌즈 표면 장비를 위한 알루미나는 정밀한,현대 렌즈 표면 및 닦기 시스템에서 균일한 재료 제거단단한 입자 크기 조절으로 제조 된 이 알루미나는 안정적인 닦기 동작, 표면 변동성을 줄이고,그리고 자동화 된 고속 렌즈 표면 장비에서 일관된 결과.
첨단 안과 및 광학 렌즈 표면화 기계와 호환성을 위해 설계된 이 제품은 신뢰할 수 있는 표면 생성, 결함율 감소 및 전반적인 프로세스 통제를 지원합니다.
주요 특징 및 장점
좁은 입자 크기 분포
정확하게 분류 된 알루미나 입자는 표면 불규칙성과 두께 변이를 최소화하여 균일한 절단 작용을 제공합니다.
일관성 있는 닦기 성능
엄격한 PSD 통제는 렌즈와 생산 팩트에서 반복 가능한 결과를 보장합니다.
표면 결함 감소
미세한 긁힘, 줄무늬 및 렌즈 표면화 과정에서 표면 비일관성을 최소화합니다.
고순도 알루미늄 산화물
낮은 불순물 함량은 닦기 안정성을 향상시키고 민감한 렌즈 재료를 보호합니다.
장비 친화적 인 구식
고속 자동 렌즈 표면 닦기 장비에서 안정적으로 작동하도록 설계되었습니다.
기술 데이터
| 분자 공식 | CAS 번호 | PH | D50 (μm) | 외모 | 적용 |
| AL3O2 | 1344-28-1 | 3~4 | 20.0~3.0μm | 백색 매물 | 렌즈 표면 검사 장비 |
입자 크기 분포
질문 및 답변
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제품 하이라이트
좁은 입자 크기 분포 알루미나 렌즈 표면 장비 개요: 리첸 좁은 입자 크기 분포 렌즈 표면 장비를 위한 알루미나는 정밀한,현대 렌즈 표면 및 닦기 시스템에서 균일한 재료 제거단단한 입자 크기 조절으로 제조 된 이 알루미나는 안정적인 닦기 동작, 표면 변동성을 줄이고,그리고 자동화 된 고속 렌즈 표면 장비에서 일관된 결과. 첨단 안과 및 광학 렌즈 표면화 기계와 호환성을 위해 설계된 이 제품은 신뢰할 수 있는 표면 생성, 결함율 감소 및 전반적인 프로세스 통제를 지원합니다. 주요 특징 및 장점 좁은 입자 크기 분포 정확하게 분류 된 ...
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