고급 스프레이 코팅용 기능성 나노 산화세륨 첨가제

브랜드 이름: LICHEN

모델 번호: LC

원산지: 중국

인증: ISO

최소 주문 수량: 20KGS

가격: Contact us

공급 능력: 3800MT/년

태그

제품 개요

나노 세리움 산화물 (CeO2) 는 고성능 코팅 용도로 개발 된 다기능 비 유기 나노 물질입니다. 독특한 나노 구조, 산소 빈자 특성으로 인해그리고 뛰어난 화학적 안정성, 그것은 부식 보호, 자외선 보호, 산화 저항, 마모 저항 및 강화 된 코팅 내구성 등 여러 가지 기능적 이점을 제공합니다.

그것은 대외 금속 구조, 엔지니어링 기계, 운송 장비, 플라스틱 제품, 건설 재료,그리고 다른 까다로운 산업용.

주요 특징

나노 규모 입자 기술
고순도 희토류 산화물
뛰어난 염화 억제력
우수한 자외선 보호
경직 저항성 향상
높은 화학적 안정성
코팅 포뮬레이션과 우수한 호환성
가혹한 야외 환경에서 안정적인 성능
다기능 코팅 개발에 적합합니다

입자 크기 분포의정

고급 스프레이 코팅용 기능성 나노 산화세륨 첨가제 0

신청서

기능성 스프레이 코팅
외관 금속 코팅
중공장용 코팅
건축물 코팅
플라스틱 표면 코팅
부식 저항성 코팅
산업용 유지보수 코팅
인프라 보호 코팅
고성능 복합 코팅
특수 목적의 기능성 코팅

자주 묻는 질문

Q1. 나노 세리움 산소가 제공하는 기능은 무엇입니까?

연식 저항성, 자외선 보호성, 기상 저항성, 산화 저항성 및 코팅 내구성을 향상시킵니다.

Q2. 기존 코팅 구식으로 분산 될 수 있습니까?

맞습니다. 최적의 성능을 위해 적절한 고속 혼합이나 초음파 분산이 좋습니다.

Q3. 권장 된 보관 조건 은 무엇 입니까?

나노 입자의 품질을 유지하기 위해 습기로부터 떨어져 시원하고 건조하고 밀폐된 환경에서 보관합니다.

Q4. 입자의 크기가 사용자 정의 될 수 있습니까?

네. 여러 나노 입자 크기와 표면 수정 옵션이 응용 요구 사항에 따라 제공됩니다.

Q5. 이 제품 을 통해 어떤 산업 이 이득 을 볼 수 있습니까?

건설, 해양공학, 자동차, 산업 제조, 인프라, 재생 에너지, 플라스틱 가공 및 보호 코팅 제조업체

제품 하이라이트

야외 기상 저항성 코팅용 나노 세리움 산화물 제품 개요 나노 세리움 산화물 (CeO2) 는 고성능 코팅 용도로 개발 된 다기능 비 유기 나노 물질입니다. 독특한 나노 구조, 산소 빈자 특성으로 인해그리고 뛰어난 화학적 안정성, 그것은 부식 보호, 자외선 보호, 산화 저항, 마모 저항 및 강화 된 코팅 내구성 등 여러 가지 기능적 이점을 제공합니다. 그것은 대외 금속 구조, 엔지니어링 기계, 운송 장비, 플라스틱 제품, 건설 재료,그리고 다른 까다로운 산업용. 주요 특징 나노 규모 입자 기술 고순도 희토류 산화물 뛰어난 염화 억제력 ...

문의 보내기

반도체 제조용 고순도 나노세리아 CMP 슬러리

반도체 제조용 고순도 나노 세리아 CMP 슬러리 제품 개요 우리의 고순도 Ceria CMP 슬러리는 요구되는 반도체 닦기 응용 프로그램을 지원하기 위해 프리미엄 세리움 산화 나노 입자를 사용하여 제조됩니다.주의 깊게 제어 된 입자 크기는 닦기 효율과 표면 품질 사이의 최적의 균형을 제공합니다.. 첨단 웨이퍼 제조를 위해 설계 된 매체는 신뢰할 수있는 닦기 성능, 우수한 분산 안정성 및 산업 생산에 대한 일관된 품질을 제공합니다. 주요 특징 고순도 나노 세리움 산화물 안정적인 분산 기술 우수한 닦기 일관성 낮은 결함 높은 대량 일관성 ...

나노 세리아 CMP 광학 유리 및 웨이퍼 닦기 용 슬러리

광학유리 및 웨이퍼 연마용 나노세리아 CMP 슬러리 | 세륨 산화물 연마 슬러리 제품개요 당사의 Nano Ceria CMP 슬러리는 우수한 표면 품질이 요구되는 광학 기판 및 특수 웨이퍼의 정밀 연마를 위해 설계되었습니다. 산화세륨 나노입자를 활용한 슬러리는 화학적 활성과 기계적 연마를 결합하여 탁월한 평탄도, 투명성 및 낮은 표면 거칠기를 달성합니다. 안정적인 연마 성능을 위해 최적화된 배합으로 결함 및 스크래치를 최소화합니다. 주요 특징 나노크기의 산화세륨 연마재 균일한 입자 크기 분포 우수한 내스크래치성 높은 연마 정밀도 안정...

세리아 CMP 실리콘 웨이퍼 닦기 용 슬러리

실리콘 웨이퍼 연마용 Ceria CMP 슬러리 | 나노 세륨 산화물 화학 기계 연마 슬러리 제품개요 Ceria 기반 CMP 슬러리는 고순도 나노세륨 산화물 입자로 구성된 고성능 화학기계연마(CMP) 슬러리입니다. 반도체 제조용으로 설계된 이 제품은 우수한 재료 제거 성능을 제공하는 동시에 탁월한 표면 품질과 연마 균일성을 제공합니다. 슬러리는 안정적인 분산, 제어된 입자 크기 분포 및 낮은 스크래치 발생을 제공하므로 정밀 웨이퍼 평탄화 및 마무리 공정에 적합합니다. 주요 특징 고순도 산화세륨 연마재 나노 입자 크기 우수한 연마 효율...