고급 광학 제조용 산화세륨 연마 분말 | 고정밀 광학 연마 재료
제품 상세정보
| 청정: | ≥ 99.9% | 입자 크기(D50): | 0.3~1.5μm |
|---|---|---|---|
| 입자 분포: | 좁은 PSD | 제거 속도: | 높음 및 제어 가능 |
| 표면 마감: | 나노미터 수준의 거칠기 | 분산 성능: | 훌륭한 |
| 강조하다 |
세륨 산화물 광학 연마 분말,고정밀 희토류 연마 재료,광학 제조용 산화세륨 분말 |
||
제품 설명
첨단 광학 제조를 위한 세리움 산화물 닦기 분말
설명에
첨단 광학 제조를 위해 고성능의 세리움 산화질소 닦는 분말입니다.정밀 광학적 부품에 대한 우수한 닦기 효율성.
주요 특징 및 장점
초정밀 광학 표면 가공
고급 광학 응용 프로그램에 필요한 매우 낮은 표면 거칠성을 달성합니다.
화학-기계 닦기 메커니즘
화학 반응과 기계적 작용을 결합하여 미세한 긁힘을 최소화하면서 결함을 제거합니다.
높은 광적 투명성
뛰어난 표면 맑음을 만들어 빛의 전달과 광학 성능을 향상시킵니다.
입자 크기 분포의정
전형적 사용법
첨단 광학 제조
- 정밀 광학 렌즈
- 레이저 광학
- 영상 광학
- 광학 부품
광학 유리 및 결정 재료
- BK7 광 유리
- 합성 실리카
- 쿼츠 유리
- 사파이어 기판
첨단 광학 세라믹
- 산업용 용도
- 고급 카메라 렌즈
- AR/VR 광 부품
- 반도체 광 부품
- 디스플레이 및 광학 장치
제품 하이라이트
첨단 광학 제조를 위한 세리움 산화물 닦기 분말 설명에 첨단 광학 제조를 위해 고성능의 세리움 산화질소 닦는 분말입니다.정밀 광학적 부품에 대한 우수한 닦기 효율성. 주요 특징 및 장점 초정밀 광학 표면 가공 고급 광학 응용 프로그램에 필요한 매우 낮은 표면 거칠성을 달성합니다. 화학-기계 닦기 메커니즘 화학 반응과 기계적 작용을 결합하여 미세한 긁힘을 최소화하면서 결함을 제거합니다. 높은 광적 투명성 뛰어난 표면 맑음을 만들어 빛의 전달과 광학 성능을 향상시킵니다. 입자 크기 분포의정 전형적 사용법 첨단 광학 제조 정밀 광학 렌즈 ...
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