0086--18686161039
Спросите сейчас
наши продукты
Качество Абразивная суспензия на основе оксида алюминия для автоматических полировальных станков для линз | Высокоэффективная суспензия на основе оксида алюминия для производства оптических линз Фабрика

Абразивная суспензия на основе оксида алюминия для автоматических полировальных станков для линз | Высокоэффективная суспензия на основе оксида алюминия для производства оптических линз
Качество Оксид алюминия для полировки. Высокочистое алюминиевое полирование для точного оптики, металлов и полупроводников. Фабрика

Оксид алюминия для полировки. Высокочистое алюминиевое полирование для точного оптики, металлов и полупроводников.
Качество Конкурентоспособная цена для промышленного класса редкоземельного соединения оксида церия CeO2 порошок для полировки стекла Фабрика

Конкурентоспособная цена для промышленного класса редкоземельного соединения оксида церия CeO2 порошок для полировки стекла
Качество Промышленное соединение редкоземельных элементов Оксид церия Ceo2 Порошок для полировки стекла Фабрика

Промышленное соединение редкоземельных элементов Оксид церия Ceo2 Порошок для полировки стекла
Качество Высококачественный промышленный соединение редкоземельных элементов Оксид церия Ceo2 Порошок для полировки стекла Фабрика

Высококачественный промышленный соединение редкоземельных элементов Оксид церия Ceo2 Порошок для полировки стекла
Качество Порошок для теплового распыления из итрия (Y2O3) для защиты плазменной эфирной камеры Фабрика

Порошок для теплового распыления из итрия (Y2O3) для защиты плазменной эфирной камеры
Качество Высокочистый оксид иттрия (Y₂O₃) для термо- и плазменного напыления в оборудовании для производства полупроводников Фабрика

Высокочистый оксид иттрия (Y₂O₃) для термо- и плазменного напыления в оборудовании для производства полупроводников
Качество Распыляемое покрытие из оксида иттрия для полупроводникового оборудования | Высокочистый плазмостойкий материал покрытия Y₂O₃ Фабрика

Распыляемое покрытие из оксида иттрия для полупроводникового оборудования | Высокочистый плазмостойкий материал покрытия Y₂O₃
Качество Высокочистая суспензия для CMP с наночастицами оксида церия (размер частиц 200 нм), разработанная для полупроводниковой промышленности Фабрика

Высокочистая суспензия для CMP с наночастицами оксида церия (размер частиц 200 нм), разработанная для полупроводниковой промышленности
7 8 9 10 11