광학 유리, 포토닉스 및 레이저 광학용 고성능 산화세륨 연마 분말
제품 상세정보
| 화학 성분: | 산화세륨(CeO₂) | 입자 크기(D50): | 0.5~2.0μm |
|---|---|---|---|
| 입자 분포: | 좁은 PSD | 제거 속도: | 높음 및 제어 가능 |
| 표면 마감: | 나노미터 수준의 거칠기 | 분산 성능: | 훌륭한 |
| 강조하다 |
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제품 설명
광학 유리, 광학 및 레이저 광학용 고성능 세리움 산화물 닦기 분말
제품 개요
세리움 산화물 광학 닦기 파우더는 고급 광학 제조에서 초정밀 완성도를 위해 설계된 고급 희토류 닦기 재료입니다.물질은 균형 잡힌 화학-기계 메커니즘을 통해 제어 된 닦기 작용을 수행하도록 설계되었습니다., 광학 정확성을 유지하면서 효율적인 표면 정화를 가능하게합니다.
세리움 산화물은 실리카 기반 물질과 강한 화학적 친밀감을 나타내며 현미경 표면 결함을 선택적으로 제거하고 손상층을 닦을 수 있습니다.이 독특한 상호 작용은 최소한의 스크래치 형성을 가진 예외적으로 부드러운 표면을 생성, 고부가가치 광학적 구성 요소를 위한 선호되는 닦기 재료로 만들어집니다.
이 제품은 현대 광학, 광학 및 레이저 산업에서 요구되는 대량 생산 및 정밀 마무리 프로세스 모두에 최적화되었습니다.
주요 특징 및 장점
첨단 광학 제조용으로 설계된
정밀 광학 집합과 고성능 광학 시스템에 필요한 높은 표면 정확도를 제공합니다.
우수한 표면 부드러움
초저한 거칠성과 높은 전송 광학에 필수적인 우수한 표면 균일성을 달성합니다.
높은 닦기 효율성
빠른 동시에 제어 된 재료 제거를 제공하여 생산 처리량을 향상시킵니다.
낮은 결함 및 스크래치 비율
공학적인 입자 형태는 닦기 때문에 발생하는 결함과 표면 손상을 최소화합니다.
프로세스 안정성
큰 생산 대량에 걸쳐 일관된 닦는 행동을 유지합니다.
입자 크기 분포의정
제조 및 품질 보장
- 첨단 희토류 처리 기술을 사용하여 생산:
- 고순도 세리움 정제
- 제어된 입자 형태 설계
- 정밀 분류 기술
- 엄격한 롯데 품질 관리
왜 우리의 광학 세리움 산화물 닦는 분말을 선택합니까?
- 희토류 가루 가루 전문 기술
- 정밀 광학 제조에서 입증 된 성능
- 맞춤형 롤링 솔루션
- 안정적인 전 세계 공급 능력
- 기술 응용 지원
제품 하이라이트
광학 유리, 광학 및 레이저 광학용 고성능 세리움 산화물 닦기 분말 제품 개요 세리움 산화물 광학 닦기 파우더는 고급 광학 제조에서 초정밀 완성도를 위해 설계된 고급 희토류 닦기 재료입니다.물질은 균형 잡힌 화학-기계 메커니즘을 통해 제어 된 닦기 작용을 수행하도록 설계되었습니다., 광학 정확성을 유지하면서 효율적인 표면 정화를 가능하게합니다. 세리움 산화물은 실리카 기반 물질과 강한 화학적 친밀감을 나타내며 현미경 표면 결함을 선택적으로 제거하고 손상층을 닦을 수 있습니다.이 독특한 상호 작용은 최소한의 스크래치 형성을 가진 예외...
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